「pattern-formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of a magnetic recording medium which enables formation of a mask having a high aspect ratio and formation of a fine pattern by dry etching of a magnetic recording layer.例文帳に追加

アスペクト比の高いマスクの形成を可能にし、磁気記録層のドライエッチングにて微細なパターンの形成を可能にする磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method reducing the formation failure of patterns consisting of drops by improving the drying efficiecy of the drops, to provide a drop jetting device and to provide a circuit module.例文帳に追加

液滴の乾燥効率を向上させて、液滴からなるパターンの形成不良を低減させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び回路モジュールを提供する。 - 特許庁

A particle kind setting part 60 sets a printing particle for dot formation and an empty particle for blank formation based on the printing pattern designation by an operation part 7.例文帳に追加

粒種設定部60は、操作部７による印写パターンの指定に基づいて、ドット形成のための印写粒と空白形成のための空白粒とを設定する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which enhances the drying efficiency of drops and reduces the formation failure of patterns consisting of drops, to provide a drop jetting device and to provide a circuit module.例文帳に追加

液滴の乾燥効率を向上させて、液滴からなるパターンの形成不良を低減させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び回路モジュールを提供する。 - 特許庁

The emissivity εb of a far-infrared ray of a formation material of the chart board 12, and the emissivity εa of a far-infrared ray of a formation material of the linear pattern 15a are different.例文帳に追加

チャート板１２の形成材料の遠赤外線の放射率εｂと、線状パターン１５ａの形成材料の遠赤外線の放射率εａとは異なる。 - 特許庁

To provide a method for uniforming the amount of exposure regardless of the size of pattern width, forming a pattern having at least two kinds of different pattern widths by one exposure, and precisely and efficiently forming a minute pattern in a pattern formation method utilizing near field light.例文帳に追加

近接場光を利用するパターン形成方法において、露光量がパターン幅の大きさに関係なく均一化され、一回の露光で２種以上の異なるパターン幅を有するパターンを形成することができ、微細なパターンを精度良くかつ効率良く形成できる方法を提供する。 - 特許庁

Further, the conductor pattern layer is a conductive composition layer formed of conductive particles and a resin via a primer layer, it being preferred that the primer layer is thicker at a formation part of the conductor pattern layer than at a non-formation part and the conductive particles are dense nearby the top of a projection as the formation part of the conductor pattern layer and coarse nearby the primer layer.例文帳に追加

更に、導電体パターン層がプライマ層を介して形成した、導電性粒子と樹脂の導電性組成物層で、プライマ層の厚さが導電体パターン層の形成部が非形成部より厚く、且つ導電体パターン層の形成部である凸部の内で導電性粒子が頂上部近傍で密でプライマ層近傍で疎であるのが好ましい。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition which is excellent in pattern formation, adhesiveness after pattern formation, heat resistance after adhesion and moisture resistance reliability, to provide an adhesive sheet, an adhesive pattern, a semiconductor wafer with adhesive layer, and a semiconductor device which use the photosensitive adhesive composition and to provide a manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

パターン形成性、パターン形成後の接着性、接着後の耐熱性及び耐湿信頼性に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation device capable of simplifying a device configuration, of reducing the number of processes for pattern formation, and of rapidly and inexpensively forming a high-positional-accuracy and high-definition pattern comparable to that of a photolithographic technique; and a manufacturing method of a masking plate.例文帳に追加

この発明は、装置構成を簡略化でき、パターン形成の工程数を少なくでき、フォトリソグラフィー技術と同程度の高い位置精度で高精細なパターンを短時間で安価に形成できるパターン形成装置、およびマスキング版の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a dimension measuring pattern, a formation method therefor and a dimension measuring method by which, when the dimension measuring pattern wherein the same formation patterns are periodically arranged is measured by using a charged particle beam, a designated specific pattern can be measured without fail.例文帳に追加

