実際パターンと基準パターンが一致するように、実際パターンや基準パターンを移動させる（ＳＴ１８、１９）。例文帳に追加

The actual pattern and the reference pattern are moved so that the actual pattern and the reference pattern match (ST18, ST19). - 特許庁

基準パターン生成装置、同期回復装置、基準パターン埋め込み方法および基準パターン検出方法例文帳に追加

REFERENCE PATTERN GENERATING APPARATUS, SYNCHRONISM RECOVERY DEVICE, REFERENCE PATTERN EMBEDDING METHOD AND REFERENCE PATTERN DETECTING METHOD - 特許庁

実際パターン上に基準パターンを重畳させる（ＳＴ１７）。例文帳に追加

The reference pattern is overlapped on the actual pattern (ST17). - 特許庁

基準パターン設定登録方法とパターンマッチング認識方法例文帳に追加

METHOD FOR SETTING AND REGISTERING REFERENCE PATTERN AND PATTERN MATCHING RECOGNIZING METHOD - 特許庁

演算部１５は、減衰パターンと基準パターンとの畳み込み演算する。例文帳に追加

An operation part 15 executes convolution operation between the attenuation pattern and a reference pattern. - 特許庁

基準パターン41，42，…，4nは基準パターン登録部１４に順番に登録される。例文帳に追加

The reference patterns 41, 42,..., 4n are registered on a reference pattern registration part 14 in regular order. - 特許庁

動作パターンには、基準動作パターンと、リーチ状態を形成するリーチ動作パターンとを含む。例文帳に追加

The action pattern includes the reference action pattern and the ready-for-win pattern forming the ready-for-win state. - 特許庁

基準平板１に表示された基準パターンがカメラ５で撮像される。例文帳に追加

A reference pattern displayed on a reference plate 1 is taken by the camera 5. - 特許庁

サーボコントローラ１４０は、ディスク１の一方面１Ａ上に予め記録された基準サーボパターン及び基準クロックパターンを利用して、他方面１Ｂ上に基準サーボパターン及び基準クロックパターンをコピーする。例文帳に追加

A servo controller 140 copies a reference servo pattern and a reference clock pattern onto a surface 1B of a disk 1 by using a reference servo pattern and a reference clock pattern previously recorded on the other surface 1A. - 特許庁

基準パターンを用いた精密アクチュエータの較正例文帳に追加

CALIBRATING FINE ACTUATOR USING REFERENCE PATTERN - 特許庁

基準マーク１０として、基準パターン１１の内側と外側にダミーパターン（測定に使用しないパターン）３，４を形成する。例文帳に追加

Dummy patterns (patterns which are not used for measurement) 3 and 4 are formed inside and outside the reference pattern 11 as the reference mark 10. - 特許庁

第１のエッジと第１の基準パターンのエッジとを比較することにより、検査対象パターン画像と基準パターンとのマッチングを行う。例文帳に追加

The first edge is compared with the edge of a first referential pattern to match the objective pattern image for inspection with the referential pattern. - 特許庁

これにより、誤り率検出部１５に入力される受信パターンＰ１０と基準パターンＰ１１又は基準パターンＰ１２との同期がとられる。例文帳に追加

Thus, the received pattern P10 received by an error rate detection section 15 is synchronized with a reference pattern P11 or a reference pattern P12. - 特許庁

複数の基準パターン１２が同一形状で形成され、特異パターン１３が基準パターン１２と異なる形状で形成されているか、又は、特異パターン１３の基準パターン１２に対する配置関係が基準パターン１２間の配列と異なっているものである。例文帳に追加

The plurality of reference patterns 12 has the same shape, and the specific pattern 13 is formed in a different shape from the reference patterns 12 or the layout relationship of the specific pattern 13 to the reference patterns 12 is different from the array of the reference patterns 12. - 特許庁

第１パターンおよび第２パターンは、構造形態の異なる基準パターンと計測パターンとを有する。例文帳に追加

The first pattern and the second pattern have a reference pattern and a measurement pattern of different arrangement. - 特許庁

信号配線層には、信号配線パターンが形成され、基準配線層には、基準電圧を伝達するための基準配線パターンが形成される。例文帳に追加

A signal wiring pattern is formed on the signal wiring layer, and a reference wiring pattern for transmitting a reference voltage is formed on the reference wiring layer. - 特許庁

基準パターン１１の上部に形成された薄膜の凸部を基準パターンと見なして、基準パターン１１の外側ラインとこれに対応する合わせパターン２１の内側ラインとの間隔ｘ_1 ，ｘ_2 を測定する。例文帳に追加

