「vacuum processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

Steam of isopropyl alcohol is supplied from each of supply ports 67 of an automatic cover 23 and a processing solution is discharged via a discharging pipe 57 to exhaust the air in the processing tank 1 by a first vacuum pump 19.例文帳に追加

処理槽１内を排気するので、処理槽１の上部から供給されたイソプロピルアルコールの蒸気が複数枚の基板Ｗの間を円滑に流下されて供給・排気管７から排気される。 - 特許庁

To provide a decorative sheet which can withstand the three- dimensional molding such as a lapping processing or vacuum forming processing to a three-dimensional shape of a base material and which is excellent in the surface physical properties such as a scratch resistance or the like.例文帳に追加

立体形状の基材へのラッピング加工や真空成形加工等の立体成形にも耐えることができ、しかも耐傷付き性等の表面物性にも優れた化粧シートを提供する。 - 特許庁

The processing apparatus has vertically carrying means attached to a process chamber composed of a vacuum container, capable of carrying works between a processing zone and work entering/ejecting regions.例文帳に追加

真空容器により構成されたプロセスチャンバに垂直搬送手段を設けてワークをプロセス処理領域とワーク出入領域間を垂直移送可能としてなる真空プロセス処理装置である。 - 特許庁

Alternatively, the temperature of the sample 6 surface is monitored and when the temperature of the sample 6 surface has become nearly the same as the temperature in a vacuum chamber, focused charged particle beam etching processing or deposition processing is started.例文帳に追加

あるいはサンプル6表面の温度をモニターし、サンプル6表面の温度が真空内の温度とほぼ同じになってから集束荷電粒子ビームエッチング加工またはデポジション加工を開始する。 - 特許庁

A drying chamber D for passing a work W while drying continuously utilizing microwave is disposed on the prestage of a processing chamber 2 for vacuum processing a long sheet-like material.例文帳に追加

長尺シート状材料が真空処理の行われる処理室２に入る前段に、マイクロ波を利用してワークＷを連続的に乾燥させつつ通過走行させる乾燥室Ｄを設置する。 - 特許庁

A gas inlet port 10 introducing process gas into a processing chamber 1 in a vacuum vessel 2, and an exhaust port 13 exhausting the inner part of the processing chamber 1 are arranged oppositely across the substrate to be processed S.例文帳に追加

真空容器２内の処理室１にプロセスガスを導入するガス導入口１０と処理室１内部を排気する排気口１３とを被処理基板Ｓを間に挟んで対向配置する。 - 特許庁

To provide an eel preserving processing method enabling preserving and processing eel so as to soften and keep for a long time by bottling and vacuum packing eel without spoiling its taste.例文帳に追加

うなぎをその食味を損なうことなく瓶詰め、真空パック等にして柔らかく日持ちし得るように保存加工することのできるうなぎの保存加工方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a bend-processing method of a tube-shaped fluorescent lamp for efficiently enhancing deforming flexibility of a tube-shaped fluorescent lamp after vacuum-sealing and provide a bend-processing device of the tube-shaped fluorescent lamp.例文帳に追加

真空封止済みの管形蛍光灯の変形自由度を効果的に高めることのできる管形蛍光灯の曲げ加工方法及び管形蛍光灯の曲げ加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide an adiabatic processing method for building glass and an adiabatic glass processing device free to be easily installed and capable of making a space between a translucent plate and a glass pane approach a vacuum area.例文帳に追加

容易に取り付けられ、また透光板とガラス板との間の空間を真空域に近づけることのできる建築物のガラス断熱処理方法、および断熱ガラス処理装置を提供すること。 - 特許庁

To ensure a drying processing in a short time by effectually sucking and discharging water in a closed container to eliminate the need of wasteful energy for drying when a vacuum section processing is executed.例文帳に追加

真空吸引処理を実施する場合、密閉容器内の水分を効率良く吸引排出し、乾燥のためのエネルギの無駄を無くし短期間で乾燥処理を可能とすることを課題とする。 - 特許庁

The semiconductor manufacturing apparatus comprises a substrate processing chamber 201 for processing a wafer (wafers to be processed) 200, a load-lock chamber (vacuum chamber) 101 connected to the substrate processing chamber 201 via a gate valve (valve unit) 244, and a controller for controlling the opening and closing state of the gate valve 244.例文帳に追加

