「resolution limit」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

IMAGE RESOLUTION TECHNIQUE OF DIFFRACTION LIMIT OR LESS, AND OTHER IMAGING TECHNIQUE例文帳に追加

回折限界以下の画像解像技術および他の画像化技術 - 特許庁

The size of the dummy patterns is below the resolution limit of light for exposure.例文帳に追加

ダミーパターン３３は、露光光の解像限界を下回る大きさである。 - 特許庁

The width of the auxiliary pattern 13 does not exceed the resolution limit.例文帳に追加

また、上記補助パターン１３の幅が解像限界以下である。 - 特許庁

In this resolution measuring device, the continuity of segments constituting the so-called wedge chart to be used for visually measuring resolution is considered, and the resolution limit line position of the wedge chart is determined so that limit resolution can be calculated.例文帳に追加

この解像度測定装置は、解像度の目視測定に用いられる、いわゆるくさびチャートを構成する線分の連続性に着目し、そのくさびチャートにおける解像限界行位置を判定して限界解像度を算出する。 - 特許庁

The first input images are shot at a shutter speed equal to or faster than the super-resolution limit shutter speed, which is the lower-limit shutter speed that enables super-resolution processing to make the resolution of the output image equal to or higher than that of the input images.例文帳に追加

第１入力画像は、超解像処理によって出力画像の解像度を入力画像以上とすることが可能となる下限の速度である超解像限界シャッタ速度以上のシャッタ速度で撮像される。 - 特許庁

To obtain a high reproduction output in all included recording marks and to realize high reproduction durability when recording/reproducing a recording mark string including recording marks smaller than a resolution limit or recording marks each having a dimension which is equal to or larger than the resolution limit but is close to the resolution limit.例文帳に追加

解像限界より小さい記録マーク、または、解像限界以上ではあるが解像限界に近い寸法をもつ記録マークを含む記録マーク列を記録／再生する際に、含まれる全ての記録マークにおいて高い再生出力が得られ、かつ、高い再生耐久性を実現する。 - 特許庁

To provide a method of easily forming a photoresist mask having a resolution higher than the limit resolution determined for each exposure apparatus.例文帳に追加

露光装置に応じて決められた限界解像度よりも高い解像度のフォトレジストマスクを簡便に形成する方法を提供する。 - 特許庁

In an image transmission mode, the composite terminal does not permit transmission of a selected image when the resolution of the selected image exceeds a predetermined limit resolution.例文帳に追加

画像送信モードにおいて、選択された画像の解像度が予め定められた制限解像度を超えれば、当該選択画像の送信を許可しない。 - 特許庁

The resolution and frame rate of video are controlled, and the size of a moving body is recognized from the video controlled to be the upper-limit resolution.例文帳に追加

映像の解像度とフレームレートとを制御し、上限の解像度に制御された映像から移動物体の大きさを認識する。 - 特許庁

To achieve resolution exceeding the resolution limit of existing aligners by means of an aligner, manufactured through the existing aligner manufacturing technique.例文帳に追加

既存の露光装置の解像限界を越えた解像力を既存の露光装置製造技術で製造した露光装置により達成する。 - 特許庁

To improve a phase resolution of a oscillation circuit more than a limit level of the resolution determined by a specific delay of delay elements being components of the circuit.例文帳に追加

発振回路の位相状態の分解能を、これを構成する遅延素子の遅延で決まる限界以上に高くする。 - 特許庁

This invention is generally concerned with the image resolution technique of the diffraction limit or less and the other imaging technique.例文帳に追加

本発明は、一般的に、回折限界以下の画像解像技術および他の画像化技術に関する。 - 特許庁

The intervals of the resist pattern of the opening part are equal to a distance (x) smaller than the resolution limit.例文帳に追加

開口部のレジストパターンのピッチは解像限界より小さい距離ｘになる。 - 特許庁

To provide an image resolution technique of a diffraction limit or less and the other imaging technique.例文帳に追加

