「vacuum processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a heat insulating material easy to handle and a vacuum heat insulating material easy of secondary processing.例文帳に追加

取り扱いが容易な断熱材および二次加工が容易な真空断熱材を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which is capable of making plasma density distribution uniform in a vacuum vessel.例文帳に追加

真空容器内のプラズマ密度分布の均一化を図り得るプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

GAS INTRODUCING MECHANISM, METHOD FOR GAS INTRODUCTION, METHOD FOR DETECTING GAS LEAKAGE, AND VACUUM PROCESSING EQUIPMENT例文帳に追加

ガス導入機構およびガス導入方法、ガスリーク検出方法、ならびに真空処理装置 - 特許庁

GATE VALVE DEVICE, VACUUM PROCESSING DEVICE AND OPENING METHOD OF VALVE ELEMENT IN GATE VALVE DEVICE例文帳に追加

ゲートバルブ装置および真空処理装置およびゲートバルブ装置における弁体の開放方法。 - 特許庁

A gas supply means 16 for introducing a processing gas into the vacuum chamber 10 is provided.例文帳に追加

真空チャンバ１０内に処理ガスを導入するガス供給手段１６が設けられている。 - 特許庁

To provide an attachment for a general vacuum cleaner capable of performing suction processing of fallen hair of a pet.例文帳に追加

ペットの抜け毛を吸引処理の出来る一般電気掃除機用アタッチメントを提供する。 - 特許庁

The plasma processing chamber is a vacuum chamber with a device connected for generating and sustaining plasma.例文帳に追加

プラズマ処理室は、プラズマを発生し維持するために接続される装置を持つ真空チャンバである。 - 特許庁

To provide a substrate support for supporting a substrate to be processed in a vacuum processing chamber.例文帳に追加

処理対象である基板を真空処理チャンバ内で支持するための基板支持体を提供する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus 10 has a vacuum chamber 12, a plasma source 14 and a electrode part 16.例文帳に追加

プラズマ処理装置１０は、真空容器１２と、プラズマ源１４と、電極部１６とを有する。 - 特許庁

REFRACTORY LINING OF VACUUM DEGASSING PROCESSING CONTAINER AND NON-CALCINED MAGNESIA-CARBON BRICK USED THEREFOR例文帳に追加

真空脱ガス処理容器の耐火物内張り及びそれに用いる不焼成マグネシアカーボンれんが - 特許庁

To provide a plasmas processing device capable of making a density distribution of plasma uniform in a vacuum chamber.例文帳に追加

真空容器内のプラズマ密度分布の均一化を図り得るプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stainless steel-like decorative sheet capable of being molded two-dimensionally by lapping processing, vacuum forming or the like.例文帳に追加

ラッピング加工や真空成形などにより二次元成形が出来るステンレス調化粧シート。 - 特許庁

The respective trays 21a and 21b do not emerge outside of these vacuum columns 112a, 112b, and 113, and further the substrates are output and input from a plurality of delivering vacuum columns to the processing vacuum column 112.例文帳に追加

各トレイ２１ａ,２１ｂはこれらの真空槽１１２ａ,１１２ｂ、１１３の外部に出ることはなく、また処理用真空槽１１２へは多数の受渡用真空槽から基板を出し入れできる。 - 特許庁

To provide a degassing processing device of a vacuum treatment apparatus capable of simply adding the degassing function to the vacuum treatment apparatus without affecting the function thereof, and the vacuum treatment apparatus.例文帳に追加

真空処理装置に機能に影響を及ぼすことなく、脱ガス機能を簡単に附加することができる真空処理装置の脱ガス処理装置および真空処理装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a vacuum processor that makes it possible to level the flow and the pressure of the exhaust gas from a vacuum processing chamber and to vacuum process a substrate with higher uniformity.例文帳に追加

真空処理室を排気する際のガスの流れや圧力を均一にすることができ、被処理基板に面内均一性の高い真空処理を施すことができる真空処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide vacuum processing equipment which facilitates maintenance work of parts related to a lifting-lowering member that is lifted and lowered in a vacuum container using a lifting-lowering shaft penetrating through the vacuum container.例文帳に追加

真空容器を貫通した昇降軸により真空容器内にて昇降する昇降部材に関連する部位のメンテナンス作業を行うにあたって便利な真空処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus high in performance in manufacturing workpieces in each installation area by optimizing the arrangement of vacuum processing chambers installed in a vacuum transport chamber.例文帳に追加

真空搬送室に備えられた真空処理室の配置を最適化し、設置面積あたりの被処理物の生産能力の高い装置を提供する。 - 特許庁

The mark 13 is formed by processing a metal mold for vacuum molding to a position of the mark 13 in a vacuum molding process of the door back 11.例文帳に追加