ウェハ（被処理基板）２００を処理する基板処理室２０１と、基板処理室２０１にゲートバルブ（弁部）２４４を介して接続されたロードロックチャンバ（真空室）１０１と、ゲートバルブ２４４の開閉を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

The substrate processing device hermetically connects a film deposition device 101 for performing ALD and a heat treatment device 102 for performing annealing treatment to a vacuum transfer chamber 103, and is provided with a rotating stage 132 as a revolution mechanism in the vacuum transfer chamber 103.例文帳に追加

ＡＬＤを行う成膜装置１０１と、アニール処理を行う熱処理装置１０２と、を真空搬送室１０３に気密に接続すると共に、真空搬送室１０３内に自転機構である回転ステージ１３２を設ける。 - 特許庁

To provide a vent method and a substrate processing device for a vacuum preliminary chamber capable of certainly preventing a pressure application of a vacuum preliminary chamber at the time of venting even if a relief valve is not used and a particle deposition to the substrate.例文帳に追加

リリーフ弁を用いなくてもベント時の真空予備室の加圧を確実に防止することができ、しかも基板へのパーティクル付着を防止することができる真空予備室のベント方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A pressure gage 6 and a vacuum gage 7 measure the supply pressure value of a gas bomb 1-side and a pressure value in the vacuum processing chamber 2 of a semiconductor manufacture device in a state where a stop value 4 is opened and a stop valve 5 is closed.例文帳に追加

開閉弁４が開き開閉弁５が閉じた状態で、ガスボンベ１側の供給圧力値と半導体製造装置の真空処理室２内の圧力値をそれぞれ圧力計６及び真空計７により測定する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus eliminating the problem of the generation of a gas from cables and capable of supplying power to a driving source in a vacuum chamber without adopting a complicate structure such as a movable cable duct.例文帳に追加

ケーブル類からのガスの発生の問題をなくし、また、可動性のケーブルダクト等の複雑な構造を採用することなく、真空室内の駆動源に電力を供給することができる真空処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a small vacuum carburizing furnace capable of dispensing with large-scale disassembling work of a device in maintenance including replacement of a heat insulating material in a heating chamber, and replacement of an O-ring for a vacuum seal of an intermediate door and other mechanical components, with respect to a batch type small vacuum carburizing furnace in which the quantity of carburizing processing is comparatively small.例文帳に追加

比較的浸炭処理量が少量のバッチ型小形真空浸炭炉において、加熱室内の断熱材交換および中間扉の真空シール用Ｏリング、その他機械部品の交換を含むメンテナンス時において、装置の大きな分解作業を不要とした小形真空浸炭炉を提供。 - 特許庁

The potting processing part 3 is reduced in pressure by a vacuum mechanism 17 simultaneously with the addition of centrifugal force and the occurrence of the leak of the potting resin can be further eliminated.例文帳に追加

なお、遠心力の付加と同時にポッティング加工部3を減圧機構17をもって減圧し、ポッティング用樹脂のリークの発生を更になくすこともできる。 - 特許庁

To provide a processing system capable of dividing a common carrying chamber into a plurality of chambers and differing a vacuum degree in a simple constitution.例文帳に追加

共通搬送室内を複数の部屋に区画して各部屋の真空度を簡単な構成で異ならせることが可能な処理システムを提供する。 - 特許庁

A porous insulating film forming device 10 has a solution applying part 20, a coagulated film forming part 50, a vacuum drying part 60, a baking part 70, and an airtight processing part 80.例文帳に追加

多孔質絶縁膜形成装置１０は、溶液塗布部２０、凝固膜形成部５０、真空乾燥部６０、焼成部７０、気密処理部８０を有する。 - 特許庁

To prevent the overshoot phenomenon of a flow rate, that the gas of not less than a set flow rate flows at the time of starting supplying reaction gas to a vacuum processing chamber.例文帳に追加

