「sectional pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The reference dimensions of the plurality of patterns may be obtained by measuring the plurality of patterns by an Atomic Force Microscope: AFM, or alternatively, may be obtained on the basis of sectional shapes or the like of the patterns obtained by applying simulation to semiconductor pattern design data.例文帳に追加

複数パターンの基準寸法は、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：ＡＦＭ）によって、上記複数のパターンを測定することによって得るようにしても良いし、半導体パターンの設計データにシミュレーションを施すことによって得られるパターンの断面形状等に基づいて求めるようにしても良い。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent polymerization curability when exposed to light and high exposure sensitivity and which is capable of forming a color pattern having excellent profile characteristics, a photospacer having excellent cross-sectional shape uniformity and excellent height uniformity, and a protective film having excellent uniformity and hardness even with a short heating time.例文帳に追加

露光時の重合硬化性に優れ、露光感度が高く、短い加熱処理時間でもプロファイル特性に優れる着色パターン、断面形状の均一性および高さ均一性に優れるフォトスペーサー、均一性や硬度に優れる保護膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Lithography equipment has an illumination system for supplying beam of radiation, an array of individually controllable elements that function to give a pattern to a sectional face of the beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target part of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線のビームを供給する照明系と、ビームの断面にパターンを与える働きをする個々に制御可能な要素の配列と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板の目標部分に投影する投影系とを有する。 - 特許庁

The metal thin film 14 is subjected to reactive ion etching treatment, pattern formation being faithful to the mask 17 is carried out by the ion etching, isotropic etching of a radical is utilized for advancing the etching from the gap between the mask 17 and the metal thin film 14, and the sectional shape of a gate electrode 18 is tapered.例文帳に追加

金属薄膜14をリアクティブ・イオン・エッチング処理し、イオンエッチングによってマスク17に忠実にパターン形成し、ラジカルの等方性エッチングを利用してマスク17と金属薄膜14の隙間からエッチングを進行させ、ゲート電極18の断面形状を肩の落ちたテーパ形状にする。 - 特許庁

To provide a method for correcting a defect of a photomask capable of acquiring an excellent cross-sectional shape at the edge part of a pattern of an absorption layer or a light blocking layer after dark defect correction, a method for manufacturing a photomask using it, and a photomask defect correction device for performing the method.例文帳に追加

本発明は、黒欠陥修正後、吸収層または遮光層のパターンの端部にて良好な断面形状が得られるフォトマスクの欠陥修正方法、およびそれを用いたフォトマスクの製造方法、それを実施するためのフォトマスクの欠陥修正装置を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition useful in a process with light having a shorter wavelength than KrF excimer laser light, e.g. F2 excimer laser light (157 nm) or EUV (extreme-ultraviolet radiation 13 nm) as a light source and capable of forming a resist pattern having high resolution and a good sectional shape and to provide a base material with a resist layer of the resist composition.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_2エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供すること。 - 特許庁

Further, by shortening the dry etching time, a pattern of the light shielding film having an excellent sectional shape can be formed.例文帳に追加

透光性基板上に遮光膜を有するフォトマスクブランクにおいて、前記フォトマスクブランクは、前記遮光膜上に形成されるレジストパターンをマスクにしてドライエッチング処理により、前記遮光膜をパターニングするフォトマスクの作製方法に対応するドライエッチング処理用のマスクブランクであって、前記遮光膜は、前記ドライエッチング処理において、前記レジストとの選択比が１を超える材料で構成した。 - 特許庁

To reduce an electrode width and increase an electrode cross sectional aspect ratio for the purposes of expanding a light indent opening face and lowering electrode wiring resistance, a discharge passage is tilted in a coating direction relative to the cell substrate by using the coating head 5 whose nozzles are shaped like a long hole, whereby collision energy at discharge time is alleviated and a desired electrode pattern is obtained.例文帳に追加

光入射開口面の増加と電極配線抵抗の低減という目的から電極幅を低減し電極断面アスペクト比を増大させるため、長孔のノズル形状の塗布ヘッド５を用い吐出流路をセル基板に対して塗布方向に傾けることで、吐出時の衝突エネルギを緩和して所期の電極パターンが得られる。 - 特許庁

The single layer prism sheet comprises a vinyl ester composition as a main structural component and has a prism pattern formed on the surface, wherein a plurality of triangular prisms the cross-sectional figure of which is a triangle having a vertex angle of 70 to 110° are arranged in a pitch of 100 μm or less on one surface of the sheet comprising a vinyl ester composition and further containing a polyfunctional acrylate.例文帳に追加

ビニルエステル組成物を主たる構成成分とし、表面にプリズム形状が形成されてなる単層プリズムシートであって、ビニルエステル組成物、更には多官能アクリレートを併用したシートの片面に、その断面形状が頂角７０〜１１０°の三角形をなす三角柱状のプリズムをピッチ１００μｍ以下で複数並列に設けている。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises an illumination system for providing a projection radiation beam, a support structure for supporting a patterned device that functions to give a pattern on the sectional face of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projector for projecting a patterned beam on the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、投影ビーム中の放射を透過若しくは反射させ、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能するパターン化デバイスを支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影装置とを備えている。 - 特許庁

A film of the photocurable resin composition is preheated under conditions which make the temperature of a normal-thickness part higher than that of a thicker part, and the film is developed until the thicker part is thoroughly removed by development and a predetermined vertical cross-sectional shape of a predetermined cured pattern is obtained.例文帳に追加

前記感光硬化型樹脂組成物として、予備加熱の温度を高くすると現像速度が低下するものを用い、また前記肥厚部よりも肥厚部以外の部分を温度の高い条件で予備加熱し、さらに前記肥厚部の現像残りがなく、また前記所定の硬化パターンの垂直横断面形状が所定の形状になるまで現像する。 - 特許庁

The panel is constituted of a frame body having a square or rectangular window portion, or the like and elongate pieces having a small cross sectional shape, a great number of pieces a filled and fit into the window portion of the frame body, a pattern can be created and shown by using the end surfaces of the fit pieces as pixels and changing end properties of the pieces.例文帳に追加

正方形あるいは長方形等の窓部を有する枠本体と、小断面形状の細長い駒とから構成され、前記枠本体の窓部に多数の駒を充填嵌め込みしたものであって、嵌め込んだ駒の各端面を画素として、各駒の端部性状を違えることによって図柄を創出し、表現できるようにした。 - 特許庁

The transparent material for forming the lattice structure is formed of a silicon nitride film and has a thickness of 800 nm or less, and provides a wide band quarter-wave plate which has a thin film thickness and is easily processed, and accordingly can enhance accuracy of a required phase difference and high transmissivity, by making a cross-sectional shape of each line pattern into a trapezoidal shape according to required characteristics.例文帳に追加

本発明は、格子構造を形成するための透明性材料は、窒化シリコン膜からなり、その厚さは８００ｎｍ以下であり、要求特性に応じ各ラインパターンの断面形状を台形形状とすることにより、薄い膜厚で加工しやすく、従って必要な位相差と高い透過率の精度を向上することができる広帯域１／４波長板を提供する。 - 特許庁

The lithographic device is equipped with an illumination system constituted to adjust an irradiation beam, a supporting body constituted to support a patterning device capable of forming a patterned irradiation beam by setting a pattern on the sectional surface of the irradiation beam, a substrate table constituted to support a substrate, and a projection system constituted to project the patterned irradiation beam to the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを備える。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam; a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto an elongate target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されたパターニング・デバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の細長い目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device (formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam); a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターニング・デバイス（パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されている）を支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