「repeat step」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In a step S31, a controller and an LPC(LASER POWER CON TROLLER) monitor respectively an ESD(electrostatic discharge) hazard signal inputted from an ESD sensor, and decide occurrence of the ESD by discriminating whether or not its level is 0, and repeat the decision until the ESD occurs is decided.例文帳に追加

ステップＳ３１において、コントローラおよびLPCは、それぞれ、ESDセンサ７から入力されるESDハザード信号を監視して、そのレベルが０であるか否を識別することにより、ESDの発生を判定し、ESDが発生したと判定するまで、その判定を繰り返す。 - 特許庁

Both pattern transfer regions 100A corresponding to a scan exposure procedure and the pattern transfer regions 100B corresponding to a step-and-repeat exposure procedure are formed to two pattern forming regions 100-1 and 100-2 on the mask 10.例文帳に追加

マスク１０の２つのパターン形成領域１００−１、１００−２には、スキャン露光手順に対応したパターン転写領域１００Ａと、ステップアンドリピート露光手順に対応したパターン転写領域１００Ｂとの双方が形成されている。 - 特許庁

To provide a multi-function device and composite system for which it is not necessary to repeat work from a first step of printing a handwriting navigation sheet again even if the position or size of a handwriting character is made wrong when creating the handwriting navigation sheet.例文帳に追加

手書きナビシートを作成する場合、手書きキャラクタの位置や大きさを誤っても、手書きナビシートを再び印刷するという最初の段階から作業を繰り返す必要がない複合機及び複合システムを提供することを目的とする。 - 特許庁

The orientation layer substrate 11 is irradiated with laser light partially by reducing an irradiation region, and the entire surface of the orientation layer substrate 11 is irradiated with the polarized light by step-and-repeat scanning the XYZθ stage 12 in two directions of X and Y.例文帳に追加

レーザ光の配向膜基板１１への照射は、照射領域を小さくして部分的に行い、ＸＹＺθステージ１２をＸとＹの２方向にステップ・アンド・リピ−ト走査して当該配向膜基板１１の全面に偏光を照射する。 - 特許庁

The control part performs control to repeat a writing operation for applying a writing pulse voltage to a selected memory cell and for applying an intermediate voltage to a non-selected memory cell, a writing verify operation, and a step-up operation for increasing the writing pulse voltage.例文帳に追加

制御部は、選択メモリセルに書き込みパルス電圧を印加するとともに、非選択メモリセルに中間電圧を印加する書き込み動作、書き込みベリファイ動作、及び書き込みパルス電圧を上昇させるステップアップ動作を繰り返す制御を司る。 - 特許庁

The control unit performs control to repeat a writing operation for applying a writing pulse voltage to a selected memory cell for data writing, a writing verify operation for verifying whether the data writing is finished or not, and a step-up operation for increasing the writing pulse voltage by a predetermined step-up voltage when the data writing is not finished.例文帳に追加

制御部は、データ書き込みのため選択メモリセルに対し書き込みパルス電圧を印加する書き込み動作、データ書き込みが完了したか否かを確認する書き込みベリファイ動作、及びデータ書き込みが完了しなかった場合に書き込みパルス電圧を所定のステップアップ電圧の分だけ上昇させるステップアップ動作を繰り返す制御を司る。 - 特許庁

In the rice washing process step, the rice washing parts 25 of the rotary vanes 21 press the milled rice 1 to the sidewall of the rice storage container 5 to cause the rice 1 to repeat the circulation of ascending while rotating on the sidewall of the rice storage container 5 and moving to the approximate center of the rice storage container 5.例文帳に追加

米研ぎ工程では、回転羽根２１の米研ぎ部２５が白米１を米収納容器５の側壁へ押し付けることにより、白米1は米収納容器５を回転しながら上昇し米収納容器５の略中央へ移動するという循環を繰り返す。 - 特許庁

To provide a semiconductor element of fine structure in which an alignment accuracy, an accuracy of processing technology by step and repeat exposure, finishing size of resist mask, yield by etching technology, etc. are overcome; and to provide a method for manufacturing a semiconductor device in which the semiconductor elements of the fine structures are highly integrated.例文帳に追加

本発明では、アライメント精度、縮小投影露光による加工技術の精度、レジストマスクの仕上り寸法、エッチング技術等による歩留まりを克服し、微細構造の半導体素子、及び微細構造の半導体素子が高集積化された半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing display devices for realizing compatibility between measures against dielectric breakdown of the display device and circuit inspection on a processed substrate without decreasing productivity, when forming the plurality of display devices on the processed substrate by a step and repeat exposure method.例文帳に追加

ステップ・アンド・リピート露光方法により加工基板上に複数の表示装置を形成する際、生産性を低下することなく加工基板上の表示装置の静電破壊防止対策と回路検査との両立を実現する表示装置の作製方法を提供する。 - 特許庁

In the focus correcting treatment in the step/repeat treatment, an advanced treatment(advanced auto-focusing), which estimates an amount of focus deviation caused from a XY stage driving in a shot movement, is employed, thereby inhibiting the occurrence of the focus deviation, and the shortening of treatment and accuracy of the focus correcting treatment using an auto-focusing sensor can be elevated.例文帳に追加