同一形状パターンが周期的に配列された寸法測定パターンを荷電粒子線を用いて測定する際に、指定された特定のパターンを確実に測定することができる、寸法測定パターン、当該寸法測定パターンの形成方法、および寸法測定パターンの測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a pattern forming method using the same having small line edge roughness even in the formation of a fine pattern, and having a wide defocus latitude even in various patterns such as a sparse or dense pattern, a line or trench pattern, and so forth.例文帳に追加

微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネスが小さく、疎又は密パターン、ライン又はトレンチパターンなど種々のパターンにおいてもデフォーカスラチチュードが広いポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To keep a large area of contact between a metal support substrate and a conductor pattern while keeping high a degree of freedom of design of the conductor pattern by preventing a conductor pattern formation area other than a semiconductor pattern coming into contact with the metal support substrate from being limited.例文帳に追加

金属支持基板と接触する導体パターン以外の導体パターン形成エリアが限られてしまうことを防止して導体パターンのデザイン自由度を高い状態で維持しつつ、金属支持基板と導体パターンの密着面積を大きく保つこと。 - 特許庁

To provide a metal pattern formation method by which a fine metal pattern can be formed using a polyimide base material having an excellent dimensional stability, a good adhesiveness between the base material and a metal pattern can be achieved, and a metal pattern with a high heat resistance can be formed.例文帳に追加

寸法安定性に優れたポリイミド基材を用いて微細な金属パターンの形成が可能であり、基材と金属パターンとの密着性に優れ、耐熱性が高い金属パターンを形成しうる金属パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Ultraviolet light 13 is applied to a wiring pattern formation of the processing target member 5 via light transmitters 10 of the photomask 7, so that the liquid repellent film 6 corresponding to the wiring pattern formation breaks down and a volatile component is generated.例文帳に追加

さらに、フォトマスク７の光透過部１０を介して、被処理部材５上の配線パターン形成部分に対して紫外線１３を照射することにより、配線パターン形成部分の撥液膜６が分解して揮発成分が発生する。 - 特許庁

When suspending and resuming the sewing of a pattern, firstly during the formation of seams by the control section, by suspending the formation of seams, sewing is stopped, and data of the pattern, sewing of which is suspended, are stored in a holder H1 in the flush memory.例文帳に追加

模様の縫製を休止・再開する際には、まず、制御部による模様の縫目の形成中に、縫目形成を途中停止して縫製を休止し、縫製休止した模様のデータをフラッシュメモリ内のホルダーＨ１に記憶する。 - 特許庁

To provide an apparatus for film formation of a patterned resist film and capable of forming a thin film pattern with a size from milli-meter order to a sub-milli-meter order at a necessary and sufficient precision, to provide a method for formation of a thin film pattern, and to provide an optical component by employing the apparatus and the method.例文帳に追加

ミリメートルからサブミリメートルの大きさの薄膜パターンを必要、十分な精度で形成させるためのパターン状レジスト膜を成膜させる装置、薄膜パターンの形成方法、それによる光学部品を提供すること。 - 特許庁

The photomask 1 for transferring a mask pattern on a substrate, by having a mask pattern forming region 4 irradiated with ultraviolet rays 10, is provided with an evaluation pattern 12 having recesses 15-17 forming the same kind of growth substance as the contamination growing by the ultraviolet rays in the mask pattern formation region 4, on at least any one face from among a mask pattern formation surface 8 and its backside 9.例文帳に追加

マスクパターン形成領域４に紫外線１０を照射して、当該マスクパターンを基板に転写するフォトマスク１において、マスクパターン形成面８及びその裏面９のうち、少なくともいずれか１つの面に、マスクパターン形成領域４で紫外線により成長する異物と同種の成長性物質が形成された窪み１５〜１７を有する評価パターン１２を設ける。 - 特許庁

To provide an exposure method, by which a pattern having satisfactory dimensional accuracy can be obtained through pattern formation with a charged particle beam, and to provide a method for producing a master disk of an optical disk.例文帳に追加

