「vacuum processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To reduce a processing time for cleaning and to reduce degradation of a component within a vacuum chamber with plasma in plasma cleaning.例文帳に追加

プラズマクリーニングにおいて、クリーニングの処理時間を短縮すると共に、プラズマによる真空チャンバ内の部品の劣化を低減する。 - 特許庁

A water seal-type vacuum pump 43 is disposed as a pressure reducing means 3 for sucking and discharging a gas in the processing tank 2 to the external.例文帳に追加

処理槽２内の気体を外部へ吸引排出する減圧手段３として、水封式の真空ポンプ４３を備える。 - 特許庁

Then, the metal wiring is exposed to an inert gas plasma in the same processing apparatus in which a vacuum state in this dry etching step is maintained.例文帳に追加

次に、このドライエッチング工程における真空の状態が維持される同一処理装置内で、不活性ガスプラズマに晒す。 - 特許庁

Accordingly, the skin 4 can be well bonded to the surface 2a of the core material 2 after drilling processing by vacuum forming.例文帳に追加

従って、孔加工後の芯材２の表面２ａに対して、表皮４を真空成形により良好に貼着することができる。 - 特許庁

A pressure reducing means 6 for sucking and discharging the fluid in the processing tank 3 to the external comprises a water seal type vacuum pump 33.例文帳に追加

処理槽３内の流体を外部へ吸引排出する減圧手段６は、水封式の真空ポンプ３３を備える。 - 特許庁

To provide a leak checking method whereby a closing gate between a processing chamber and a preliminary vacuum chamber can be checked for leaks.例文帳に追加

処理室と真空予備室の間の開閉ゲートのリークを確認できるリークチェック方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To reduce the amount of generation of foreign particles by improving the maintainability of a gas diffuser mounting portion of vacuum processing equipment.例文帳に追加

真空処理装置のガスディフューザー取り付け部のメンテナンス性向上させることによって、異物粒子の発生量を低減する。 - 特許庁

2. Equipment designed to form an integrated system in a vacuum environment for sequential multiple wafer processing 例文帳に追加

（二）　複数のウエハーの処理を連続して行うために真空状態で一体化された装置を構成するように設計したもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

An ECU18 vacuum-seals the evaporated fuel processing system at a predetermined negative pressure by means of the control of valves 10, 11, 14, 17.例文帳に追加

ＥＣＵ１８は、各バルブ１０，１１，１４，１７の制御によって、蒸発燃料処理系を所定負圧で負圧封印する。 - 特許庁

To decrease the number of film forming chambers when film formation processing for different film thicknesses is performed by a cluster type vacuum film forming device.例文帳に追加

クラスター型真空成膜装置において、膜厚を異にする成膜処理を行う場合の成膜室の個数を低減する。 - 特許庁

At melting of a solid semiconductor material in the crucible 2, a processing chamber 5 is evacuated by a vacuum pump 25.例文帳に追加

るつぼ２中で固体の半導体材料を溶融させる際には、真空ポンプ２５によって、処理室５の真空排気が行われる。 - 特許庁

To provide a load lock and dry vacuum pump assembly for performing low pressure exhaustion of a load lock chamber at low cost without depending on batch processing.例文帳に追加

バッチ処理によらないで、ロードロック室内を低コストで低圧排気するロードロックとドライ真空ポンプの組立体の提供。 - 特許庁

To provide a light processing device using a dielectric barrier discharge lamp of high light takeout efficiency to vacuum UV-light.例文帳に追加

真空紫外光の光取出し効率が高い誘電体バリア放電ランプを使った光処理装置を提供すること - 特許庁

Since the body 11 is held therein in vacuum and can be conveyed, the container can be used also as a processing chamber.例文帳に追加

容器本体１１は、内部を真空に保持され、搬送可能であるので、基板搬送容器と処理室とを兼ねることができる。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus in which invasion of dust into a process chamber is prevented and the size of an automatic pressure regulator is made small.例文帳に追加

処理室へのゴミの混入を防ぎ、自動圧力調節器を小型化することができる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a compact and simple temperature control device capable of directly controlling the temperature of an object in a vacuum chamber, and high in thermal efficiency, and to provide a vacuum processing device including the same.例文帳に追加

