ふりきるの英語

純水の供給を停止するとともに、真空チャック２の回転数を上げてウエハー１上の純水を振り切る。例文帳に追加

Supply of pure water is stopped, and the rates of rotation of the vacuum chuck 2 is increased to remove pure water on the wafer 1. - 特許庁

その後、基板Ｗを水平姿勢に戻し、スピンチャック１を高速回転して、基板Ｗの周端面の微小液滴を振り切る。例文帳に追加

Then the substrate W is put back to the horizontal attitude, and the spin chuck 1 is rotated at a high speed to remove fine droplets on the peripheral end surfaces of the substrate W. - 特許庁

その後、ウエハＷの回転速度を、第２の回転速度Ｒ_２より速い第３の回転速度Ｒ_３まで加速して、残余のレジスト液を振り切る。例文帳に追加

Then, the rotational speed of the wafer W is accelerated to a third rotational speed R_3 that is higher than the second one R_2, thus shaking off a residual resist liquid. - 特許庁

このディスペンサ１は加振部７を備えており、ノズル２の先端２ａに残留する液体を振動により振り切る。例文帳に追加

In this case, a shaking part 7 is provided in the liquid injector 1, so that liquid remaining at the tip 2a of the nozzle 2 can be shaken off by vibration. - 特許庁

ホールＨ内に浸入した純水は、基板Ｗを高速で回転させても振り切ることが困難である。例文帳に追加

The pure water intruded into the hole H is difficult to shake off even if the substrate W is rotated at high speed. - 特許庁

また、鋳砂５０の量が多く完全に振切ることができない場合には溜込み部５６に溜め込むことができる。例文帳に追加

When the amount of the sand 50 is too much to be shaken off completely, the sand can be stored in the storing part 56. - 特許庁

ＣＲＴ１の表示面５に塗布液８を供給してスキージング（１１、１３、１５）を行い、その後高速回転により塗布液８を振切る。例文帳に追加

Coating liquid 8 is supplied on the CRT display surface 5 and is squeegeed (11, 13, 15), and then, coating liquid 8 is spun off by high-speed rotation. - 特許庁

スポットＵＶ露光を窪み５ｅの形成位置の内側位置でオンからオフとし、未硬化のＵＶレジンを振り切ることによって、窪み５ｅが形成される。例文帳に追加

Spot UV exposure is turned OFF from ON in the inside position of a position where a recess 5e is formed, the recess 5e is formed by spinning off the uncured UV resin. - 特許庁