荷電粒子線によるパターン描画によって、寸法精度の良好なパターンを得ることができる露光方法及び光ディスク原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern that prevents poor resist pattern formation from being generated due to lack of hydrophobic property on a substrate surface during immersion lithography.例文帳に追加

液浸露光時における基板表面の疎水性不足に起因したレジストパターン形成不良の発生を抑制することができるレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition for forming a high-definition pattern of a low-cost electrode or the like having a low value of resistance; and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

低コストで、抵抗値が低く、高精細な電極等のパターンを形成することができる感光性ペースト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition which has superior resolution and line edge roughness and allows formation of a pattern free from pattern collapse.例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネスを有し、かつパターン倒れが発生しないパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a bank structure for forming a fine pattern in a thin line shape precisely and stably; and to provide a pattern formation method, an electro-optical device, and electronic equipment.例文帳に追加

細い線状の微細パターンを、精度よく安定して形成することができるバンク構造体、パターン形成方法、及び電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid droplet discharge device which can expand liquid droplet drying time without impairing the productivity of a pattern and thereby reduce a pattern formation failure, and to provide an identification code.例文帳に追加

パターンの生産性を損なうことなく、液滴の乾燥時間を拡大し、パターンの形成不良を低減させた液滴吐出装置及び識別コードを提供する。 - 特許庁

To provide a microstructure that can transfer an irregular pattern of a mold by curing a pattern formation layer by using a novel technique which has not been employed hitherto, and its manufacturing method.例文帳に追加

従来にない新規な手法によりパターン形成層を硬化させ、モールドの凹凸パターンを転写し得る微細構造体及びその製造方法を提案する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method, a chemical amplification type resist composition and a resist film for improving sensitivity, exposure latitude, mask error enhancement factor, and pattern shape, and for reducing line width variation.例文帳に追加

感度、露光ラチチュード、マスクエラーエンハンスメントファクター、パターン形状に優れ、線幅バラツキを低減できるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁

To provide a device and a method for forming a stable paste pattern at the time of paste pattern formation with regard to a coating device and a coating method.例文帳に追加

本発明は塗布装置及び塗布方法に関し、ペーストパターン形成時に安定したペーストパターンを形成する装置及び方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To realize a pattern data forming method by which processing is efficiently performed by considering a deadline, processing time and priority concerning the formation of a pattern data.例文帳に追加

パターンデータ作成の提出期限、処理時間および優先度を勘案して効率的に処理を行うことができるパターンデータ作成方法の実現を課題とする。 - 特許庁

Pattern position error which occurs in formation of the through hole of a pattern in the membrane 2 is reduced by controlling the length of the long side of the membrane 2 by the second auxiliary reinforcing part 5.例文帳に追加

第２の補助補強部５によりメンブレン２の長辺の長さを制御することにより、メンブレン２にパターンの貫通孔を形成した場合のパターン位置誤差が緩和される。 - 特許庁

In the pattern formation method according to the present embodiment, a pattern including first block phases and second block phases is formed by causing the self-organization of block copolymer on a processed film.例文帳に追加

実施形態のパターン形成方法では、被加工膜上でブロックコポリマーを自己組織化させて第１のブロック相および第２のブロック相を含むパターンを形成する。 - 特許庁

To provide an imprinting mold capable of preventing the pattern destruction of the imprinting mold and capable of imparting a uniform residual film in the formation of a pattern by the imprinting mold.例文帳に追加

インプリントモールドのパターン破壊を防ぎ、かつ、インプリント法によるパターン形成において均一な残膜を与えることが可能なインプリントモールドを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a curable silicone composition for negative pattern formation which takes part in crosslinking reaction upon hydrosilylation and cures, and a negative pattern forming method.例文帳に追加

本発明はヒドロシリレーションにより架橋反応して硬化するネガ型パターン形成用硬化性シリコーン組成物およびネガ型パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern printing method of an electronic component preventing discharge failure and enabling pattern formation of a minute thin film, and a method of manufacturing the electronic component.例文帳に追加

