| 例文 |
vacuum processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1013件
VACUUM PLASMA PROCESSING APPARATUS HAVING CONNECTOR FOR ELECTRODE CONNECTION例文帳に追加
電極接続用コネクタを備えた真空プラズマ処理装置 - 特許庁
VACUUM PROCESSING SYSTEM AND ELECTROMAGNETIC SHIELD UNIT AND INCLINATION COIL SPRING例文帳に追加
真空処理装置と電磁シールド装置及び傾斜コイルばね - 特許庁
VACUUM PYROLYSIS PROCESSING APPARATUS AND CONTINUOUS LIQUEFACTION CARBONIZATION EQUIPMENT例文帳に追加
減圧熱分解処理装置及び連続油化炭化設備 - 特許庁
VACUUM PROCESSING APPARATUS, AND OPERATION METHOD OF THE SAME例文帳に追加
真空処理装置および真空処理装置の運転方法 - 特許庁
To provide a method of cleaning a vacuum excitation tube while keeping a vacuum state of the vacuum excitation tube in cleaning the vacuum excitation tube, and to provide a vacuum processing apparatus using the method.例文帳に追加
真空励起管の洗浄に際し、該真空励起管の真空状態を維持しつつ、該真空励起管を洗浄する方法、及び、この方法を用いる真空処理装置を提供する。 - 特許庁
ADHESION PREVENTING PLATE, VACUUM PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR RECYCLING ADHESION PREVENTING PLATE例文帳に追加
防着板、真空処理装置、及び防着板の再生方法 - 特許庁
To simplify substrate transfer processes of a vacuum processing apparatus.例文帳に追加
真空処理装置の基板移送工程の単純化を図ること。 - 特許庁
PROCESSING DEVICE ALSO FUNCTIONING AS SILENCER USED FOR BLOWER, VACUUM PUMP, AND THE LIKE例文帳に追加
ブロワ、真空ポンプ等に用いるサイレンサ兼用型処理装置 - 特許庁
ELECTRIC CURRENT INTRODUCTION TERMINAL AND VACUUM PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME例文帳に追加
電流導入端子及びこれを有する真空処理装置 - 特許庁
SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, SUBSTRATE TRANSFER METHOD, AND VACUUM PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
基板搬送装置、基板搬送方法及び真空処理装置 - 特許庁
DRY VACUUM PUMP AND PROCESSING CHAMBER PRESSURE REDUCTION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ドライ真空ポンプおよびそれを用いた処理室減圧方法 - 特許庁
BIO SAMPLE PROCESSING APPARATUS AND METHOD USING VACUUM CHAMBERS例文帳に追加
真空チャンバーを用いたバイオ試料処理装置及びその方法 - 特許庁
ELECTROSTATIC ATTRACTION DEVICE AND VACUUM PROCESSING DEVICE USING THE ATTRACTION DEVICE例文帳に追加
静電吸着装置及びこれを備えた真空処理装置 - 特許庁
TRANSPORTATION DEVICE, ITS CONTROL METHOD, AND VACUUM PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
搬送装置及びその制御方法並びに真空処理装置 - 特許庁
CARRYING DEVICE, METHOD OF CONTROLLING THE SAME, AND VACUUM PROCESSING DEVICE例文帳に追加
搬送装置及びその制御方法並びに真空処理装置 - 特許庁
To provide a technology that can carry out vacuum processing without damages.例文帳に追加
ダメージの無い真空処理を行なえる技術を提供する。 - 特許庁
Substrates are carried into a plurality of vacuum processing units VU connected to the one vacuum processing unit VU, in different timing.例文帳に追加
1つの真空処理ユニットVUに接続された複数の真空処理ユニットVUには異なるタイミングで基板が搬入される。 - 特許庁
To provide a vacuum spray dryer carrying out heating and drying processing in a vacuum state, and having a structure with superior processing efficiency.例文帳に追加
真空状態で加熱乾燥処理を行うとともに、処理効率に優れた構造を有する真空スプレードライヤを提供する。 - 特許庁
To enhance throughput in a vacuum processing apparatus for vacuum-processing a wafer being a semiconductor substrate in a vacuum chamber after orienting the wafer in a predetermined direction.例文帳に追加
半導体基板であるウエハに対して、ウエハの向きを所定の向きに合わせた後、真空処理室にて真空処理を行うに装置において、スループットを高めること。 - 特許庁
