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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > rectangular patternに関連した英語例文

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rectangular patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 400



例文

In the ink jet printing system, coating liquid such as the alignment layer is applied to a coating pattern region of the alignment layer or the like where a right-angle triangular pattern is extended in an arrangement for extending opposite sides of the rectangular shape in each corner part, of a rectangular basic coating pattern.例文帳に追加

矩形状の基本塗布パターンの、各コーナ部において矩形の対向辺を延長する配置で直角三角形状パターンを延設した配向膜等の塗布パターン領域に、インクジェット印刷方式で配向膜等の塗布液を塗布する。 - 特許庁

The first monitor marks 101 and the second monitor marks 102 each have a rectangular pattern 110 (110a, 110b) and a tapered pattern 111 (111a, 111b), which is a fine convex formed on one side of the rectangular pattern 110.例文帳に追加

第1のモニタマーク101及び第2のモニタマーク102には、長方形パターン110(110a,110b)と、この長方形パターン110の片側に形成された微細な凸型の先細りパターン111(111a,111b)とから構成されている。 - 特許庁

A flexible substrate 1 has a conductive pattern 2 provided on a single-side or double side and is formed in a rectangular shape.例文帳に追加

フレキシブル基板1が、その片面又は両面に導体パターン2を設けて矩形状に形成される。 - 特許庁

ELECTRONIC FLASH, IMAGING DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING FLASH OF LIGHT HAVING RECTANGULAR RADIATION PATTERN例文帳に追加

矩形の放射パターンを有するフラッシュ光を生成するための、電子フラッシュ、イメージング装置、及び方法 - 特許庁

例文

The rectangular pattern TP2 is detected and the recording position is operated in the main scanning direction X (step S6).例文帳に追加

矩形パターンTP2を検出し、主走査方向Xにおける記録位置を演算する(ステップS6)。 - 特許庁


例文

The rectangular pattern TP1 is detected and the recording position is operated in the main scanning direction X (step S2).例文帳に追加

矩形パターンTP1を検出し、主走査方向Xにおける記録位置を演算する(ステップS2)。 - 特許庁

The first mask pattern comprises a plurality of metal wires 33, and the second mask pattern comprises a plurality of rectangular parallelepiped photosensitive emulsions 34.例文帳に追加

第一のマスクパターンは複数の金属ワイヤー33からなり、第二のマスクパターンは複数の直方体状の感光性乳剤34からなる。 - 特許庁

The cooling apertures 44 are arranged in a rectangular pattern, and the center of the pattern is displaced in the peripheral direction from the center of the dilution holes 48a.例文帳に追加

冷却孔(44)は、ほぼ矩形のパターンで配置され、該パターンの中心は、希釈孔(48a)の中心から周方向に偏位している。 - 特許庁

The above amount of corrections is variable rectangular beam size data corresponding to the difference of a target pattern size, a resist pattern size formed by specifying the amount of the reference light exposure, and the target pattern size.例文帳に追加

前記補正量は、目標パターンサイズと基準露光量を指定して形成したレジストパターンサイズと目標パターンサイズとの差分に対応する可変矩形ビームサイズデータである。 - 特許庁

例文

Shift of recording position between the rectangular pattern TP1 and the rectangular pattern TP2 is calculated (step S8) and positional shift of recording in a 'bidirectional recording means' is corrected based on the shift of recording position thus calculated (step S9).例文帳に追加

矩形パターンTP1と矩形パターンTP2との記録位置のずれ量を算出し(ステップS8)、その記録位置のずれ量に基づいて、「双方向記録手段」における記録位置ずれを補正する(ステップS9)。 - 特許庁

例文

If it is determined that the drawing pattern strides over the glitch position, a division circuit divides the drawing pattern into rectangular and trapezoid patterns by making a boundary at the glitch position from the memory 51 and further divides into rectangular and trapezoid patterns.例文帳に追加

描画パターンがグリッチ位置を跨ぐ図形と判定された場合、分割回路は、その描画パターンをメモリ51からのグリッチ位置を境にして矩形・台形のパターンに分割し、更に、通常の矩形・台形分割を行う。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for MEMS structure components, capable of forming a rectangular or approximately rectangular profile after baking of a formed pattern.例文帳に追加

形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なMEMS構造部材用感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The end 35 of the print pattern 12 to which the end 30 is soldered is in a rectangular projection shape projecting from an edge 12a of the print pattern 12.例文帳に追加