塗出不良が発生しにくく、微細で薄膜のパターン形成が可能な電子部品のパターン印刷方法および電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a ceramic green sheet with wiring pattern, with a thin formation having the formed wiring pattern with high accuracy, without producing a crack on the ceramic green sheet.例文帳に追加

セラミックグリーンシートにクラックが発生することなく、高精度に配線パターンが形成された薄型化が可能な配線パターン付きセラミックグリーンシートの製造方法を提供する。 - 特許庁

The pattern for chromaticity measurement and the pattern for haze value measurement are formed in parallel with formation of the display part on the region other than the display part of the transparent substrate.例文帳に追加

表示部以外の透明基板上に、表示部の形成と同時に色度測定用パターンを形成し、表示部の形成と同時にヘイズ値測定用パターンを形成すること。 - 特許庁

The pattern forming apparatus 101 performs pattern formation by applying ink to a substrate 113 from the head 151 of an ink jet head unit 103 disposed at a gantry 109.例文帳に追加

パターン形成装置１０１は、ガントリ１０９に設けられるインクジェットヘッドユニット１０３のヘッド１５１からインクを基板１１３に塗布しパターン形成を行う装置である。 - 特許庁

If the design image is not generated from the dot pattern image yet, magnification processing is performed upon a bit map image which becomes the base of the design image, and dot pattern formation processing is then executed.例文帳に追加

まだドットパターン画像で生成されていない場合は、地紋画像のベースとなるビットマップ画像に対して変倍処理を実行し、その後、ドットパターン形成処理を実行する。 - 特許庁

To provide an exposure device, an exposing method and a device manufacturing method suppressing deterioration of formation accuracy of a pattern formed on a substrate in exposing a pattern image on the substrate.例文帳に追加

基板にパターン像を露光する際に、基板に形成されるパターンの形成精度の悪化を抑制できる露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To mainly provide a charge application body which enables pattern formation of a fine structure and a fine pattern molding in a semiconductor surface in a simple process.例文帳に追加

本発明は、半導体表面に簡易なプロセスで、微細な構造のパターン形成が可能な電荷付与体、および微細なパターン形成体を提供することを主目的とする。 - 特許庁

The forming roll, which has good balance and does not generate defective formation, is constructed by variously changing the combination of the principal pattern body 20 and the end-part pattern forming bodies 22.例文帳に追加

本柄形成体２０と端部柄形成体２２との組み合わせを種々に変更することにより、バランスが良く、成形不良が生じない成形ロールを構成できる。 - 特許庁

To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.例文帳に追加

マルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a material pattern formation method by an ink-jet method for giving a rectangular material pattern with good control performance of fine line width.例文帳に追加

本発明の目的は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られるインクジェット方式による材料パターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

An image formation device is constituted, in which a conductive pattern 9 is independently wired at a flexible base 3a, and the projections of the writing electrodes 3b are formed by metal plating onto an electrode part of the conductive pattern 9.例文帳に追加

可撓性の基材３ａに独立に配線された導電パターン９の電極部上に、金属めっきにより書込電極３ｂの凸部が形成される。 - 特許庁

To prevent circuit malfunction such as short circuit caused by a satellite of liquid droplets, in a circuit pattern forming method for forming a circuit pattern by the formation of a liquid discharge head.例文帳に追加

液体吐出ヘッドの形成によって回路パターンを形成する回路パターン形成方法において、液滴のサテライトによるショート等の回路動作不良を防止する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, capable of suppressing development defects by using a defect removing agent in formation of a fine resist pattern by liquid immersion exposure or the like.例文帳に追加

液浸露光法等により微細なレジストパターンを形成する際に、欠陥除去剤を用いることによって、現像欠陥を抑制できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an auxiliary pattern forming method and automatic forming method capable of lessening the artificial error of auxiliary pattern formation and shortening production TAT of a photomask.例文帳に追加

補助パターン生成の人為的ミスを軽減し、フォトマスクの製造ＴＡＴを短縮することができる補助パターン生成方法および自動生成方法を提供する。 - 特許庁