「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

The halftone type phase shift mask is manufactured by patterning the amorphous dielectric film 102 and the metallic film 103.例文帳に追加

アモルファス誘電体膜１０２及び金属膜１０３をパターン化することにより、ハーフトーン型位相シフトマスクを製造する。 - 特許庁

To provide a technology, by which a single layer carbon nanotube excellent in adhesion with a substrate and patterning property can be obtained with a high yield.例文帳に追加

基板との密着性、パターニング特性に優れた単層カーボンナノチューブを高い収率で得る技術を提供する。 - 特許庁

To enhance the patterning accuracy in photolithography process at the time of fabricating a semiconductor device using a nitride semiconductor substrate.例文帳に追加

窒化物半導体基板を用いた半導体装置の製造においてフォトリソグラフィ工程でのパターン精度を向上させる。 - 特許庁

As shown in diagram (e), a patterning film 6 made of SiO2, for example, is formed on a seed film 5 which is outside a recessed part 3.例文帳に追加

図１(e) に示すように、凹部３外のシード膜５上に、たとえばＳｉＯ_2からなるパターニング膜６を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method that can realize highly accurate patterning even when the film is made of photosensitive resin or the like and is thick.例文帳に追加

非感光性樹脂等からなる厚膜であっても、高精度のパターニングが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, the tasks are solved, by adopting a wet etching method for the step of applying patterning to the crystal elements stated.例文帳に追加

また、上述する水晶素子にパターンニングする工程にはウェットエッチング工法を用いることにより課題を解決する。 - 特許庁

To provide a new patterned warp knitted fabric by carrying out patterning by knitting on a warp knitted fabric having bulkiness.例文帳に追加

嵩高性を保有させた経編地に編成による柄出しを行って、斬新な柄出しの経編地を提供すること。 - 特許庁

To prevent remaining of unetched parts and overetching, even when simultaneously patterning a high concentration region and a low concentration region.例文帳に追加

高密度領域と低密度領域とを同時にパターニングする場合であっても、エッチング残りやオーバーエッチングを防止する。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus with reduced overlay errors resulting from higher-order distortions of a patterning device.例文帳に追加

パターニングデバイスの高次歪みの結果として生じるオーバーレイエラーが低減されたリソグラフィ装置を提供することが望ましい。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for patterning a molding plate, capable of clearly forming a deeply engraving style uneven pattern.例文帳に追加

深彫り調の凹凸模様を鮮明に形成することができる成形板の模様付け方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a flexible printed circuit board in which an adhesion strength is firm without acting an adhesive and in which fine patterning is possible.例文帳に追加

接着剤を使用しないで密着強度の強固でファインパターン化が可能なフレキシブルプリント基板を提供する。 - 特許庁

This system comprises a device for patterning, a projection stem, a controller of the substrate position, and a part for compensating the inflation of a substrate position base.例文帳に追加

このシステムは、パターニング用デバイスと、投影系と、基板位置コントローラと、基板位置ベースの膨張補償部と、を備える。 - 特許庁

And since the warping of the resin substrate can be prevented, there is a benefit in performing the succeeding processes such as patterning of the metal film or the like.例文帳に追加

また、樹脂基板の反りが防止されるので、金属膜のパターニングなど後の工程を行う上でメリットがある。 - 特許庁

Further, additional processes and a novel poling setup for improving and implementing the patterning and fabrication method are also disclosed.例文帳に追加

更に、本パターン化−製造方法を改良し実施するための追加のプロセス及び新規なポーリングセットアップを開示する。 - 特許庁

To enhance a residual color rate after developing processing, and to restrain a shape from being changed caused by thermal sagging in accompaniment to heat treatment after patterning.例文帳に追加

現像処理後の残色率を高め、パターニング後の熱処理に伴なう熱ダレによる形状変化を抑制する。 - 特許庁

To provide a micro-patterning culture substrate which can micro-pattern cells using a simple method, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

簡便な方法で細胞のマイクロパターニングが可能なマイクロパターニング培養基板及びその作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for patterning an insulating layer, the insulating layer manufactured by the method and a display element comprising the insulating layer.例文帳に追加