端部30が半田付けされるプリントパターン12の端部35は、プリントパターン12の縁12aから突出された矩形状の凸状をしている。 - 特許庁

At the time, since the cross section of the conductor pattern P1 is in the recessed and projected shape, a surface area is larger compared to a conventional conductor pattern whose cross section is rectangular.例文帳に追加

このとき、導体パターンP1の断面が凹凸状をなしているため、断面矩形状の従来の導体パターンよりも表面積が大きい。 - 特許庁

To obtain a variable rectangular electron beam exposure apparatus capable of highly finely conducting exposure with respect to a predetermined fine line pattern having an arbitrary angle in the pattern region.例文帳に追加

任意角度をもった所定の細線パターンについて、そのパターン領域内を高精細に露光することのできる可変矩形型電子ビーム露光装置を得る。 - 特許庁

In the method for manufacturing the optical element, the optical element is manufactured from a rectangular substrate 10 in which an invalid pattern part 12 is provided on the periphery of a valid pattern part 11.例文帳に追加

この光学素子の製造方法は、有効パターン部11の周囲に無効パターン部12を設けた矩形基板10から、光学素子を製造する。 - 特許庁

A toner pattern has a pattern for concentration detection, in which four pieces of rectangular patterns with different toner concentration with each other are arranged in four lines, by each color of the toner.例文帳に追加

トナーパターンは、トナーの色毎に、互いにトナー濃度の異なる4個の矩形パターンが4列に配列された濃度検出用パターンを有している。 - 特許庁

In this inductor component 21, a spiral coil pattern 12 is formed on a rectangular insulating substrate 11 by photolithography.例文帳に追加

矩形状の絶縁性基板11の上には、渦巻き状のコイルパターン12がフォトリソグラフィ法にて形成されている。 - 特許庁

The surface to be worked of the marking object 6 is arranged at the position where the rectangular pattern of the slit 100 is image-formed.例文帳に追加

スリット100の矩形パターンが結像する位置にマーキング対象物6の被加工面が配置されている。 - 特許庁

The tip of the second film pattern 41 has cutoffs 41a, respectively having a shape formed by making off the corner of a rectangular contour cut off.例文帳に追加

第2膜パターン41の先端部は、矩形輪郭を欠落させた形状の欠落部41aを有する。 - 特許庁

A rectangular pattern TP1 is recorded by ejecting ink only when a recording head moves leftward (step S1).例文帳に追加

記録ヘッドが左方向へ移動するときのみインクを吐出して矩形パターンTP1を記録する(ステップS1)。 - 特許庁

After the resist film is exposed and developed, a rectangular resist pattern 7 is obtained by performing developing processing.例文帳に追加

このレジスト膜を露光、加熱した後、現像処理を行うことによって矩形状のレジストパターン7が得られる。 - 特許庁

To provide a negative curable composition having excellent developability at high sensitivity and capable of forming a fine rectangular pattern.例文帳に追加

高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To automatically prepare an image for which any suitable picture pattern is segmented as a rectangular block and stuck in the shape of tile.例文帳に追加

適宜な絵柄を矩形状のブロックとして切り出して、タイル状に貼り付けた画像を自動的に作成する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation-curable composition which has good sensitivity and excellent development performance and with which rectangular fine pattern formation can be performed.例文帳に追加

高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The image output device is provided with a pattern acquisition means for acquiring rectangular patterns specified by a parameter, a means for drawing the specified rectangular patterns within a range of a specified graphic so that they are paved like tiles, a means for caching the once specified rectangular patterns and a pattern retrieving means for retrieving whether or not the rectangular pattern corresponding to an optional parameter exists in a cache.例文帳に追加

本発明の画像出力装置は、パラメータにより指定された矩形パターンを取得するパターン取得手段と、指定された図形の範囲内を指定された矩形パターンをタイル状に敷き詰めるように描画する手段と、一度指定された矩形パターンをキャッシュする手段と、任意のパラメータに対応した矩形パターンがキャッシュ内に存在するかを検索するパターン検索手段とを有する。 - 特許庁

A circumscribing rectangular area securing means 61 secures a memory area developing a circumscribing rectangular 11 on the basis of character data and a rotation angle, and a character pattern drawing means 62 draws the rotated character pattern in the memory area.例文帳に追加

外接矩形領域確保手段61が文字データと回転角度とに基づいて外接矩形11を展開するメモリ領域を確保し、このメモリ領域に回転された文字パターンを文字パターン描画手段62が描画する。 - 特許庁

