「vacuum processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

The carrier base 124 upon its downward movement is positioned in a transfer path for transfer of a wafer W to a first vacuum processing chamber 108 and exchange the wafer W with the arm 106.例文帳に追加

降下時の載置台１２４は，第１真空処理室１０８にウェハＷを搬送する搬送経路中に配置され，搬送アーム１０６との間でウェハＷの受け渡しが行われる。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus equipped with a substrate support mechanism configured to support and transfer a substrate, which detects the substrate support mechanism having abnormality.例文帳に追加

基板を支持して搬送される基板支持機構を備える真空処理装置において、異常を有する基板支持機構を検出することができる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate supporting device and vacuum processing apparatus equipped with the substrate supporting device which reduces the maintenance cost and running cost by simplifying maintenance work.例文帳に追加

メンテナンス作業をより簡便なものとすることで、メンテナンスコスト及びランニングコストの低減に寄与する基板支持装置及び基板支持装置を備える真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing device, a substrate conveying device and a film forming method that suppress production of particles and decrease replaced components and a replacement frequency.例文帳に追加

パーティクルの発生を抑制するとともに交換部品及び交換回数の低減を図ることができる真空処理装置及び基板搬送装置並びに成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide vacuum processing equipment capable of keeping stable electric connection even if a relative position is displaced between a co-axial tube external conductor and a deposition preventing plate due to a thermal expansion difference.例文帳に追加

熱膨張差により同軸管外部導体と防着板との相対位置が変位しても安定した電気的な接続を維持することができる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

The high-frequency power source 32 supplies high-frequency power to the ICP electrode 24 and the flat electrode 26, and thereby inductively-coupled plasma of the processing gas is generated in the vacuum chamber 10.例文帳に追加

高周波電源３２がＩＣＰ電極２４及び平面状電極２６に高周波電力を供給することで、真空チャンバ１０内に処理ガスの誘導結合プラズマが発生する。 - 特許庁

The press processing is carried out in the state that the skin material 15 stores the heat while exposing the skin material 15 to vacuum by the evacuating function that the mold 17 has.例文帳に追加

このプレス加工は、表皮体１５が蓄熱している状態で行われると共に、成形型１７が有する真空引き機能により表皮体１５を真空引きしつつ行われる。 - 特許庁

A chamber 10, which is a container for a semiconductor processing apparatus, comprises a shield 1 constituting the outer walls of a vacuum chamber 9, and insulating members 5a and 5b attached to the shield 1.例文帳に追加

半導体処理装置用容器であるチャンバー１０が、真空室９の外壁を構成するシールド１と、シールド１に取り付けられた絶縁部材５ａおよび５ｂとから構成される。 - 特許庁

In the surface processing of a vacuum sliding material, the surface maximum roughness of the sliding material by mechanical or chemical polishing is set to within a range from 70 nm-200 nm.例文帳に追加

真空用摺動材料の表面処理において、その機械的又は化学的研磨による摺動材料の表面最大粗さを７０ｎｍから２００ｎｍの範囲とする。 - 特許庁

The vacuum processing device 2 has high-frequency suppression filters 45a, 45b inserted between chuck electrodes 21a, 21b in an electrostatic chuck plate 20 and DC power supplies 46a, 46b, parallel-connected with by-pass switches 8a, 8b.例文帳に追加

この真空処理装置2では、静電チャックプレート20内のチャック電極21a,21bと直流電源46a,46bの間に挿入された高周波除去フィルタ45a,45bに、バイパススイッチ8a,8bを並列に接続する。 - 特許庁

Furthermore, when the wafer is vacuum-adsorbed simultaneously accompanied by the rise of the auxiliary table after the descent of the other table upon the completion of the wafer processing, it is confirmed that the evacuation of the other table has been completed (S24).例文帳に追加

また、ウェハーの加工を終了してテーブルが降下した後の予備テーブル上昇と同時にウェハーを真空吸着する際、他のテーブルの排気動作の完了を確認する（Ｓ２４）。 - 特許庁