このマーク１３は、ドアバック１１の真空成形過程において、マーク１３を設けたい位置に対し真空成形用の金型を加工することにより設ける。 - 特許庁

A cold cathode type ionization vacuum gauge, which shares a power source, a central processing element, and an accessary circuit therefor, is incorporated to a hot cathode type ionization vacuum gauge.例文帳に追加

熱陰極計電離真空計に電源と中央演算素子、および、これの付属回路を共有する冷陰極形電離真空形を組込んだ。 - 特許庁

A substrate 1 placed on a transfer tray 2 is transferred to a first vacuum standby chamber 4, a processing chamber 5, and a second vacuum standby chamber 13.例文帳に追加

基板１は搬送トレー２上に載置された状態で、第１の真空予備室４、処理室５および第２の真空予備室１３に搬送される。 - 特許庁

To provide a vacuum gas discharging method of a substrate processing apparatus, capable of adsorbing and removing particles generated in a chamber in vacuum discharging and/or an out gas.例文帳に追加

真空引き時にチャンバ内に発生するパーティクル及び／又はアウトガスを吸着、除去することができる基板処理装置の真空排気方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus in which plasma density distribution inside a vacuum vessel can be made uniform and etching of the inner wall surface of the vacuum vessel can be prevented.例文帳に追加

真空容器内のプラズマ密度分布の均一化を図り得ると共に、真空容器の内壁面のエッチングを防止し得るプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The vacuum processing apparatus includes a microstrip line which can especially transmit the large power as a power supply line inside the vacuum chamber.例文帳に追加

本発明の真空処理装置は、真空チャンバ内部の給電線路として、特に大電力を伝送することが出来るマイクロストリップラインを備えている。 - 特許庁

To stabilize the amount of vapor deposition by improving reproducibility of the amount of the vapor deposition for each batch in a vacuum processing apparatus using a coaxial vacuum arc vapor deposition source.例文帳に追加

同軸型真空アーク蒸着源を用いた真空処理装置における蒸着量のバッチ毎の再現性を改善し、その安定化を提供する。 - 特許庁

The vacuum processing apparatus 100 is characterized in that a 1st vacuum processing chamber 10 and a 2nd vacuum processor 30 which process a work are longitudinally connected in a freely linked state and a load lock chamber 509 equipped with a carrying mechanism 52 for carrying in and out the work between the vacuum processing chambers 10 and 30 is longitudinally coupled with the 2nd vacuum processors 30 in a free linked state.例文帳に追加

真空処理装置１００は、被処理体を処理する第１の真空処理室１０と第２の真空処理装置３０とが連通自在且つ縦列に連結されており、さらに、被処理体を真空処理室１０，３０のそれぞれの間で搬入し、搬出する搬送機構５２を備えたロードロック室５０が第２の真空処理装置３０に連通自在に縦列に連結されている。 - 特許庁

To provide a vacuum processing method for reducing adhesion of foreign matter to a sample in transporting the sample from a vacuum transport chamber to a processing chamber, and reducing the foreign matter adhering to the sample after starting an etching process.例文帳に追加

真空搬送室から処理室に搬送する際の試料への異物付着を低減すると共に、試料に付着している異物をエッチング処理開始後に低減する真空処理方法を提供する。 - 特許庁

When the substrate W is carried into one of two vacuum processing units VU, the first control valve 61v of piping 63 connected to the one vacuum processing unit VU is opened.例文帳に追加

２つの真空処理ユニットＶＵのうちの一方の真空処理ユニットＶＵに基板Ｗが搬入されると、一方の真空処理ユニットＶＵに接続された配管６３の第１制御バルブ６１ｖが開く。 - 特許庁

To provide a transfer device and a processing method for processing a workpiece in a vacuum, capable of freely transferring the workpiece in a three-dimensional space.例文帳に追加

工作物を３次元空間で自由に移送できる工作物真空処理用の移送装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁

The vacuum processing apparatus includes an extra-electrode 22 arranged between a processing object 7 and a plasma generating apparatus 10.例文帳に追加

本発明の真空処理装置は、処理対象物７とプラズマ生成装置１０の間に配置された補助電極２２を有している。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus capable of shortening the bringing-in and out time of a processing object and capable of increasing treatment capacity.例文帳に追加

処理対象物の搬送及び搬出入の時間を短くし、処理能力を高めることのできる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To actualize plasma cleaning which can remove a deposited film formed on the internal wall of a vacuum processing vessel, in a short time during RIE processing.例文帳に追加

