「vacuum processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Since a second vacuum processing chamber 110 is provided around the vacuum transfer chamber 102 in place of the preliminary processing chamber, the number of processing steps in a processing apparatus 100 can be increased, so that its production efficiency is increased.例文帳に追加

真空搬送室１０２の周囲に予備処理室に代えて第２真空処理室１１０を設けられるので，処理装置１００での処理工程数が増え，生産効率を高めることができる。 - 特許庁

To provide a vacuum processing method, suitable for vacuum processing utilizing an apparatus comprising an exhaust section and a separable vacuum processing container section, in which the rate for conforming vacuum processing articles is enhanced by preventing adhesion of dust thereto without sacrifice of production flexibility and variation of vacuum processing characteristics can be suppressed among lots by using a novel means.例文帳に追加

排気部と分離可能な真空処理容器部からなる装置を利用する真空処理に適し、生産の柔軟性を損なうことなく、また、被処理物上へのダスト付着を防止して真空処理物の良品率向上を達成し、さらには真空処理特性のロット間バラツキの抑制をも達成可能とする新規な手段を具えた真空処理方法の提供。 - 特許庁

To provide a technique for improving space efficiency in a sheet type vacuum processing device composed by combining a common carrying chamber with a plurality of vacuum processing chambers.例文帳に追加

複数の真空処理室に共通の搬送室を組み合わせてなる枚葉式の真空処理装置において、スペース効率を高める技術を提供する。 - 特許庁

METHOD OF ADJUSTING VACUUM PROCESSING CHAMBER AND INNER WALL MEMBER THEREFOR例文帳に追加

真空処理装置の調整方法および真空処理装置の内壁部材 - 特許庁

The substrate processing module consists of a process chamber PM and a vacuum lock chamber VL.例文帳に追加

基板処理モジュールは、プロセスチャンバＰＭとバキュームロックチャンバＶＬとからなる。 - 特許庁

VACUUM PROCESSING DEVICE, GATE VALVE, AND METHOD FOR DETECTING MISSING ARTICLE DURING TRANSPORTATION例文帳に追加

真空処理装置、ゲ−トバルブ、および欠落被搬送体の検出方法 - 特許庁

To provide a low-cost plasma vacuum system and a plasma vacuum processing method which enable automatic supply and high-massive processing of workpieces.例文帳に追加

処理対象物の自動供給及び高速・大量処理が可能な低コストのプラズマ真空装置及びプラズマ真空処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a means for transferring a plurality of wafers for vacuum processing.例文帳に追加

複数のウエハーを搬送し、真空処理するための手段を提供する。 - 特許庁

Then the substrate is irradiated with an ion beam under a vacuum and the alignment processing is performed.例文帳に追加

その後、真空中で基板へイオンビームを照射して、配向処理する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus has a vacuum chamber and the load lock for gas removal.例文帳に追加

基板処理装置は、真空室と気体除去のためのロードロックを有する。 - 特許庁

SUBSTRATE HOLDING DEVICE, SUBSTRATE HOLDER, VACUUM PROCESSING DEVICE AND TEMPERATURE CONTROL METHOD FOR SUBSTRATE例文帳に追加

基板保持装置、基板ホルダ、真空処理装置、基板の温度制御方法 - 特許庁

ENERGIZATION HEATING WIRE, PRODUCTION METHOD OF ENERGIZATION HEATING WIRE AND VACUUM PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

通電加熱線、通電加熱線の製造方法および真空処理装置 - 特許庁

INSTALLATION STAND DEVICE FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING, PLASMA PROCESSOR AND VACUUM PROCESSOR例文帳に追加

半導体処理用の載置台装置、プラズマ処理装置、及び真空処理装置 - 特許庁

To obtain a vacuum processing apparatus having an excellent maintainability.例文帳に追加

メンテナンス性に優れた真空処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To achieve energy-saving in a device and a method for vacuum processing.例文帳に追加

真空処理装置および真空処理方法の省エネルギー化を実現する。 - 特許庁

A preliminary processing chamber 120 is positioned in the upper part of a vacuum transfer chamber 102 of a processing apparatus 100.例文帳に追加