回折限界以下の画像解像技術および他の画像化技術の提供。 - 特許庁

To provide an optical device that can offer two-dimensional resolution beyond diffraction limit.例文帳に追加

本発明は、回折限界を超えた２次元の解像を得ることができる光学装置を提供する。 - 特許庁

To obtain spatial resolution not more than a diffraction limit in measurement using incoherent light.例文帳に追加

インコヒーレント光を用いた測定において回折限界以下の空間分解能を得る。 - 特許庁

To improve unnaturalness in image data caused by the anisotropy of resolution limit.例文帳に追加

本発明は、解像限界の非等方性に起因する画像データの不自然さを改善することを目的とする。 - 特許庁

A recording medium records control information to limit the resolution at an output.例文帳に追加

また出力時の解像度を制限する制御情報を記録媒体に記録しておく。 - 特許庁

To manufacture a magnetic sensor having an optical core width equal to or less than an exposure resolution limit with an excellent yield.例文帳に追加

露光解像限界以下の光学コア幅を有する磁気センサを、歩留まり良く製造する。 - 特許庁

To form a micro pattern that is below a resolution limit of lithography and is superior in dimensional controllability.例文帳に追加

リソグラフィの解像限界以下の寸法制御性の高い微細パターンを形成する。 - 特許庁

To excellently form a fine pattern at a close pitch almost to or below a resolution limit.例文帳に追加

解像限界付近或いは解像限界以下の微小パターンを密なピッチで良好に形成する。 - 特許庁

To precisely expose a fine pattern exceeding the resolution limit of resist.例文帳に追加

レジストの解像限界を越えるような微細パターンの露光を精度良く行う。 - 特許庁

The structure has a width greater than the resolution limit of an exposure device, and the auxiliary structure has a width projected onto the substrate, which is smaller than its resolution limit.例文帳に追加

この構造は、露光デバイスの解像限界よりも大きい幅を有し、補助構造は、基板上に投射された幅を有し、この幅は、その解像限界よりも小さい。 - 特許庁

A recording pattern with size of a resolution limit or below can be reproduced with signal intensity equal to that of a recording pattern whose size is equal to and more than the resolution limit through the formation of the ring shaped specific region.例文帳に追加

このリング状の特異領域によって解像限界以下の大きさの記録パターンをそれ以上の大きさの記録パターンと同等の信号強度で再生することが可能となる。 - 特許庁

The photo mask 3 is constituted of a pattern 3a which is formed on a region where the resist 2 is to be eliminated and has line width more than or equal to resolution limit and a pattern 3b having line width rougher than or equal to the resolution limit.例文帳に追加

フォトマスク３は、レジスト２を除去しようとする領域に形成した解像限界以上の線幅のパターン３ａと、解像限界以下の線幅のパターン３ｂとからなる。 - 特許庁

However, by varying the limit resolution in accordance with a resolution of a display device of the destination composite terminal device, flexibility can be provided to a range of the resolution of image data that can be transmitted.例文帳に追加

ただし、制限解像度を相手先の複合端末機の表示装置の解像度に合わせて可変とすることにより、送信可能な画像の解像度の幅に融通性を持たせることができる。 - 特許庁

To provide a wiring pattern having a substantially identical wiring width by using a super resolution technology able to realize a fine pattern beyond the resolution of an exposure apparatus by combining process technologies without raising the resolution limit of the exposure apparatus.例文帳に追加

露光装置の解像度を超える微細パターンを、露光装置の露光限界を上げることなくプロセス技術を組み合わせて実現する超解像技術を用いて、略同一の配線幅を有する配線パターンを提供する。 - 特許庁

The new Cs-corrected HREM/STEM instrument aims to provide an HREM information limit and HAADF resolution close to 0.1 nm. 例文帳に追加

新型のCsが補正されたHREM/STEM装置は、0.1 nmに近いHREMのインフォーメーションリミットとHAADFの分解能を提供することを目指す(目標とする)。 - 科学技術論文動詞集