ＲＩＥ加工時に真空処理容器の内壁に形成された堆積膜を短時間で除去できるプラズマクリーニングを実現すること。 - 特許庁

The plasma processing apparatus includes a processing chamber for performing prescribed plasma processing operations to an object to be processed, a gas supply mechanism for supplying a gas for processing of the object, a first vacuum pump connected to the processing chamber and having a vacuum state kept therein, and a second vacuum pump connected to the gas supply mechanism for evacuating the gas supply mechanism.例文帳に追加

本発明のプラズマ処理装置は、被処理体に所定のプラズマ処理を行う処理室と、前記被処理体を処理するためのガスを供給するガス供給機構と、前記処理室に接続されて当該処理室内を減圧状態に維持する第１の真空ポンプと、前記ガス供給機構に接続されて当該ガス供給機構を排気する第２の真空ポンプを有する。 - 特許庁

To provide a substrate processing unit, along with a substrate processing method and substrate processing apparatus, capable of determining a mounting state of a substrate correctly even under vacuum.例文帳に追加

減圧下においても基板の載置状態を正確に判定することが可能な基板処理ユニット、基板処理方法および基板処理装置を提供することである。 - 特許庁

A processing gas supplying device 22 supplies the processing gas for plasma processing into the plasma chamber 21, and a gas exhaust device 23 sets the inside of the plasma chamber 21 under a high vacuum.例文帳に追加

処理ガス供給装置２２は、プラズマ処理用の処理ガスをプラズマ室２１内に供給し、ガス排気装置２３は、プラズマ室２１内を高真空に設定する。 - 特許庁

This plasma processing apparatus processes an object to be treated W, in a processing chamber 2 maintained in a vacuum atmosphere by utilizing a plasma generated by imparting energy to a processing gas.例文帳に追加

プロセスガスにエネルギーを付与して生成したプラズマを利用して、真空雰囲気の処理室２内にて被処理物Ｗの処理を行うプラズマ処理装置である。 - 特許庁

The sample processing apparatus has a processing chamber equipped with a part for fixing the particulate sample processing/retaining material, an FIB irradiation system for irradiating the particulate sample processing/retaining material with FIB, and a vacuum decompression system.例文帳に追加

前記の微粒子試料加工保持材の固定部、微粒子試料加工保持材にＦＩＢを照射するＦＩＢ照射系および真空減圧系を備えた加工室を具備した試料加工装置。 - 特許庁

The inspection dedicated tank 5 has: a tank body 6 on which a sensor 2a of a vacuum gage 2 is mounted, subjected to vacuum processing in place of the vacuum work; and a hose 7 with one end integrally mounted on the tank body 6, and the other end connected to the vacuum pump P detachably.例文帳に追加

検査専用タンク５は、真空計２のセンサ２ａが取り付けられ、真空ワークの代わりとして真空処理されるタンク本体６と、一端がタンク本体６に一体に取り付けられ、他端が真空ポンプＰに着脱自在に接続されるホース７とを有する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus allowed to be enlarged while suppressing the increase of weight.例文帳に追加

重量の増加を抑制しつつ大型化を実現することができる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum transfer apparatus that transfers a wafer in a short time and is enhanced in efficiency of processing.例文帳に追加

ウエハの搬送時間が短く処理の効率を向上させた真空搬送装置を提供する。 - 特許庁

To provide a gate valve which allows a maintenance space below or above a vacuum processing chamber to be increased.例文帳に追加

真空処理室下部あるいは上部のメンテナンス空間を広げることが可能なゲートバルブを提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing device having a small installation space and a substrate carrying mechanism of a simple configuration.例文帳に追加

設置スペースが小さく、簡素な構成の基板搬送機構を有する真空処理装置を提供する。 - 特許庁

DUST COLLECTING FILTER FOR CLEANER, THE VACUUM CLEANER, FOLD PROCESSING METHOD FOR THE DUST COLLECTING FILTER, AND FILTER STORAGE BAG例文帳に追加

掃除機用集塵フィルタ、電気掃除機、集塵フィルタの折り目加工方法、及びフィルタ保管袋 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus that is improved in production efficiency by shortening a stop time of the apparatus.例文帳に追加

装置の停止時間を短縮して生産効率を向上させた真空処理装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR IDENTIFYING CAUSE OF ABNORMALITY IN PRESSURE, VACUUM PROCESSING DEVICE, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

圧力異常原因判定方法，圧力異常原因判定システム，真空処理装置，記録媒体 - 特許庁

The vacuum pump 6 sucks and discharges a gas in the processing vessel 2 to the external through an exhaust pipe 3.例文帳に追加

真空ポンプ６は、処理槽２内の気体を、排気管３を介して外部へ吸引排出する。 - 特許庁