真空チャンバ内で対象物を直接に温度制御でき、熱効率が高く、かつ小型で簡易的な温度制御装置、およびこの温度制御装置を備えた真空処理装置を提供する。 - 特許庁

This stirring dispersion apparatus is equipped with a hermetically closed container 3 which has a hollow interior, housing a liquid 7 and a solid 6 and is held to a vacuum state, and the vacuum degree of which can be regulated correspondingly to the necessity of the processing of a mixture to be stirred.例文帳に追加

液体７と固体６が設置され、真空状態である中空内部と、真空度が撹拌する混合物の加工の必要に応じて調節可能な密閉容器３とを備える。 - 特許庁

A hydrophobic organic high polymer film, comprising a polyimide resin film containing a fluorine atom is formed on the surface of a member 1 exposed to vacuum in a vacuum processing chamber by deposition polymerization reaction.例文帳に追加

真空処理室の真空中に露出される部材１の表面に、フッ素原子を含有するポリイミド樹脂膜から成る疎水性有機高分子膜を蒸着重合反応により形成する。 - 特許庁

To obtain a plasma processing method and apparatus which heats a location within a vacuum to be irradiated with high frequency microwave for plasma excitation without reducing the plasma density within the vacuum bath.例文帳に追加

真空槽内のプラズマ密度を低下させることなくこの真空槽のプラズマ励起用の高周波が放射される箇所を加熱するプラズマ処理方法とプラズマ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a continuous vacuum deposition apparatus capable of supplying and driving away a strip winding substrate to which deposition processing is performed and a winding deposition substrate whose deposition processing is completed without discontinuing deposition processing work.例文帳に追加

成膜加工を施す帯状の巻き取り基材や、成膜加工が施された巻き取り成膜基材の供給や搬出が成膜加工作業を中断することなしにできる連続真空成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a batch type vacuum processing apparatus capable of efficiently performing surface processing such as removal of a natural oxide film of a wafer by using remote plasma processing process and capable of reducing deterioration in wafer yield, device loads and so on.例文帳に追加

遠隔プラズマ処理プロセス処理を用い、ウェハの自然酸化膜除去などの表面処理を効率的に行うことができ、ウェハの歩留り悪化や装置負担を軽減し得るバッチ式真空処理装置を提供する。 - 特許庁

The vacuum processing chamber 2 is constituted, such that the surface of the processing object (polysilicon) layer 9b on the sheet base material 9a is conveyed, while facing the planar discharge portion 17a of the processing electrode 17.例文帳に追加

真空処理槽２内において、シート基材９ａ上の処理対象物（多結晶シリコン）層９ｂの表面が、処理用電極１７の面状放電部１７ａと対向して搬送されるように構成されている。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus capable of stably performing vacuum processing by enabling an electrostatic chuck having decreased in attracting power owing to impurity sticking on an attraction surface, to have its original attracting power again by removing the impurity with simple constitution.例文帳に追加

吸着面に付着した不純物に起因して吸着力が低下した静電チャックを、簡単な構成により不純物を除去して吸着力を再生することができ、安定して真空処理を行うことが可能な真空処理装置を提供する。 - 特許庁

A lifting mechanism 161 having two or more lateral bars 162 is provided in the processing vacuum chamber 113, and the lateral bars 162 are moved up and descended with both ends of a substrate on one finger placed on the two lateral bars for vacuum processing of them on a placement table 165.例文帳に追加

処理用真空槽１１３内には複数の横棒１６２を有する昇降機構１６１を設けておき、横棒１６２を上方に移動させ、一本の指上の基板の両端を二本の横棒に載せて降下させ、載置台１６５に載せて真空処理を行う。 - 特許庁

The food machine comprises a water sealing type vacuum pump 4 reducing pressure in a processing tank 2; the heat exchanger 5 cooling steam sucked from the processing tank 2; a water supply means 7 supplying the cooling water for the heat exchanger 5 and sealing water for the sealing water type vacuum pump 4.例文帳に追加