To provide a scanning line interpolation device with which a high resolution sequential scanning signal can be obtained without providing a special limit in the motion vector detection.例文帳に追加

動きベクトル検出に特殊な制限を設けなくても良く、高解像度な順次走査信号を得ることができる走査線補間装置を提供する。 - 特許庁

To form a line-and-space pattern having a fine pitch smaller than the resolution limit of exposure technology.例文帳に追加

露光技術の解像度の限界よりも微細なピッチを有するラインアンドスペースパターンを形成可能なようにする。 - 特許庁

The near-field light probe 1 having resolution exceeding a light diffraction limit is realized by utilizing the component.例文帳に追加

この成分を利用することによって、光の回折限界を超える分解能をもつ近視野光プローブを実現した。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device of a substrate surface capable of speedily inspecting substrate which includes a pattern below a resolution limit of light.例文帳に追加

光の解像限界以下のパターンを含む基板を高速に検査することが可能な基板表面のパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

To form the pattern of a film to be processed having a space between minute patterns exceeding resolution limit of a mask layer such as a resist.例文帳に追加

レジストなどマスク層の解像限界を超えた微細なパターン間スペースを有する被加工膜のパターンを形成可能にする。 - 特許庁

To provide a method of creating an electronic beam drawing data for improving the resolution limit without reducing the throughput.例文帳に追加

スループットの低下を招かずに、解像度限界の向上を図るための電子ビーム描画データの作成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a device quantizing an input picture element value by a non-binary system when there is a limit to resolution of a display device.例文帳に追加

ディスプレイ装置の解像度に限界がある場合などに、入力画素値を非２進方式で量子化する装置を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method of a fine pattern capable of forming a line pattern having a narrower line width than a resolution limit of an exposure device.例文帳に追加

露光装置の解像限界よりも狭い線幅を有するラインパターンを形成可能な微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device having a pattern smaller than resolution limit of a photolithography device.例文帳に追加

写真製版装置の解像限界よりも小さなパターンを有する半導体装置の製造方法を提供することを主要な目的とする。 - 特許庁

To provide a near field rotatory polarization measuring instrument having a spatial resolution of light diffraction limit or more.例文帳に追加

本発明の目的は光の回折限界以上の空間分解能を有する近接場旋光測定装置を提供することにある。 - 特許庁

To form a fine pattern exceeding the resolution limit of an exposure apparatus by using a lithography process without performing overlay exposure.例文帳に追加

重ね合わせ露光を行うことなくリソグラフィ・プロセスを用いて、露光装置の解像限界を超えるような微細パターンを形成する。 - 特許庁

Then, when the determined frame rate exceeds the upper limit of the possible frame rate for the resolution, a warning is issued to a user.例文帳に追加

そして、決定されたフレームレートが、前記解像度で取り得るフレームレートの上限を超えた場合に、ユーザに警告を発する。 - 特許庁

The slit 3 is composed of a line-and-space pattern P having a pitch smaller than the resolution limit of the reducing stepper.例文帳に追加

スリット３を、縮小投影露光装置の解像限界以下のピッチを有するラインアンドスペースパターンＰにより構成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which can regularly form patterns of a size smaller than a limit of resolution.例文帳に追加

解像度限界より小さい寸法のパターンを規則的に形成する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a pattern including an aperiodic part finer than the resolution limit of a UV exposure apparatus efficiently.例文帳に追加

紫外光露光装置の解像限界よりも微細な非周期的な部分を含むパターンを効率的に形成する。 - 特許庁

To provide a formation method of a fine pattern capable of further improving CD uniformity of a fine pattern having a pitch smaller than a resolution limit.例文帳に追加

解像限界以下のピッチを持つ微細パターンのＣＤ均一性を、より良好にできる微細パターンの形成方法を提供すること - 特許庁

To provide a formation method of a fine pattern which can improve uniformity of a pattern finer than the limit of exposure resolution.例文帳に追加

露光解像度の限界より微細なパターンの均一性を改善することができる微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