真空処理室に反応ガスを供給し始める際に、設定流量以上のガスが流れ込む流量のオーバーシュート現象を防止すること。 - 特許庁

A suction tube 76 connected to the suction nozzle 70 extends to the outside of a processing chamber 2, and its distal end is connected to a vacuum generator 60.例文帳に追加

吸引ノズル７０に接続された吸引管７６は、処理室２の外部へ延びており、その先端は、真空発生装置６０に接続されている。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus having a function for removing particles on the surface of the sample stage in order to improve the yield of the sample being processed.例文帳に追加

処理対象の被処理試料の歩留まりを向上させるため、試料台表面の異物除去機能を備えた真空処理装置を提供する。 - 特許庁

The fixed plate is attached detachably to the outer wall surface which forms a processing chamber 11 via a vacuum flange 52 fitted to an opening 51 of the fixed plate 5.例文帳に追加

固定プレートの開口５１に嵌着された真空フランジ５２を介して、処理室１１を画成する外壁面に固定プレートが着脱自在に装着される。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus having a simple structure which positions a wafer on a transfer stage in a short period of time and improves a throughput.例文帳に追加

移送ステージにてウエハを短時間で位置決めできてスループットの向上を図ることができる簡単な構成の真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide vacuum processing apparatus forming a thin film having a high film quality and a large area, and increasing the speed of film formation.例文帳に追加

製膜される膜の高品質化を図るとともに、大面積化および製膜速度の高速化を図ることができる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum processor which facilitates maintenance in a processing chamber and mounting as well as dismounting of loads in the lid.例文帳に追加

処理チャンバー内のメンテナンスや蓋体内の重量物の取り付けおよび取り外しを容易に行うことができる真空処理装置を提供すること。 - 特許庁

Next, the pressure in the vacuum chamber is reduced to the pressure lower than that in the chamber immediately before the start of silicon processing step (evacuating step).例文帳に追加

次に、真空チャンバ内の圧力を、シリコン処理工程を開始する直前のチャンバ内の圧力よりも低い圧力まで減圧する（減圧工程）。 - 特許庁

A vacuum processing apparatus 1 comprises a first power supply section, a second power supply section, a first matching device 13a, a second matching device 13b, a discharge electrode 3, and a holding electrode.例文帳に追加

真空処理装置１は、第１電源部、第２電源部、第１整合器１３ａ、第２整合器１３ｂ、放電電極３、保持電極を具備する。 - 特許庁

To provide a superconductive cable shortening a manufacturing period and reducing a manufacturing cost by omitting vacuum dry processing of an insulating layer during cable manufacturing.例文帳に追加

ケーブル製造時に絶縁層の真空乾燥処理を省略して製造期間の短縮、製造コストの低減を図った超電導ケーブルを提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing device where electric power can be fed to a rotating substrate supporting stand 13 without enlarging the whole device.例文帳に追加

装置全体を大型化することなく、回転する基板支持台１３に対して電力を供給することができる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

When the material is introduced, microwave spreads to the sheet and moisture in the material and on the surface thereof is removed quickly prior to vacuum processing.例文帳に追加

したがって材料が導入されるとマイクロ波がシートに及び真空処理に先立ち前記材料中および表面の水分は迅速に除去される。 - 特許庁

To improve the convenience by hybrid functionality of a vacuum cooling device, and to inhibit the deterioration of foodstuff quality after various processing.例文帳に追加

真空冷却装置の複合機能化により、利便性を高めるとともに、種々の処理後の食材の品質の低下を抑制することを目的としている。 - 特許庁

To provide a vacuum processing device capable of increasing a maintenance cycle by leaps and bounds by further heightening cleaning effect of an optical window compared with a conventional one.例文帳に追加

光学窓のクリーニング効果を従来よりもさらに高めて、メインテナンス周期を飛躍的に増大させることができる真空処理装置を提供すること。 - 特許庁

To improve cleanliness level of the entire carrying route from a coater developer or the like for performing the pre- and post-processings of a water to processing chamber, such as a vacuum alignment chamber.例文帳に追加