Moreover, a extended region of the rectangular VIP pattern is generated on the base of its central point, and as this extended region is merged with a slanted second wiring pattern, a merged pattern is generated.例文帳に追加

さらに、長方形のVIAパターンをその中心点を基準に拡張した拡張領域を生成し、この拡張領域を斜めの第2配線パターンにマージしてマージパターンを生成する。 - 特許庁

A mask pattern 27 for forming the micro-mirror formed on the semiconductor substrate 24 is formed in a pentagonal pattern by forming one side of the conventional rectangular mask pattern which becomes a micro- mirror forming section in a broken line.例文帳に追加

半導体基板24上に形成されるマイクロミラー形成用のマスクパターン27を、従来の長方形マスクパターンにおいてマイクロミラー形成部となる一辺を折れ線とした、五角形のパターンとする。 - 特許庁

To easily detect a line unevenness extended over a plurality of rectangular areas on a substrate where the plurality of rectangular areas having a uniform pattern is set by arraying vertically and laterally with a space.例文帳に追加

一様なパターンを有する複数の矩形領域が隙間を空けて縦横に整列して設定される基板上の複数の矩形領域に亘って伸びる筋ムラを容易に検出する。 - 特許庁

In the case when the projecting part 2 is a substantially rectangular frame pattern, more preferably, the grooves 3 are so formed that an angle formed by one side of the substantially rectangular shape and the longitudinal direction of the groove 3 is 45°.例文帳に追加

さらに好ましくは、凸部2が略長方形の枠型である場合に、溝3は略長方形の一辺と溝3の長手方向とのなす角度が45°になるように形成される。 - 特許庁

To obtain a pattern of a high melting point metal film having rectangular or trapezoidal cross-section by dry etching a high melting point metal film.例文帳に追加

高融点金属膜をドライエッチングして断面が矩形状或いは台形状の高融点金属膜のパターンを得る。 - 特許庁

To provide a spray nozzle with a simple machining and structure, capable of forming a rectangular spray pattern at a uniform spray density.例文帳に追加

簡単な加工又は構造で、均一な噴霧密度で矩形状噴霧パターンを形成できるスプレーノズルを提供する。 - 特許庁

On the printing plate 1, a plurality of rectangular recessed parts 11 are formed on the inner side of a prescribed printing pattern frame 4.例文帳に追加

印刷版1には、所定の印刷パターン枠4の内側に複数の方形状の凹部11を形成している。 - 特許庁

RECTANGULAR/GRID DATA CONVERSION METHOD OF MASK PATTERN FOR ELECTRICALLY CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE AND ELECTRICALLY CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD USING IT例文帳に追加

荷電粒子ビーム露光用マスクパターンの矩形/格子データ変換方法及びこれを用いた荷電粒子ビーム露光方法 - 特許庁

To provide a method for forming a fine rectangular resist pattern having satisfactory resistance to dry etching with reproducibility.例文帳に追加

十分なドライエッチング耐性を有し、微細なレジストパターンを矩形形状で再現性良く形成する方法を提供する。 - 特許庁

This Korozen no goho garment has a hakogata-mon (rectangular-shaped pattern) of paulownia, bamboo, a phoenix and a kylin. 例文帳に追加

この黄櫨染の袍には「キリ」「竹」「鳳凰」「麒麟」の4種類の文様が記されていて、長方形の筥形文となっている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

For example, strip-like light-shielding regions 14v, 14h are disposed along the center axes 12v, 12h of the rectangular basic pattern 8, respectively, so as to dispose a cross-shaped auxiliary pattern 10.例文帳に追加

例えば、矩形の基本パターン8の中心軸12v,12hに沿って帯状の遮光領域14v,14hを配置して、十字型の補助パターン10を設ける。 - 特許庁

To provide a material pattern formation method by an ink-jet method for giving a rectangular material pattern with good control performance of fine line width.例文帳に追加

本発明の目的は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られるインクジェット方式による材料パターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for exposure by which a rectangular pattern or a pattern including acute angles can be transferred so that corners may not become round, and to provide a mask and a method of manufacturing semiconductor device.例文帳に追加

矩形パターンや鋭角を含むパターンを角が丸くならないように転写できる露光方法、マスクおよび半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The two-dimensional bar code has a rectangular code pattern formed by arranging rectangular unit modules having a different optical characteristic in a plane without interval, and the unit module is divided into black framed macro modules and white framed macro modules arranged each other in the rectangular code pattern storing a data code word of a fixed data length.例文帳に追加

