「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(111ページ目) - Weblio英語例文検索

The second diffusion layer, which is connected to the pad to which a signal is transferred, forms, together with the first diffusion layer, a first diode.例文帳に追加

上記信号が伝達されるパッドに接続された上記第２拡散層は上記第１拡散層と第１ダイオードを形成する。 - 特許庁

The dielectric sheet is composed by including a first layer 210 containing a photosensitive substance and a second layer 220 containing a non-photosensitive substance.例文帳に追加

感光性物質を含む第１層２１０と、非感光性物質を含む第２層２２０と、を含んで誘電体シートを構成する。 - 特許庁

The first mixture layer and the second mixture layer are then compressively molded in their thickness direction by a press machine 14 as shown in (d).例文帳に追加

次いで、（ｄ）に示すように、プレス機１４で第一混合体層及び前記第二混合体層の厚さ方向を圧縮成形する。 - 特許庁

The gate insulating films are provided on the side surfaces of the trenches reaching the first-conductive-type base layer from the surface of the second-conductive-type base layer.例文帳に追加

ゲート絶縁膜は第２導電形ベース層の表面から第１導電形ベース層に達するトレンチの側壁に設けられた。 - 特許庁

A belt reinforcing structure (belt package) 20 comprises a first cut belt layer 24 and a second cut belt layer 26 disposed at the radial outside.例文帳に追加

ベルト補強構造２０は、第１のカットベルト層２４と、その半径方向外側に配置された第２のカットベルト層２６とを含む。 - 特許庁

The bulk scattering coefficient β of the first magnetic layer F1 has a negative value and that β of the second magnetic layer F2 has a positive value.例文帳に追加

第１の磁性層Ｆ１のバルク散乱係数βは負の値であり、第２の磁性層Ｆ２のバルク散乱係数βは正の値である。 - 特許庁

The photoelectric transmitting device 2 has: a substrate 21; a first conductive layer 241; a second conductive layer 242; and a photoelectric conversion chip 25.例文帳に追加

光電送信素子２は、基板２１、第１の導電層２４１、第２の導電層２４２および光電変換チップ２５を有する。 - 特許庁

Also, the upper end face α of the depletion layer enters the inside of the second non p-type layer 105 under the gate electrode G.例文帳に追加

また、ゲート電極Ｇの下においては空乏層の上端面αは、第２非ｐ型層１０５の内部にまで入り込んでいる。 - 特許庁

The liquid crystal display device includes a liquid crystal cell 1, a back light device 2, a first light diffusion layer 3, a first polarizing plate 4, and a second light diffusion layer 5.例文帳に追加

液晶セル１と、バックライト装置２と、第１光拡散層３と、第１偏光板４と、第２光拡散層５とを設ける。 - 特許庁

The light guide plate includes its sheet-like body part 40, having a first layer 46 and a second layer 47 fitted adjacent to each other.例文帳に追加

導光板は、互いに隣接して設けられた第１層４６および第２層４７を有するシート状の本体部４０を有する。 - 特許庁

The semiconductor device includes a GaN layer 10, first and second insulating layers 13 and 14, an electrode layer, and an FP electrode 17.例文帳に追加

半導体装置は、ＧａＮ層１０と第１および第２の絶縁層１３、１４と電極層とＦＰ電極１７とを備える。 - 特許庁

Both the ends 132 are made of nickel whose mechanical strength is higher than that of the first metallic heat generating layer 135 and the second metallic heat generating layer 136.例文帳に追加

両端部１３２は、第１金属発熱層１３５と第２金属発熱層１３６より機械的強度が高いニッケルからなる。 - 特許庁

The second metal wiring layer is patterned to form a groove for exposing a portion of an upper surface of the first metal wiring layer.例文帳に追加

第２のメタル配線層は、第１のメタル配線層の上面の一部を露出させるための溝を形成するようにパターニングされている。 - 特許庁

The first gate electrode and the second semiconductor layer are formed in the same layer as each other, and each of them contains a polycrystalline silicon.例文帳に追加

また、前記第１ゲート電極及び前記第２半導体層は互いに同一層に形成されて、各々多結晶シリコンを含む。 - 特許庁

The first insulating layer 13 includes a material having a smaller dielectric constant than a material forming the second insulating layer 14.例文帳に追加

第１の絶縁層１３は、第２の絶縁層１４を構成する材料の誘電率よりも小さい誘電率を有する材料を含む。 - 特許庁

Since the second combustible fiber layer 132 is a fiber layer of combustible acrylic fibers, a portion near a flame is firstly burnt and then the fire is spread.例文帳に追加