処理装置１００の真空搬送室１０２の上部には，予備処理室１２０が配置される。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus which improves efficiency of processing by reducing operations for maintenance and inspection.例文帳に追加

メンテナンスや点検の作業を低減して処理の効率を向上させた真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and system for processing a workpiece in a vacuum-based semiconductor processing system.例文帳に追加

真空下の半導体処理システムにおいて加工中の製品を処理する方法及びシステムに関する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus which improves a wafer processing efficiency or efficiency of work for the apparatus.例文帳に追加

ウエハの処理の効率または装置への作業の効率を向上させた真空処理装置を提供する。 - 特許庁

MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS USING VACUUM ULTRAVIOLET LIGHT SHIELDING PLATE WITH OBLIQUE THROUGH HOLE AND ITS PROCESSING METHOD例文帳に追加

斜め貫通孔付真空紫外光遮光板を用いたマイクロ波プラズマ処理装置及び処理方法 - 特許庁

To provide a control device and a vacuum processing device easily allowing assured restarting of a vacuum pump after operation stop and attaining highly reliable vacuum processing without structure modification of the vacuum pump and without causing mechanical deterioration of the vacuum pump.例文帳に追加

真空ポンプ等の構成変更等をすることなく、また真空ポンプ等の機械的劣化を引き起こすことなく、稼働停止後における真空ポンプの確実な再起動を容易に可能とし、信頼性の高い真空処理を実現する制御装置及び真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus capable of improving the efficiency of production by reducing generation of contaminations inside a vacuum vessel.例文帳に追加

真空容器の内部の異物の発生を低減し、生産効率を向上できる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

The film deposition processing module 15 comprises the other side 13 of the vacuum vessel, a vacuum pump 12 and a film deposition unit 11.例文帳に追加

成膜処理モジュール１５は、真空容器の他方側１３と真空ポンプ１２と成膜ユニット１１を備えている。 - 特許庁

A material to be molded is sucked under vacuum to be subjected to mold processing through the vacuum holes 3 provided to the proper place to a mold.例文帳に追加

成形型の適所に設けた真空穴３を介して、被成形材を真空吸引して成形加工する。 - 特許庁

Thus, vacuum evacuation is carried out so that the pressure in the processing chamber reaches predetermined pressure (vacuum).例文帳に追加

このようにして、処理室内の圧力が所定の圧力（真空度）となるよう真空排気するように構成されている。 - 特許庁

The vacuum-processing apparatus for a large substrate is constructed with the door, disposed electrically conductive with the near part of the vacuum-processing chamber body continuously or intermittently in the circumference of the periphery of the part contacting the vacuum-processing chamber body.例文帳に追加

扉が真空処理室本体と当接する部位の外周付近全周囲を連続して、若しくは断続して該真空処理室本体の至近部分と電気的導通手段を配設した構成の大型基板用真空処理装置。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus capable of shortening the time required for transferring substrates while suppressing the footprint of the whole apparatus in performing a vacuum processing with respect to each substrate in a plurality of the processing areas.例文帳に追加

複数の処理領域において各々基板に対して真空処理を行うにあたり、装置全体のフットプリントを抑えながら、基板の移載に要する時間を短く抑えること。 - 特許庁

In this constitution, the first vacuum pump 42 shuts off the vacuum processing chamber 12 from the plasma chamber 54, so that a decomposing operation carried out in the plasma chamber 54 never affects the vacuum processing chamber 12.例文帳に追加

この構成では、第１の真空ポンプが真空処理チャンバとプラズマチャンバとの間を遮断するため、プラズマチャンバ内での分解処理が真空処理チャンバに対して影響を与えることはない。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus in which precision of processing is enhanced for a shunt of processing gas by examining the flow rate of processing gas with high precision.例文帳に追加

処理用のガスの分流器について高精度に処理用ガス流量の検定を行うことで処理の精度を向上した真空処理装置を提供する。 - 特許庁

A processing apparatus 70 has a vacuum vessel 74 arranged in a heating furnace 72.例文帳に追加

処理装置７０は、加熱炉７２内に配置した真空容器７４を有する。 - 特許庁

To provide an improved vacuum chucking heater for processing substrates.例文帳に追加

基板を処理するための改良された真空チャック型ヒーターを提供すること。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR PRESSURE SENSOR DEVICE, DATA PROCESSING DEVICE, MANOMETER, VACUUM CLEANER, AND BAROMETER例文帳に追加