To provide a deposition material capable of film formation having a small, stable and uniform film thickness distribution in a wide area by reducing a degassing exhaust processing time immediately after installing it in a vessel for vacuum film formation.例文帳に追加

真空成膜用容器の内部に設置した直後の脱ガス排気処理時間を短縮し、広いエリアで膜厚分布が小さく安定した均一な成膜が可能な蒸着材を得る。 - 特許庁

A set of the vacuum processing chambers 4A-4F connected to each of the side walls 25-27 is stacked and arranged while having a fixed offset, and exhaust ports are formed on respective bottom surfaces.例文帳に追加

一の側壁２５〜２７に接続される一組の真空処理室４Ａ〜４Ｆは、一定のずれ（オフセット）を有した状態で積み重ねて配置され、排気口は夫々の底面に形成される。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of forming a strong induction field in a vacuum vessel, and preventing spattering, the temperature rise of an antenna conductor, and generation of particles.例文帳に追加

真空容器内に強い誘導電磁界を形成することができ、且つ、アンテナ導体のスパッタリングや温度上昇及びパーティクルの発生を防ぐことができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Objects of complicated processing such as grooves 11 for vacuum suction, grooves 12 for air blow and a surface roughness part 15 are formed in a surface acrylic plate 2 which is relatively easier to process than a glass plate 3.例文帳に追加

真空吸着用の溝11およびエアーブロー用の溝12および表面粗さ部15などの複雑な加工を、ガラス板３に比べて比較的加工の容易な表面アクリル板２に形成する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of forming strong induction electromagnetic field in a vacuum container and preventing sputtering, temperature rise, and generation of particles of an antenna conductor.例文帳に追加

真空容器内に強い誘導電磁界を形成することができ、且つ、アンテナ導体のスパッタリングや温度上昇及びパーティクルの発生を防ぐことができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

A vacuum processing system 50 has a common transfer chamber 51 constituted as a load-lock chamber wherein transfer apparatuses 20a-20c for transferring the processed substrates can be moved inside.例文帳に追加

真空処理システム５０は、被処理基板を搬送するための搬送装置２０ａ〜２０ｃが内部を移動可能なロードロック室として構成された共通搬送室５１を有する。 - 特許庁

With this, degradation of a degree of vacuum inside the optical lens barrel and formation of an insulation film in the optical lens barrel are alleviated to improve processing performance and an operating rate of the device.例文帳に追加

本発明により、光学鏡筒内の真空度低下や、光学鏡筒内への絶縁膜形成を低減でき、加工性能や装置稼働率を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a structure protecting connecting parts between cables and easily implementing the clearing works of sensor in a mounting structure of temperature sensors to processing tanks, such as vacuum cooling apparatus and steam coolers.例文帳に追加

真空冷却機や蒸煮冷却機などの処理槽への温度センサの取付構造において、ケーブル間の接続部を保護し、センサの交換作業も容易な構造を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus of this invention includes a chamber for allowing an inner space to be vacuum, a plurality of cold traps, a plurality of separating portion and control portion for controlling a plurality of cold traps.例文帳に追加

本発明の基板処理装置は、内部空間を真空環境に維持するチャンバと、複数のコールドトラップと、複数の仕切部と、複数のコールドトラップを制御する制御部とを備える。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that achieves high processing accuracy and high reliability by preventing adverse effects on the next process and mixing of gasses, which should not be mixed with each other, by surely removing a residual gas inside a vacuum container and that of in processing-gas supply piping, and a method for operating the same.例文帳に追加

真空容器内及び処理ガス供給配管内の残留ガスを確実に除去することにより、次の工程への悪影響と混合させてはならないガス同士の混合を防止し、加工精度と信頼性の高いプラズマ処理装置及びその運転方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A vacuum exhaust path 21, which communicates with the upper space and is disposed outside the processing atmosphere above the substrate W, is provided to evacuate the processing atmosphere, and heating means 214 and 47 heat a portion, where a gas is brought into contact with a flow path of the discharged gas, to a temperature higher than a temperature at which a reactant of the processing gas adheres.例文帳に追加