二次元バーコードは、光学特性の異なる矩形の単元モジュールが平面で無間隔的に配列された矩形のコードパターンを有し、単元モジュールは、固定データ長のデータコードワードを記憶した矩形のコードパターンにおいて、交互に配列された黒枠マクロモジュールと白枠マクロモジュールとに分割されている。 - 特許庁

This image display device of the pachinko machine having a function of drawing a mosaic pattern within the prescribed rectangular region of a plurality of the pixels is provided with a mosaic pattern drawing device 7 for filling the rectangular region with the color obtained by averaging the colors of any two pixels in the rectangular region to be made into mosaic.例文帳に追加

複数のピクセルからなる所定の矩形領域内をモザイク模様に描画する機能を備えたパチンコ機の画像表示装置において、モザイク化する矩形領域内の任意の2つのピクセルの色を平均化した色で、矩形領域内を埋めるモザイク模様描画装置7を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

The alignment controlling protrusion of the color filter is the alignment controlling protrusion 39 formed by grinding a pattern 37 with a nearly rectangular planar shape and a nearly rectangular sectional shape or a pattern with a circular planar shape and a nearly rectangular sectional shape formed by using a photoresist so as to form a protrusion with the circular arc shaped sectional shape.例文帳に追加

配向制御用突起が、フォトレジストを用いて形成した平面形状及び断面形状が略矩形状のパターン37、或いは平面形状が円形状で断面形状が略矩形状のパターンを研磨して、その断面形状を円弧状の突起に形成した配向制御用突起39であることを。 - 特許庁

To provide a semiconductor mounting substrate in which a cross-sectional form of a resist pattern is transformed from a conventional inverted trapezoidal form into a rectangular form and a cross-sectional form of a metallic circuit pattern formed between resist patterns is a rectangular form, and to provide method of manufacturing the same.例文帳に追加

レジストパターンの断面形状を従来の逆台形形状から矩形形状にし、そのレジストパターン間に形成する金属回路パターンの断面形状を矩形形状にした半導体実装基板、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

After exposing and developing are performed on a positive type photosensitive resin layer formed on a substrate to form the rectangular pattern 18, water solution containing non-reactive silicone oil is applied and dewatered, and the rectangular pattern is thermally reflowed by heat treatment to make the microlens.例文帳に追加

基板上に形成されたポジ型感光性樹脂層に露光、現像して矩形パターン18を形成した後に、非反応性シリコーンオイルを含有する水溶液を塗布、水切りし、熱処理にて該矩形パターンを熱リフローさせマイクロレンズとすること。 - 特許庁

A recording sheet P is carried in the subscanning direction Y (step S4), and a rectangular pattern TP2 is recorded at the same position as the rectangular pattern TP1 in the main scanning direction X by ejecting ink only when the recording head moves rightward (step S5).例文帳に追加

記録紙Pを副走査方向Yへ搬送し(ステップS4)、記録ヘッドが右方向へ移動するときのみインクを吐出して、主走査方向Xにおいて矩形パターンTP1と同一の位置に矩形パターンTP2を記録する(ステップS5)。 - 特許庁

The test pattern for linearity inspection which is composed of a plurality of rectangular patterns 1 to 6 having the same length and different widths, is used.例文帳に追加

長さが同じで幅が異なる複数の矩形パターン1〜6により構成されるリニアリティ検査用テストパターンを使用する。 - 特許庁

To increase the speed of plotting command to a memory, enabling access to the memory per word unit at a high speed, in painting out a rectangular pattern.例文帳に追加

矩形パターンを塗りつぶす際にワード単位で高速にメモリにアクセス可能としてメモリへの描画命令を高速化する。 - 特許庁

Thus, a rectangular resist pattern (line) having good dry etching resistance and small line edge roughness can be formed.例文帳に追加

これにより、レジストパターン(ライン)が矩形でありドライエッチング耐性が良好、かつ、ラインエッジラフネスの小さいレジストパターンの形成が可能となる。 - 特許庁

例文

To provide a laser beam irradiation apparatus capable of easily changing the dimension of a rectangular irradiation pattern or the distance between irradiation patterns.例文帳に追加

矩形の照射パターンの寸法や照射パターン同士の間隔を容易に変更可能なレーザビーム照射装置を提供する。 - 特許庁




  
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