半導体圧力センサ装置、データ処理装置、血圧計、掃除機及び気圧計 - 特許庁

To reduce the organic substance contamination of a body to be processed in a vacuum processing system.例文帳に追加

真空処理システムにおいて被処理体の有機物汚染を低減させる。 - 特許庁

To provide a vacuum heat insulator capable of simply manufacturing and easily post-processing.例文帳に追加

簡易に製造可能で後加工が容易な真空断熱体を提供する。 - 特許庁

SOURCE OF HYDROGEN ATOM, AND METHOD OF TRANSPORTING HYDROGEN ATOM IN VACUUM PROCESSING DEVICE例文帳に追加

真空処理装置における水素原子発生源及び水素原子輸送方法 - 特許庁

VACUUM PINCETTE, SUBSTRATE CARRYING APPARATUS ,AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING SAME例文帳に追加

真空ピンセットおよびこれを用いた基板搬送装置ならびに基板処理装置 - 特許庁

The vacuum processing system comprises a vacuum processing chamber 3, a first gas introducing section 30 arranged to introduce first processing gas in radical state into the vacuum processing chamber 3 thence to a semiconductor wafer 10, and a second gas introducing section 40 arranged to introduce second processing gas reacting on the first processing gas into the vacuum processing chamber 3 thence to the semiconductor wafer 10.例文帳に追加

本発明の真空処理装置は、真空処理槽３と、ラジカル状態の第１の処理ガスを真空処理槽３内に導入して半導体ウェーハ１０に導くように構成された第１のガス導入部３０と、第１の処理ガスと反応する第２の処理ガスを真空処理槽３内に導入して半導体ウェーハ１０に導くように構成された第２のガス導入部４０とを備える。 - 特許庁

The vacuum processing system 10 comprises a vacuum container 11, a film deposition unit 30 disposed in the vacuum container 11, and a first linear motion guide section 21.例文帳に追加

本発明の真空処理装置１０は、真空容器１１と、真空容器１１内に配置された製膜ユニット３０と、第１直線運動案内部２１とを備える。 - 特許庁

To provide a terminal unit for a vacuum processing apparatus at a low cost, which can be provided on a vacuum partition with high reliability of a vacuum chamber demanding airtightness and with excellent workability.例文帳に追加

気密性が問われる真空チャンバの信頼性が高く、作業性よく真空隔壁に設けることができる低コストの真空処理装置用の端子ユニットを提供する。 - 特許庁

To provide an axial flow vacuum pump provided with high vacuum capacity without enlarging a vacuum pump, and a processor capable of processing a large treated substrate.例文帳に追加

真空ポンプ自体を大型化することなく高い真空能力を備えた軸流真空ポンプや、大型の被処理基板を処理することのできる処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing system executing highly accurate high efficiency processing while simplifying the processing work and shortening the period thereof.例文帳に追加

処理作業を簡略化かつ短期間化しつつ、高精度かつ高効率な処理を実行可能な真空処理装置を提供する。 - 特許庁

The vacuum pumping device and method are used for controlling pressure of a plurality of vacuum processing chambers, performing evacuation and providing relaxation.例文帳に追加

複数の真空処理チャンバに対して圧力を制御し、真空引きし、緩和を提供するための装置及び方法である。 - 特許庁

The active gas is introduced to the vacuum processing chamber 30, and processing of the wafer 20 with the active gas is started.例文帳に追加

活性ガスが真空処理室３０に導入され、活性ガスによるウエハ２０の加工処理が開始される。 - 特許庁

A dried object 3 is heated in the vacuum state in the processing space 10 of the drying kiln 1 to perform the drying processing.例文帳に追加

乾燥釜１の処理空間１０で真空状態で被乾燥物３を加熱して乾燥処理を行う。 - 特許庁

The vacuum processing apparatus 10 has a loading/unloading chamber 11, a preliminarily heating chamber 12, and a processing chamber 13.例文帳に追加

真空処理装置１０は、ロード／アンロード室１１、真空予備加熱室１２および処理室１３を備える。 - 特許庁