ウエハの前後処理を行なうコーターディベロッパー等から減圧露光室等の処理室に到る搬送経路全体のクリーン度を向上させる。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus capable of enhancing the workability for leak check at a part where cooling water must be introduced such as a backing plate of a sputtering apparatus.例文帳に追加

スパッタリング装置のバッキングプレート等、冷却水の導入が必要な箇所におけるリークチェックの作業性を向上させた真空処理装置を提供する。 - 特許庁

Gas in the plurality of vacuum processing chambers is discharged to a common relaxation chamber by a turbo pump, and the relaxation chamber is kept at a pressure lower than the atmospheric pressure by a backing pump.例文帳に追加

複数の真空処理チャンバは、ターボポンプによって、共通の緩和チャンバに排気され、緩和チャンバは、バッキングポンプによって大気圧より低圧に維持される。 - 特許庁

A catalyst 21 is placed in vacuum atmosphere and touched to processing gas having a hydrogen atom in the chemical structure while being heated thus producing radicals.例文帳に追加

真空雰囲気中に触媒体２１を置き、それを加熱しながら化学構造中に水素原子を有する処理ガスを接触させ、ラジカルを生成する。 - 特許庁

Exhaust processing is performed before the baking treatment for a filter film 11 formed on a glass substrate 10 to turn the baking furnace 13 into a vacuum state.例文帳に追加

ガラス基板１０上に形成されたフイルタ膜１１に対してベーク処理を行う前に、排気処理を行ってベーク炉１３内を真空状態にする。 - 特許庁

To provide an adsorption monitor method capable of detecting an adsorbing state of an adsorption object in a vacuum tank or the like wherein prescribed processing is carried out.例文帳に追加

所定の処理を行う真空槽等内において吸着対象物の吸着状態を検出可能な吸着モニター方法を提供する。 - 特許庁

Gate valves 30a and 30b having valve elements 31a and 31b, respectively, are arranged doubly between a vacuum processing chamber 10 and a load lock chamber 20.例文帳に追加

真空処理室１０とロードロック室２０との間には、それぞれ弁体３１ａ，３１ｂを有するゲートバルブ３０ａ，３０ｂが二重に配備されている。 - 特許庁

These valves allow keeping a vacuum state in the conveyance module while an adjacent processing module is held open for the purpose of repairing.例文帳に追加

これらのバルブにより、隣接する処理モジュールが修理のために開放されている間も搬送モジュール内の真空状態を保つことが可能になる。 - 特許庁

To provide manufacturing technology capable of eliminating inconvenience in using an adhesive layer made of a resin film and realizing good vacuum processing.例文帳に追加

樹脂膜からなる接着剤層を用いる場合における不都合を解消し、良好な真空処理を実現し得る製造技術を提供すること。 - 特許庁

A base material 11, which has a functional film being a work, is carried to below a vacuum vessel 14 by carriage means and is positioned in a processing position.例文帳に追加

真空槽１４の下部に被加工物である機能膜を有する基材１１が図示しない搬送手段によって搬送され、処理位置に位置決めされる。 - 特許庁

To simplify processing for changing the contents of display buffers at the time of performing a scroll display drive in one dot unit with respect to a dot matrix VFT (vacuum fluorescent display tube) having 5×7 segments.例文帳に追加

5 ×7 セグメントのドットマトリクスVFT に対して1 ドット単位でスクロール表示駆動を行う場合の表示データバッファの内容の変更処理を簡単化する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus 100 is provided with a processing vessel 10 inside which plasma is excited in a required vacuum state, a microwave source 900 supplying microwave in the processing vessel for exciting plasma, and a dielectric plate 305 facing inside the processing vessel 10 for transmitting the microwave supplied from the microwave source 900 into the processing vessel.例文帳に追加

プラズマ処理装置１００は、所望の真空状態にある内部にてプラズマが励起される処理容器１０と、処理容器内にプラズマを励起するためのマイクロ波を供給するマイクロ波源９００と、処理容器１０の内側に面し、マイクロ波源９００から供給されたマイクロ波を処理容器内に伝送させる誘電体板３０５と、を備える。 - 特許庁