ステップアンドリピートにおける焦点補正処理において、ショット移動間にＸＹステージ駆動に起因する焦点ズレ量を見込んで先送りする処理方法（先送りオートフォーカス）を取り入れることで、焦点ずれの発生を抑制し、オートフォーカスセンサを用いた焦点補正処理の処理時間の短縮と精度を向上させる。 - 特許庁

The method comprises a step of providing the picking cart with a predetermined number of divided widths to create and receive information on allocation of one or more widths enough to pick the orders into the picking cart based on the amount and the number of the orders and a step of moving in order of a route of the received orders to repeat pickings from the shelves into the allocated widths of the picking cart.例文帳に追加

所定の複数の間口に仕切ったピッキングカートを備え、オーダの容量および数をもとにピッキングカートにピッキングするに十分な間口を１つあるいは複数割り付ける情報を作成し受信するステップと、受信したオーダについてルートの順番に移動して該当棚からピッキングカートの割り付けられた間口にピッキングすることを繰り返すステップとを有するピッキング方法およびピッキング作業スケジュール作成方法である。 - 特許庁

At such a time, (B1) vector order selection is performed on a vector (i) of an intermediate reduction channel matrix H_PT(k-1) obtained in the last repeat step, (B2) vector reduction is performed on the selected vector and (B3) processing is executed for confirming a reduction condition for the reduced vector and updating a vector index (i).例文帳に追加

このとき、（Ｂ１）前回の反復ステップで得られた中間縮小チャネル行列Ｈ_ＰＴ（ｋ−１）のベクトルｉに対してベクトル順番選定を行い、（Ｂ２）選定されたベクトルに対してベクトル縮小を行い、（Ｂ３）ベクトル縮小したベクトルに対して縮小条件を確認してベクトルインデックスｉを更新する処理を実行する。 - 特許庁

The calculation step 3 comprises processes which repeat the process calculating contact condition at least between a bead bottom surface and the rim from the tire model expanded and deformed by the internal pressure condition, and a process renewing the internal pressure operation area so that the internal pressure acting on a non-contacting area with a rim of a bead bottom surface till the contact condition becomes constant.例文帳に追加

計算ステップＳ３は、内圧条件により膨張変形したタイヤモデルから、少なくともビード底面とリムとの間の接触状態を計算する処理と、ビード底面のリムとの非接触域に内圧が作用するように前記内圧作用領域を更新する処理とを前記接触状態が一定になるまで繰り返す工程を含む。 - 特許庁

The method includes a step of constructing a basket of financial derivative products selected so as to repeat a first index; and the basket of the financial derivative products is constructed using reference interest period matching based upon a plurality of financial products, and reconstructed in every constant period substantially equal to a period in which the index is reconstructed.例文帳に追加

本方法は、第１指数を反復するために選択された金融デリバティブ商品のバスケットを構築するステップを含み、前記金融デリバティブ商品のバスケットは、複数の金融商品に基づき基準金利期間マッチングを用いることにより構築され、前記バスケットは、前記指数が再構築される期間に概ね等しい一定期間ごとに再構築される。 - 特許庁

When it is not possible to travel under traveling control in an electric vehicle mode in a low load section with the charging quantity of the battery, the driving control means performs engine intermittent traveling control to repeat a traveling power generation mode and an electric vehicle mode in addition to the traveling control in the electric vehicle mode in the low load section (step S23 of the flow chart in Fig.7).例文帳に追加

前記駆動制御手段は、前記バッテリーの充電量で前記低負荷区間を前記電気自動車モードでの走行制御で走りきることができない場合、前記低負荷区間において、前記電気自動車モードでの走行制御に加えて前記走行発電モードと前記電気自動車モードとを繰り返すエンジン間欠走行制御を行う（図７のフローチャートのステップS23）。 - 特許庁

The method for producing the high-heat conductivity resin composition includes the step of kneading a thermoplastic liquid crystal resin mainly having a repeat unit represented by the following general formula (1) or (2), or the thermoplastic liquid crystal resin and an inorganic filler under a temperature condition such that the thermoplastic liquid crystal resin undergoes a phase transition from isotropic phase to liquid crystal phase.例文帳に追加

本発明の高熱伝導性樹脂組成物の製造方法は、下記一般式（１）または（２）で示される繰り返し単位を主として有する熱可塑性液晶樹脂、または、前記熱可塑性液晶樹脂および無機充填剤を、上記熱可塑性液晶樹脂が等方相から液晶相への相転移を経る温度条件下にて混練する工程を含むことを特徴とする製造方法である。 - 特許庁

In step and repeat type imprinting, an alignment mark on the mold side is formed at a position parted from a groove structure on the same plane as the transcription region of the mold, and is not aligned with the substrate side alignment mark in a transcribed region where imprinting is performed, but is aligned with the transcribed region vertically, horizontally, and diagonally brought into contact with the transcribed region.例文帳に追加

ステップアンドリピート方式のインプリントにおいて、モールド側アライメントマークを、モールドの転写領域と同一面上であって、溝構造を隔てた位置に形成し、インプリントしようとしている被転写領域内の基板側アライメントマークではなく、前記被転写領域に対して上下、左右、対角に接する被転写領域内の基板側アライメントマークとアライメントすることにより、上記課題を解決する。 - 特許庁