第２可燃繊維層１３２は、可燃性のアクリル繊維の繊維層であるので、火炎に近い箇所から燃え始めて延焼する。 - 特許庁

A relief pattern 1' is formed by exposing and developing the resin layer 1 (second resin layer), whereby the objective letterpress printing plate is obtained.例文帳に追加

次いで、樹脂層１（第２の樹脂層）を露光して現像することで凸パターン１’を形成することによって印刷用凸版を得る。 - 特許庁

A stripe-like ridge part 6a extending between resonator end faces is formed on the second semiconductor layer 6 and the contact layer 7.例文帳に追加

第二半導体層６及びコンタクト層７には、共振器端面間に延在するストライプ状のリッジ部６ａが設けられている。 - 特許庁

The second metal layer is formed on the upper surface of the semiconductor substrate and is arranged with an interval on the side of the first metal layer.例文帳に追加

第２金属層は、半導体基板の上面に形成されており、第１金属層の側方に間隔を空けて配置されている。 - 特許庁

The GND layer 26A of the first substitute switch 8A and the GND layer 26B of the second substitute switch 8B are connected to overlap with each other.例文帳に追加

第１のサブスイッチ８ＡのＧＮＤ層２６Ａと第２のサブスイッチ８ＢのＧＮＤ層２６Ｂとは、互いに重ねるように接続される。 - 特許庁

Subsequently, a second plating layer 19 consisting of an Ni plating film substantially containing no B is formed on the first plating layer 18.例文帳に追加

次いで、第１のめっき層１８上に、Ｂを実質的に含まないＮｉめっき膜からなる第２のめっき層１９を形成する。 - 特許庁

Subsequently, a second plating layer 19 consisting of an Ni plating film substantially containing no P is formed on the first plating layer 18.例文帳に追加

次いで、第１のめっき層１８上に、Ｐを実質的に含まないＮｉめっき膜からなる第２のめっき層１９を形成する。 - 特許庁

(E) After the process (D), the first layer 20D is joined to the second layer 20U by melting joint or positive-electrode joint by heating.例文帳に追加

（Ｅ）工程（Ｄ）の後、加熱による溶融接合または陽極接合により、第一の層２０Ｄと第二の層２０Ｕとを接合する。 - 特許庁

Each of the first catalyst layer 22 and the second catalyst layer 24 contains catalyst (for example, platinum), carbon and ionomer (for example, nafion).例文帳に追加

第１の触媒層２２、および、第２の触媒層２４は、それぞれ、触媒（例えば、白金）とカーボンとアイオノマ（例えば、ナフィオン）とを含む。 - 特許庁

Similarly, in the wiring layers L3 to L11, first inner-layer lands 6b to 6j and second inner-layer lands 7b to 7j are formed, respectively.例文帳に追加

同様に、配線層Ｌ３〜Ｌ１１には、第一の内層ランド６ｂ〜６ｊ及び第二の内層ランド７ｂ〜７ｊが各々形成される。 - 特許庁

The second STI separating layer 33 is used to electrically separate the transistor element 31 together with the first STI separating layer 32.例文帳に追加

第２ＳＴＩ分離層３３は、第１ＳＴＩ分離層３２と共に、トランジスタ素子３１を電気的に分離するために用いられる。 - 特許庁

Furthermore, on the first platinum layer 81, a second platinum layer 82 is deposited, for example, by sputtering method at 250-500°C to 250-500 Å.例文帳に追加

更に第１白金層８１上に第２白金層８２を例えばスパッタリング法で２５０〜５００℃にて２５０〜５００オングストローム堆積する。 - 特許庁

On the layer 2, a second intermediate layer 5 is formed on the regions other than the regions which are positioned on the grooves 4.例文帳に追加

第１の中間接合層２上において、溝４上に位置する領域以外の領域に第２の中間接合層５を形成する。 - 特許庁

The first magnetization fixation layer includes a first and a second magnetic material layers which are separated by a first non-magnetic material layer 114.例文帳に追加

第１磁化固定層は、第１非磁性体層１１４により分離された第１磁性体層及び第２磁性体層を含む。 - 特許庁

The first passivation layer 80 is made of silicon nitride (SiN), the second passivation layer 120 is made of silicon oxynitride (SiON).例文帳に追加