絶縁層のパターニング方法、前記方法によって製造された絶縁層及びそれを含む表示素子を提供する。 - 特許庁

The SiGe layer is then allowed to contact and couple to an insulator on a second substrate for patterning and displacement.例文帳に追加

ＳｉＧｅ層は、その後、第２の基板上の絶縁体に接触結合することによってパターニングされ、転位される。 - 特許庁

A cooling means (4) is arranged inside the patterning roll (3) which is provided near the ejection port of the mold for extrusion molding.例文帳に追加

押出成形用金型の吐出口付近に設けられた模様付けロール（３）の内部に冷却手段（４）が配設される。 - 特許庁

The individual sensor units are manufactured through forming of thin films magnetized to angles different by 90° and patterning, and forming of insulating films.例文帳に追加

それぞれのセンサユニットは、９０°異なる角度に着磁した薄膜形成とパターニング、絶縁膜形成を経て作製する。 - 特許庁

In this way, comparatively thin substrates are handled in the subsequent patterning, electroplating, and other processes.例文帳に追加

このようにして、後続のパターン化プロセスおよび電気めっきプロセス等において、比較的薄い基材を操作することができる。 - 特許庁

Contact holes 103 to 106 are formed by executing patterning by exposure through a first translucent part 101 of a photo mask 100.例文帳に追加

フォトマスク１００の第１の透光部１０１を通して露光してパターニングしてコンタクトホール１０３〜１０６を得る。 - 特許庁

To obtain a photosensitive paste with which patterning with a high aspect ratio and high precision can be attained and in which peeling is not caused in baking.例文帳に追加

高アスペクト比かつ高精度のパターン加工が可能であり、焼成時の剥離のない感光性ペーストを提供する。 - 特許庁

To provide a method of patterning a porous thin film which is formed by depositing a particulate material.例文帳に追加

粒子状材料を堆積することによって形成された多孔性薄膜を効率良くパターニングする方法を提供する。 - 特許庁

To suppress failure in patterning in a resist layer as much as possible in a method for manufacturing a chip size package type semiconductor device.例文帳に追加

チップサイズパッケージ型の半導体装置の製造方法において、レジスト層のパターニングの不良を極力抑止する。 - 特許庁

To obtain a positive radiation sensitive composition having such resolution as to enable sub-quarter micron patterning and also having high sensitivity and to provide a method for producing a resist pattern using the composition.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁

The method carries out a patterning by forming a low-resistance metal film 5 and a low-dielectric constant film 7 and then dry-etching using a resist 9.例文帳に追加

低抵抗金属膜５、低誘電率膜７を成膜した後、レジスト９を用いてドライエッチングし、パターニングする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a composite substrate capable of patterning a thin film of a functional material substrate without etching.例文帳に追加

機能性材料基板の薄膜をエッチングすることなくパターニングできる複合基板の製造方法の提供を図る。 - 特許庁

To quickly and simply carry out patterning to cells and chemicals without using equipment that is complicated to operate, and is expensive.例文帳に追加

操作が煩雑でありかつ高価な機器を用いることなく、細胞や薬物のパターニングを、迅速かつ簡便に行う。 - 特許庁

After patterning of a resist is carried out, wet etching of a laminated metal film aside from a part to become a negative electrode auxiliary wiring pattern 3 is carried out.例文帳に追加

レジストをパターニングした後、陰極補助配線パターン３となる部分以外の積層金属膜をウェットエッチングする。 - 特許庁

On the occasion of this second patterning, wire-shaped protective films 23 are formed on the scanning lines 11 exclusive of the intersection parts 7.例文帳に追加

この第２のパターニングの際に交差部７以外の走査線１１上には線状保護膜２３が形成される。 - 特許庁

RESIST PATTERN, METHOD OF FORMING THIS RESIST PATTERN, PATTERNING METHOD USING THIS RESIST PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

レジストパターン、該レジストパターンの形成方法、該レジストパターンを用いたパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

To provide a method of cleaning a patterning device that has at least an organic coating material (OLED material) deposited thereon.例文帳に追加

少なくとも有機コーティング材料（ＯＬＥＤ材料）がその上に堆積されたパターニングデバイスの洗浄方法である。 - 特許庁

To provide a process of patterning a metal film easy to peel off on a base pattern at a low cost.例文帳に追加