To provide a vacuum chamber in which strength as a vacuum container can be ensured while employing a division structure, and to provide a vacuum processing device equipped with the vacuum chamber.例文帳に追加
分割構造を採用しながら真空容器としての強度を確保することが可能な真空チャンバおよび該真空チャンバを備えた真空処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a vacuum chamber capable of preventing adhesion of particles to an object to be processed, while keeping the cost of the vacuum chamber low, a vacuum processing apparatus equipped with the vacuum chamber, and to provide a method of manufacturing the vacuum chamber.例文帳に追加
真空チャンバのコストを抑えつつ被処理体へのパーティクルの付着を防止可能な真空チャンバ、該真空チャンバを備える真空処理装置及び該真空チャンバの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a vacuum carburization processing method and a vacuum carburization processing apparatus capable of ensuring the quality by suppressing the coarsening of crystal grains caused by the high-temperature processing even when the processing time is shortened by expediting advancement of carburization and diffusion by raising the processing temperature.例文帳に追加
処理温度を高くすることにより浸炭及び拡散の進行を速めて処理時間を短縮した場合にも高温処理による結晶粒の肥大化を改善して品質を確保する。 - 特許庁
To obtain a vacuum processing system performing processing by generating an electric field in a vacuum container, e.g. a plasma processing system, in which electromagnetic shield effect is ensured over a long term without damaging vacuum shield effect.例文帳に追加
プラズマ処理装置などの真空容器内で電界を発生させて処理を行う真空処理装置において、真空シール効果を損なうことなく、長期にわたって電磁シールド効果を確保する。 - 特許庁
To suppress scraping of a interior wall surface of a vacuum processing chamber or erosion of components in the vacuum processing chamber by suppressing self-bias arising in the interior wall surface of the vacuum processing chamber.例文帳に追加
真空処理室内壁表面に発生する自己バイアスを抑制することにより、真空処理室内壁表面の削れあるいは真空処理室内パーツの消耗を抑制することを課題とする。 - 特許庁
To provide an in-vacuum welding processing apparatus which can make a vacuum chamber more compact than before.例文帳に追加
従来よりも真空チャンバを小型化することが可能な真空内溶接処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a vacuum processing device effectively cooling a heating source in a vacuum chamber.例文帳に追加
真空室内の発熱源を有効に冷却することができる真空処理装置を提供すること。 - 特許庁
A vacuum part 132 executes the vacuum processing in the temporary memory 12 not but in the database 11.例文帳に追加
バキューム部132は、データベース11においてではなく、テンポラリメモリ12において、バキューム処理を実行する。 - 特許庁
COLD CATHODE IONIZATION VACUUM GAUGE, VACUUM PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND DISCHARGE STARTING AUXILIARY ELECTRODE例文帳に追加
冷陰極電離真空計及びそれを備えた真空処理装置並びに放電開始補助電極 - 特許庁
WORK HOLDING DEVICE OF VACUUM PROCESSING DEVICE AND MANUFACTURE OF ELEMENT例文帳に追加
真空加工装置の被加工品保持装置及び素子の製造方法 - 特許庁
UTILIZATION METHOD OF ION GUN AND VACUUM PROCESSING DEVICE EQUIPPED WITH ION GUN例文帳に追加
イオン銃、イオン銃を備える真空加工装置を利用する方法 - 特許庁
To provide a vacuum processing apparatus preventing mounting of foreign matter on a light transmissive member arranged on a bottom side of the vacuum processing apparatus.例文帳に追加
装置底側に配置した光透過性部材上に異物が載ることを防止した真空処理装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