前記上部空間に連通し、基板Ｗ上方の処理雰囲気よりも外側に位置する真空排気路２１は、前記処理雰囲気の真空排気のために設けられ、排気されるガスの通流空間に露出する部位は処理ガスの反応物が付着しないように加熱手段２１４、４７により加熱される。 - 特許庁

The adhesion preventive plate 15 used for an adhesion preventive member removably mounted on an inner face of a processing chamber to prevent adhesion of contaminants onto the processing chamber in the vacuum processing apparatus is configured to be a laminated structure formed by laminating a plurality of thin plates 15a each comprising aluminum for a principal material via a thin film adhesive.例文帳に追加

真空処理装置において処理室への汚染物の付着を防止するために、処理室内面に着脱自在に装着される防着材に使用される防着板１５を、アルミニウムを主材質とする薄板１５ａを薄膜状の接着剤を介して複数枚積層した積層構造で構成する。 - 特許庁

In the cleaning sterilization method of a vacuum cooler 1, equipped with an electrolytic water making device 10 for generating alkaline water and acid water, the alkaline water, the acid water, hot water or water, is sprayed selectively to the internal wall surface of a processing tank 2 of the vacuum cooler 1, when no object to be cooled is housed in the processing tank 2.例文帳に追加

アルカリ性水と酸性水とを生成する電解水製造装置１０を備えた真空冷却装置１の洗浄殺菌方法であって、前記真空冷却装置１の処理槽２内が被冷却物の非収容時、前記アルカリ性水，前記酸性水および温水または水を前記処理槽２の内壁面に選択的に噴霧することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a substrate conveyance robot which is used in vacuum processing equipment, in which the joint portion of a robot arm includes a journaling hole formed at one arm member and vertically put through, a bearing mounted in the journaling hole, and a spindle fixed to the other arm and inserted into the bearing, and which can prevent contamination in the vacuum processing equipment caused by dust generated at the bearing.例文帳に追加

真空処理装置内で使用される基板搬送ロボットであって、ロボットアームの関節部は、一方のアーム部材に形成した上下方向に貫通する軸支孔と、軸支孔に装着したベアリングと、他方のアーム部材に固定した、ベアリングに挿入される支軸とを備えるものにおいて、ベアリングでの発塵で生ずるパーティクルによる真空処理装置内の汚損を防止できるようにする。 - 特許庁

In a charged particle beam plotter system for drawing patterns on a substrate by using a charged particle beam, there are provided a vacuum processing chamber 100 for applying patterns to the substrate, an auxiliary vacuumizing chamber 200 connected with the vacuum processing chamber 100 via a gate valve GV1, and a heating means 9 for heating the substrate by projecting light on the substrate put in the auxiliary chamber 200.例文帳に追加

荷電粒子線を用いて基板上に描画パターンを描画する荷電粒子線描画装置において、基板を描画処理する為の真空の処理室１００と、処理室１００にゲートバルブＧＶ１を介して接続された真空可能な予備室２００と、予備室２００内に載置された基板に光を照射して基板を加熱する加熱手段９とを有する。 - 特許庁

In another embodiment, a method includes providing a manifold having at least a plurality of inlets that may be selectively coupled to at least one of a plurality of outlets, flowing one or more gases through the manifold to a vacuum environment by-passing the processing chamber prior to processing or to a calibration circuit, and flowing the one or more gases into the processing chamber during substrate processing.例文帳に追加

他の実施形態において、方法は、複数の出口の少なくとも１つに選択的に結合された少なくとも複数の入口を有するマニホルドを提供し、処理又は較正回路の前に、処理チャンバをバイパスする真空環境に、マニホルドを通して、１種類以上のガスを流し、基板処理中に、処理チャンバへ１種類以上のガスを流すことを含む。 - 特許庁

A hole-processing and a smoothing processing of the timber are simplified by joining a several decorative timbers in units, using a decorative timber presser 1 composed of a molded piece vacuum-formed from a synthetic resin sheet made of an AAS resin or the like, a receiver 2 and a pair of fasteners.例文帳に追加