第１のパッシベーション層８０は窒化珪素（ＳｉＮ）で、第２のパッシベーション層１２０はシリコンオキシナイトライド（ＳｉＯＮ）で、それぞれ形成される。 - 特許庁

On the film formation layer 12a by the first film formation, the film formation layer 12b by second and successive film formation thicker than it is formed.例文帳に追加

１回目の成膜による成膜層１２ａの上にそれより厚く２回目以降の成膜による成膜層１２ｂを形成する。 - 特許庁

A second insulating layer 42 is formed on the first insulating layer 41 to cover the wiring pattern W1 and the ground pattern G1.例文帳に追加

第１の絶縁層４１上に配線パターンＷ１およびグランドパターンＧ１を覆うように第２の絶縁層４２が形成される。 - 特許庁

A second resin layer 14 sealing the LED chip 11 is formed on the board 10 and the upper section of the first resin layer 13.例文帳に追加

また、基板１０と第１樹脂層１３との上部には、ＬＥＤチップ１１を封止する第２樹脂層１４が形成されている。 - 特許庁

A light emitting layer is formed on the positive hole transporting layer 16A by for example a relief printing reversed off-set method, and subsequently a second electrode is formed.例文帳に追加

正孔輸送層１６Ａの上に、例えば凸版反転オフセット法により発光層を形成し、続いて、第２電極を形成する。 - 特許庁

At least one of the first surface and the second surface of the CNT/polymer layer is connected to the abutting polymer layer.例文帳に追加

前記ＣＮＴ／ポリマー層の第一表面及び第二表面の少なくとも一方は、隣接する前記ポリマー層と結合されている。 - 特許庁

The first hard bias layer and the second hard bias layer have the same magnetization direction, but bias magnetic fields supplied to the element parts are orthogonal.例文帳に追加

第１ハードバイアス層及び第２ハードバイアス層は、同じ着磁方向であるが各素子部に供給されるバイアス磁界は直交している。 - 特許庁

In the reflection system region 42, image display is made possible by light transmitted by the second color filter layer 34 and reflected by a reflection layer 22.例文帳に追加

反射方式領域42は、第２のカラーフィルタ層34を透過して反射層22で反射された光にて画像表示が可能である。 - 特許庁

Further, a light-shielding layer 313 is formed so as to fill the inside of the second trench TR2 via at least the pinning layer 311.例文帳に追加

そして、少なくともピニング層３１１を介して第２トレンチＴＲ２の内部を埋め込むように、遮光層３１３を形成する。 - 特許庁

The second layer 17B2 is formed in an opening part 23B made in a position corresponding to the first layer 17B1 of the insulating film 22A.例文帳に追加

第２の層１７Ｂ２は、絶縁膜２２Ａの第１の層１７Ｂ１に対応する位置に設けられた開口部２３Ｂ内に形成される。 - 特許庁

Thereafter, the first barrier layer 130 along the bottom of the via 120 is partially or completely removed, and a second barrier layer 240 is formed.例文帳に追加

その後、ビア１２０の底部に沿った第一バリア層１３０は、一部、或いは、完全に除去されて、第二バリア層２４０が形成される。 - 特許庁

The method further comprises the steps of heat-melting the powder 17 thereafter, and electrically connecting the first layer 12 to the second layer 23.例文帳に追加

そして、その後に、はんだ粉末１７を加熱溶融して、第１の導体層１２と第２の導体層２３とを電気的に接続する。 - 特許庁

The etching continues at least until the layer of second membrane support material is removed in the first region to expose the layer of membrane material.例文帳に追加

エッチングは、少なくとも第２の膜支持材料層が第１の領域内で除去されて膜材料層が露出するまで続く。 - 特許庁

Next, in the fourth step, a second insulating resin layer 5 is arranged covering the first insulating resin layer 4 arranged in the third step.例文帳に追加

次に、第４の工程では、第３の工程で覆設された第１絶縁樹脂層４上に第２絶縁樹脂層５が覆設される。 - 特許庁

In addition, the imaging portion 10A has a second impurity layer at a position deeper from the imaging surface rather than the first n-type impurity layer.例文帳に追加

また、撮像部１０Ａは、第１のｎ型不純物層よりも撮像面から深い位置に第２のｎ型不純物層を有する。 - 特許庁

The organic EL element 11 is provided with a first electrode 13, an organic layer 14 containing at least a light-emitting layer, and a second electrode 15.例文帳に追加

有機ＥＬ素子１１は、第１電極１３と、少なくとも発光層を含む有機層１４と、第２電極１５とを備えている。 - 特許庁