CARRYING MECHANISM, VACUUM DEVICE, FILM FORMING DEVICE AND PROCESSING DEVICE例文帳に追加
搬送機構、真空装置および成膜装置ならびに処理装置 - 特許庁
VACUUM PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR ADJUSTING DISTANCE BETWEEN ELECTRODE FACES OF THE SAME例文帳に追加
真空処理装置およびその電極面間隔調整方法 - 特許庁
PHOTOCATALYST-COATED GATE VALVE, AND VACUUM PROCESSING DEVICE HAVING THE SAME例文帳に追加
光触媒被覆ゲートバルブおよびこれを備えた真空処理装置 - 特許庁
METHOD OF PLASMA STABILIZATION AND DUMMY SUBSTRATE IN VACUUM PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
真空処理装置におけるプラズマ安定化方法及びダミー基板 - 特許庁
VACUUM PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF DETACHING SUBSTRATE PROCESSED THEREIN例文帳に追加
真空処理装置およびそれの処理済み基板の取り外し方法 - 特許庁
A plurality of processing chambers 30 in each of which a substrate is vacuum processed are arranged around a vacuum conveyance chamber 13 maintained in a vacuum atmosphere.例文帳に追加
真空雰囲気に維持された真空搬送室13の周囲に、基板に対して真空処理が行なわれる複数の処理室30を設ける。 - 特許庁
DEVICE FOR GAS DISPERSION, VACUUM PROCESSING APPARATUS, METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE AND METHOD FOR FORMING CARBON NANOTUBE例文帳に追加
ガス分散用装置、真空処理装置、基板の処理方法及びカーボンナノチューブの形成方法 - 特許庁
Then, the substrate conveying device 1, and a vacuum processing apparatus having a vacuum conveying chamber 21, a load lock chamber and a vacuum processing chamber 2 are arranged in one body on the same base 3.例文帳に追加
そして、この基板搬送装置1と、真空搬送室21と、ロードロック室及び真空処理室とを有する真空処理装置2とを、同一の基台3上に一体に配置している。 - 特許庁
To provide a vacuum processing device capable of suppressing the generation of gas or particles in a vacuum chamber as compared with prior art, and capable of performing good vacuum processing.例文帳に追加
従来に較べて真空チャンバ内におけるガスの発生やパーティクルの発生を抑制することができ、良好な真空処理を行うことのできる真空処理装置を提供する。 - 特許庁
Of a plurality of vacuum chambers, a vacuum chamber 2 closest to the atmospheric pressure side is vented to the atmospheric pressure, and a vacuum chamber 3 on the vacuum processing device side adjacent to the chamber 2 is roughly exhausted.例文帳に追加
複数の真空チャンバー中、大気圧側に最も近い真空チャンバー2を大気圧にベントすると共に、2に隣接する真空処理装置側の真空チャンバー3を荒引排気する。 - 特許庁
This inside-cleanable vacuum device comprises a processing vessel 2, a vapor ejector 4, a heat exchanger 5, a vacuum pump 6 and a cleaning liquid supply means 10.例文帳に追加
処理槽2、蒸気エゼクタ4、熱交換器5、真空ポンプ6、洗浄液供給手段10を備える。 - 特許庁
To monitor an operating condition adapted to vacuum processing in a vacuum device attached with a cryopump.例文帳に追加
クライオポンプが取り付けられる真空装置での真空処理に適合した運転状態のモニタリングを実現する。 - 特許庁
Consequently, the pressure in the chamber CH of the one vacuum processing unit VU is further reduced by a high-vacuum pump 62.例文帳に追加
これにより、一方の真空処理ユニットVUのチャンバCHが、高真空ポンプ62によりさらに減圧される。 - 特許庁
ATTRACTION APPARATUS, VACUUM PROCESSING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SUCTION APPARATUS例文帳に追加
吸着装置、真空処理装置及び吸着装置の製造方法 - 特許庁
To provide a low-cost vacuum processing device with cycle time shortened.例文帳に追加
低コストで、かつ、タクトタイムの短い真空処理装置を提供すること。 - 特許庁
SUBSTRATE TRANSFER DEVICE AND METHOD, AND VACUUM PROCESSING DEVICE例文帳に追加
基板搬送装置および基板搬送方法ならびに真空処理装置 - 特許庁
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