ＡＡＳ樹脂製などの合成樹脂シートを真空成形した成形体からなる化粧木材押え具１、受け具２、一対の緊結具を利用して、数本の化粧木材単位で結合することで、木材の穴加工や平滑加工を簡素化した。 - 特許庁

To provide a cassette-type substrate carrier that can transport the substrates among processing apparatuses in a vacuum state, as are, without making the contact the atmosphere, and realize automation and performance improvement in a flat panel display manufacturing process, and to provide a processing method that uses the substrate carrier.例文帳に追加

基板を、大気に接触させずに真空状態のまま処理装置間で搬送することができ、フラットパネルディスプレイ製造工程の自動化と性能向上とを可能とするカセット式基板搬送装置及びこれを用いた基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

The plasma processing method comprises controlling the degrees of openings of an upper pressure control valve 134 and a lower pressure control valve 146 disposed between an upper exhaust chamber UC and an upper vacuum exhaust system 136, and between a lower vacuum exhaust chamber DC and a lower vacuum exhaust system 148, respectively, to generate a predetermined displacement difference between the upper exhaust chamber UC and the lower exhaust chamber DC.例文帳に追加

本発明によれば，上部排気室ＵＣと上部真空排気系１３６の間及び下部真空排気室ＤＣと下部真空排気系１４８との間にそれぞれ設けられている，上部圧力調整弁１３４及び下部圧力調整弁１４６の開度を調整することにより，上部排気室ＵＣと下部排気室ＤＣとの間に所定の排気量差を生じさる構成とした。 - 特許庁

At processing stages 10 to 16, a panel holder 17 having three holder arms 20 and vacuum sucking a rear surface of the panel 1 is arranged at the processing stages of the odd number and a panel holder 18 having four holder arms 30 and vacuum sucking the rear surface of the panel 1 is provided at the processing stages of the even number.例文帳に追加

処理ステージ１０〜１６において、奇数番目の処理ステージには３本のホルダアーム２０を有し、パネル１の裏面を真空吸着するパネルホルダ１７が配置され、偶数番目の処理ステージには４本のホルダアーム３０を有し、パネル１の裏面を真空吸着するパネルホルダ１８が設置されており、これら各パネルホルダ１７，１８はそれぞれ取付部材２１，３１に装着され、それぞれＺ軸駆動手段，Ｙ軸駆動手段及びＸ軸駆動手段からなる駆動手段に装着されている。 - 特許庁

To provide a sputtering device free from dust generation without lowering processing capacity by eliminating gas discharged from a thermally sprayed coating and realizing a thermally sprayed coating in which no degradation occurs in vacuum recovery even if integrating energy is intensified.例文帳に追加

溶射膜から放出されるガスをなくし、積算電力が進んでも真空回復が悪化しない溶射膜を実現することで、処理能力を落とすことなく発塵がないスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To improve processing efficiency by regulating a rise of a page caused by a tendency of booklet closing (or tendency of booklet opening) in a short time, and to simplify the maintenance of a suction cup of a vacuum pad.例文帳に追加

冊子の閉じ癖（或いは開き癖）による頁の浮き上がりを短時間で規制して処理効率を向上するとともに、真空パッドの吸盤の保守作業を簡略化できるようにする。 - 特許庁

To provide a method of operating a plasma processing apparatus having an excellent mass production stability by suppressing peeling off of a reactive product deposited on inner walls (mainly, inner walls of the chamber) of a vacuum chamber other than a Faraday shield effective range.例文帳に追加

真空容器内のファラデーシールド有効範囲外（主に、チャンバー内壁）に付着した反応生成物の剥がれを抑制し、量産安定性に優れたプラズマ処理装置の運転方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a method and apparatus for manufacturing a semiconductor device, which can measure the amount of deposition on a film in a processing chamber from the outside of the chamber while not hindering the vacuum condition of the chamber.例文帳に追加