処理槽２内を減圧する水封式真空ポンプ４と、処理槽２から吸引された蒸気を冷却する熱交換器５と、熱交換器５の冷却用水および水封式真空ポンプ４の封水を供給する給水手段７を備える。 - 特許庁

This vacuum drying system 1 comprises a vacuum drying container 11 storing the material to be dried 13, measuring means 21 to 23 measuring a variation in the state of gas inside the vacuum drying container 11, and a data processing means 25 calculating moisture evaporation amount from the material to be dried 13 by processing data measured by the measuring means 21 to 23.例文帳に追加

この真空乾燥システム１は、被乾燥物１３を収容する真空乾燥容器１１と、真空乾燥容器１１内の気体の状態変化を計測する計測手段２１〜２３と、これらの計測手段２１〜２３による計測データを処理して、被乾燥物１３からの水分蒸発量を算出するデータ処理手段２５とを含み構成される。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus provided with a transmission line for transmitting high frequency power of large power which is stably phase controlled for an electrode installed in a vacuum chamber, especially to carry out a film manufacturing process for a large area substrate using plasma, and to provide a high frequency power supplying method in the vacuum processing apparatus.例文帳に追加

本発明の目的は、特にプラズマを用いて大面積基板に対して製膜処理を行うために真空室内部に設置される電極に対して安定的に位相制御された大電力の高周波電力を伝送する伝送線路を備えた真空処理装置、真空処理装置における高周波電力供給方法を提供することである。 - 特許庁

The reticle handler of the lithography interchanges the reticle to be exposed as specified by the user of the lithography tool and includes a vacuum compatible robot, a vacuum chamber for housing the robot, a load rock which loads the reticle and transfers the reticle from an atmospheric pressure to a vacuum, a processing station for processing the reticle, and a reticle library to accumulate at least one exterior reticle.例文帳に追加

リソグラフィツールの、レチクルハンドラーは、リソグラフィツールのユーザによって規定されたように露光されるレチクルを交換し、真空コンパチブルロボット、ロボットをハウジングする真空室、レチクルを入力して、レチクルを大気圧から真空に搬送するロードロック、レチクルをプロセッシングするプロセッシングステーション、少なくとも１つの外部レチクルを蓄積するためのレチクルライブラリを含む。 - 特許庁

Since the first temperature leveling is performed in the vacuum cartridge 12 regardless of a state of the vacuum chamber 21 performing vacuum processing, a temperature drop in the replacing component is restrained without directly contacting air cooled by the adiabatic expansion with the replacing component 11 in the sub-chamber 22.例文帳に追加

真空処理を行う真空チャンバ２１の状況によらずに、第１の温度ならしを真空カートリッジ１２内で行うため、サブチャンバ２２内では、断熱膨張により温度低下した空気が交換部品１１に直接触れることなく、交換部品の温度低下が抑えられる。 - 特許庁

To provide a vacuum processing device and a method by preventing the inside gas from mixing in the mutual vacuum interior of a room so as not to pollute a mutual vacuum chamber, when a processed object is carried-in/out between two vacuums chambers divided with an opening and closing means.例文帳に追加

開閉手段で仕切られた２つの真空室間で被処理物を搬出入する際に、それぞれの真空室の内部のガスが互いの真空室内で混じり合うことを防止し、互いの真空室を汚染することのない真空処理装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide an evacuation device and a vacuum processing device that restrict quantity of foreign matter sucked from inside a vacuum chamber to an exhaust means side and that do not decrease effective exhaust rate of the exhaust means when the vacuum chamber is evacuated.例文帳に追加

本発明は、真空チャンバー内から排気手段側に吸引される異物の量を低く抑えるとともに、真空チャンバーを真空引きする際の排気手段の有効排気速度を低下させない真空排気装置及びそれを備えた真空処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a processing chamber furnished with a evacuating system, in which the flowing-in of a gas such as the air into the processing chamber is prevented, when a high vacuum probe is removed.例文帳に追加

真空排気システムを備えた処理チャンバであって、高真空測定子を取り外す際に、処理チャンバ内に空気等のガスが流入しないようにした処理チャンバを提供する。 - 特許庁

Consequently, members such as support pins are not abutted on the lower surface of the substrate 90, and the processing state on the surface of the substrate 90 can be uniformed in the vacuum drying processing.例文帳に追加