剥離が容易で、かつ、低コストに下地用パターンの上に金属膜をパターニングすることができるプロセスを提供する。 - 特許庁

This can improve the stability of patterning by lithography and improve shape controllability in a horizontal direction.例文帳に追加

これにより、リソグラフィによるパターニングの安定性が向上され、水平方向の形状制御性を改善することもできる。 - 特許庁

A positioning device controls the position of the patterning support on the basis of the measuring signal input into the positioning device.例文帳に追加

位置決め装置は、該位置決め装置に入力された測定信号に基づいてパターン支持体の位置を制御する。 - 特許庁

The patterning device modulates the sub-beams of radiation to substantially generate a requested dose pattern on the substrate.例文帳に追加

パターン形成装置は、放射線のサブビームを変調し、基板上に要求された線量パターンを実質的に生成する。 - 特許庁

At this time, a separate PR patterning step is not performed to the second transparent electrode and after the transparent electrode is formed on the entire surface of the substrate, the transparent electrode is partially crystallized and a patterning step is performed through selection etching of an amorphous and crystal states.例文帳に追加

この時、前記第２透明電極は別途のＰＲパターニング工程を行わないで、基板の全面に透明電極を形成した後、これを部分的に結晶化して、非晶質と結晶質の選択的エッチングを通じてパターニング工程を行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display panel where manufacturing efficiency and workability is superior, adhesiveness in a developing treatment is superior and patterning property is superior, and to provide a new transfer film superior in the manufacturing efficiency, the patterning property and the workability.例文帳に追加

製造効率および作業性に優れ、現像処理時の密着性の良好な、パターニング性に優れたプラズマディスプレイパネルの製造方法、並びに、製造効率、パターニング性および作業性に優れた新規な転写フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor element having an arrangement structure capable of high density patterning with ultra-fine width and interval by utilizing a pattern of expressible size in a resolution limit of a photolithographic process, and to provide a patterning method of the semiconductor element.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程の解像限界内で、具現可能なサイズのパターンを利用して超微細な幅及び間隔を持つ高密度パターンを形成できる配置構造を持つ半導体素子及びその半導体素子パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When patterning the transparent conductive film with transparent electrode layers 2 and 3 formed on both sides of a base material 1, high-accuracy patterning on one side only is allowed by using the fundamental wave or the second higher harmonic wave of YAG or YVO_4 laser 4.例文帳に追加

基材１の両面に透明電極層２，３が形成された透明導電膜のパターニングにおいて、ＹＡＧまたはＹＶＯ_4レーザー４の基本波または第２高調波を用いることで、片面のみの精度の高いパターニングが可能となる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device fine patterning method of forming by one photolithography step the same fine pattern as that by a conventional double patterning method to attain uniformity of pattern line widths and production cost reduction.例文帳に追加

１回のフォトリソグラフィ工程により、従来の二重パターニング法と同程度の微細パターンを形成することが可能で、パターンの線幅の均一性の確保及び製造コストの節減が可能な半導体素子の微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A chemically amplified resist material comprising a base resin and a photo acid generator having sensitivity at the wavelength of patterning exposure; wherein, the chemically amplified resist material further comprising an activator that generates an acid or a radical by a treatment other than the patterning exposure.例文帳に追加

基剤樹脂と、パターニング露光の波長に感度を有する光酸発生剤とを含むレジスト材料であって、当該パターニング露光とは別の処理により酸又はラジカルを発生する活性剤を更に含む化学増幅レジスト材料とする。 - 特許庁

To provide a patterning process in which pattern densities of some regions are doubled by a double patterning technology while patterns having different widths are simultaneously formed, and to provide a semiconductor device having a structure to which the process is easily applicable.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程、及びその工程を容易に適用しうる構造を有する半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for patterning self-assembled photonic crystals and to provide a method for fabricating 3-dimensional photonic crystal waveguides of an inverted-opal structure having a photonic band gap in all light-traveling directions using the patterning method.例文帳に追加

自己組立光結晶をパターニングする方法の提供及びこのパターニング方法を利用して光の全ての進行方向に対して光バンドギャップを有する逆転されたオパール構造の３次元光結晶光導波路を製作する方法の提供。 - 特許庁