処理室内における堆積膜の付着量等を処理室の真空状態を阻害することなく処理室外から測定できる半導体デバイスの製造方法及び製造装置を実現する。 - 特許庁

To provide a prebake apparatus preventing generation of unevenness of appearance in a plane of a color filter substrate caused by a suction state or a contact state during heat processing in the prebake apparatus including a vacuum table .例文帳に追加

バキューム・テーブルを備えたプリベーク装置で発生する、熱処理時の吸着状態や接触状態に起因するカラーフィルタ基板の面内で外観上のムラを発生させないプリベーク装置提供する。 - 特許庁

To provide vacuum processing method and apparatus in which the SiH_2/SiH ratio does not rise even if the film deposition rate is increased, and high productivity can be attained by preventing aggravation of film quality.例文帳に追加

製膜速度を増加させてもＳｉＨ_２／ＳｉＨ比が高くならず、膜質の悪化を防いで高い生産性を得ることができる真空処理方法及び真空処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus which can accurately set a distance between a discharge electrode and a counter electrode with a simple structure, obtain a film with stable quality and further enhance productivity of a substrate to be subjected to film-forming treatment.例文帳に追加

シンプルな構成により、放電電極と対向電極との間隔を正確に設定可能にし、安定した製膜品質を得るとともに、製膜処理を施す基板の生産性を向上させる。 - 特許庁

To prevent variations in property and quality that is caused by the timing variations for generating a glow discharge in a plurality of vacuum processing containers connected to the same exhaust system and the same raw gas feeding apparatus.例文帳に追加

同一の排気装置および同一の原料ガス供給装置に接続された複数の真空処理容器において、グロー放電の生起タイミングのばらつきによる特性や品質のばらつきを防止する。 - 特許庁

When interconnect line holes and trenches are provided to the low-permittivity interlayer insulating film by etching through micro processing, a mixed gas of fluorocarbon gas, Ar, and NF_3 is introduced into a vacuum chamber for carrying out an etching operation.例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜をエッチングし、配線用のホール、トレンチを微細加工する際に、フッ化炭素系ガス＋ＡｒにＮＦ_３を添加した混合ガスを真空チャンバ内に導入してエッチングする。 - 特許庁

To provide a gate valve for vacuum capable of simultaneously processing objects to be processed, such as semiconductor substrates, by using the other room even when one room is maintained through bearing a back pressure.例文帳に追加

逆圧に耐えることにより、一部の部屋をメンテナンスしている場合でも他の部屋を用いて半導体基板などの被処理物を同時に処理することができる真空用ゲートバルブを提供する。 - 特許庁

Lamination processing is carried out under vacuum atmosphere with the semiconductor light emitting element 2 or the like between a first film 8 and a second film 9, and the film 3 is fixed to the semiconductor light emitting element 2.例文帳に追加

この半導体発光素子２等を第１のフィルム８及び第２のフィルム９との間に載置して真空雰囲気下でラミネート加工を行い、被膜３を半導体発光素子２に固着させる。 - 特許庁

To provide a dry etching device which can uniformly process even a large-sized substrate by eliminating a difference in etching speed generated between a center region and a peripheral region in a vacuum processing chamber.例文帳に追加

真空処理チャンバ内の中央領域と周辺領域とにおいて生じ得るエッチング速度の差をなくして、大型の基板でも均一に処理できるようにしたドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a conveyance tray used for a vacuum treatment apparatus such as an etching apparatus and a sputtering apparatus, the conveyance tray being easy to be assembled while having substantially the same high sealing property even during processing.例文帳に追加

エッチング装置やスパッタリング装置等の真空処理装置に用いられる搬送トレーであって、処理中であっても実質的に同一の高いシール性が得られる組付容易なものを提供する。 - 特許庁

An adhesive tape 1 is peeled while keeping a semiconductor element 2, which is stuck to an adhesive tape 1 and is subjected to discrete dicing processing, in vacuum suction on a porous adhesive tape 3.例文帳に追加

粘着性テープ１に貼り付けられ個片化された半導体素子２を、支持体１１を介して多孔質粘着性テープ３上に真空吸着した状態で粘着性テープ１を剥離する。 - 特許庁