このため、基板９０の下面に支持ピン等の部材が当接することはなく、減圧乾燥処理時における基板９０表面の処理状態を均一化することができる。 - 特許庁

The display liquid S before processing is degassed under a reduced pressure with a vacuum pump 70 while imparting a supersonic vibration to the display liquid S before processing with a thermostatic water bath 60 equipped with a supersonic transducer.例文帳に追加

超音波振動子付恒温水槽６０により超音波振動を処理前表示液Ｓに付与しつつ、真空ポンプ７０により処理前表示液Ｓを減圧脱気する。 - 特許庁

The vacuum processing apparatus has: a conveyance chamber; a plurality of processing chambers; and a load lock chamber, and further has: a transfer stage 2 parallely prepared in a transfer chamber; and a conveyance robot which holds a substrate W.例文帳に追加

真空処理装置は、搬送室と、複数の処理室及びロードロック室とを備え、更に移送室内に並設した移送ステージ２と、基板Ｗを保持する搬送ロボットとを有する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus which is excellent in productivity, which can be made compact and stable in operation and can also be used even in the field requiring heat treatment other than evacuation processing.例文帳に追加

コンパクト化及び稼動安定化を図ると共に、真空処理以外の加熱処理などが必要な分野であっても使用可能である生産性に優れた真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum processor and a processing method that can realize uniform processing between a plurality of substrates by more evenly supplying electric power to a plurality of high frequency electrodes.例文帳に追加

複数の高周波電極へのより均等な電力供給を実現することにより、複数基体間の均一処理を実現可能な真空処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The processing gas (a first gas) formed of a compound including silicon is introduced into a vacuum chamber to expose a semiconductor substrate 10 arranged in the chamber to a first gas atmosphere (silicon processing step).例文帳に追加

真空チャンバにシリコン含有化合物からなる処理ガス（第１のガス）を導入し、チャンバ内に配された半導体基板１０を第１のガス雰囲気に晒す（シリコン処理工程）。 - 特許庁

Even if a large load is applied on the exterior covering material such as fin bending, the channel processing and bending processing of the vacuum heat insulating material, the generation of cracks on the aluminum foil is suppressed and barrier properties of the aluminum foil are ensured.例文帳に追加

ひれ折りや真空断熱材の溝加工や折り曲げ加工など外被材に大きな負荷がかかる場合においても、アルミ箔のクラック発生を抑制、バリア性を確保する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus capable of attaining compatibility between the decrease for the number of foreign particles deposited on a sample in a lock chamber and improvement of the throughput.例文帳に追加

ロック室で被処理体に付着する異物粒子数の低減とスループットの向上を両立させる真空処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which has superior mass-productivity by controlling a deposition film deposited on a vacuum vessel inner wall.例文帳に追加

真空真空容器内壁に堆積する堆積膜を制御することにより量産安定性に優れたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide vacuum processing equipment, wherein abnormality, malfunction and a fault are restored in a short time to suppress a decrease in an operating rate.例文帳に追加

異常や誤動作、故障からの復旧をより短時間で行え、稼働率の低下を抑制できる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum cleaner, attaining the supremacy of digital processing of an operational input and intuitive operation feeling of operational input.例文帳に追加

操作入力のデジタル的な処理の優位性と、操作入力の直感的な操作感を得ることができる電気掃除機を提案する。 - 特許庁

Consequently, ignition does not occur even when the components are released to the atmosphere from the vacuum chamber 101 to perform removal processing of the metal film.例文帳に追加

これにより、真空チャンバー１０１から構成部品を大気中に出して金属膜の除去処理を行っても発火しなくなる。 - 特許庁

The natural oxide film removing step (P2), texture forming step (P4), and damaged layer removing step (P6) are carried out in the same vacuum processing tank 2.例文帳に追加

自然酸化膜除去工程（Ｐ２）、テクスチャー形成工程（Ｐ４）、ダメージ層除去工程（Ｐ６）を同一の真空処理槽２内で行う。 - 特許庁