Then, the projecting part of a thin film formed at the upper part of the reference pattern 11 is considered as a reference pattern, and intervals x1 and x2 between the outside line of the reference pattern 11 and the inside line of a registration pattern 21 corresponding to this are measured. - 特許庁

本発明の一つの実施形態によれば、パターン形状判定方法において、パターン形状の判定基準となる第１のパターンにパターン形状の判定基準位置となる第１の基準位置を設定する。例文帳に追加

According to one embodiment of the present invention, in a pattern shape determining method, a first reference position to be a determination reference position of a pattern shape is set on a first pattern to be a determination reference of a pattern shape. - 特許庁

基準パターン選択工程１０５では、前記複数に分割されたレイアウトパターン群毎に、パターンマッチングの基準となる基準パターンを選択する。例文帳に追加

In a reference pattern selection process 105, a reference pattern used as a reference for pattern matching is selected for each of the plurality of divided layout pattern groups. - 特許庁

基準文字パターンとその上下反転パターンとの正規化相関値ｘｐ、基準文字パターンとその左右反転パターンとの正規化相関値ｙｐ、基準文字パターンとその点対称パターンとの正規化相関値ｚｐを算出する。例文帳に追加

A normalized correlation value xp between a reference letter pattern and its vertical inversion pattern, a normalized correlation value yp between the reference letter pattern and its horizontal inversion pattern, and a normalized correlation value zp between the reference letter pattern and its point symmetrical pattern are calculated. - 特許庁

基準マークパターンに観察光を照射し、そこで反射された光を検出し、基準マークパターンの位置を求めるための基準プレートにおいて、基準マークパターンを観察光に直接曝されない位置に設ける。例文帳に追加

The reference plate for irradiating the observational light to a reference mark pattern, detecting the light reflected by it, and obtaining the position of the reference mark pattern is set to a place, where the reference mark pattern is not exposed directly to the observational light. - 特許庁

被露光体に形成された基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上する。例文帳に追加

To improve overlapping accuracy of exposure patterns to a reference pattern formed in an object to be exposed. - 特許庁

検査対象パターンと基準パターンとが著しく異なる場合であっても、適切なマッチングを行う。例文帳に追加

To perform appropriate matching, even when an inspection object pattern differs from a reference pattern remarkably. - 特許庁

磁気ディスク装置のサーボパターン情報書き込み装置、および基準クロックパターン書き込み方法例文帳に追加

SERVO PATTERN INFORMATION WRITING DEVICE FOR MAGNETIC DISK UNIT, AND REFERENCE CLOCK PATTERN WRITING METHOD - 特許庁

パターン比較のために、選ばれた角度範囲に対応する基準パターンを利用する。例文帳に追加

For comparing patterns, a reference pattern corresponding to the selected angle range is used. - 特許庁

検査対象パターン画像と基準パターンとの比較検査を実時間で行うこと等である。例文帳に追加

To perform comparison inspection between a pattern image to-be-inspected and a reference pattern in real time, or the like. - 特許庁

検査対象パターン画像と基準パターンとの比較検査を実時間で行うこと等である。例文帳に追加

To perform inspection by comparing the objective pattern image for inspection with a referential pattern in real time. - 特許庁

検査対象パターン画像と基準パターンとの比較検査を実時間で行うこと等である。例文帳に追加

To perform a comparing inspection on an inspecting object pattern image and a reference pattern in real time. - 特許庁

ユーザの指紋パターンが認識され且つ以前に格納されている基準パターンと比較される。例文帳に追加

The finger print pattern of a user is recognized and compared with A reference pattern previously contained. - 特許庁

選択された基準パターンに対応する実際パターンを測定装置に認識させる（ＳＴ１５）。例文帳に追加

The actual pattern corresponding to the selected reference pattern is made to be recognized by the measurement apparatus (ST15). - 特許庁

そして、生成したパターンサンプルを基準パターンと照合して、対象物の真偽を判定する。例文帳に追加

The generated pattern sample is collated with a reference pattern to determine the authenticity of the object. - 特許庁

パターン記憶部２１は、ユーザの日常的な行動を表す基準パターン系列を記憶する。例文帳に追加

A pattern storage part 21 stores a standard pattern series showing the user's daily behavior. - 特許庁

これら変形パターンは基準パターンとともに、照合用のモデルとして登録される。例文帳に追加

The deformed pattern is registered with the reference pattern as collating model. - 特許庁

基準マーク１は、下側基準層３２に形成されたＬ字状の下側基準パターン１１と、上側基準層３３に形成されたＬ字状の上側基準パターン１２とからなる。例文帳に追加

A reference mark 1 consists of an L-shaped lower reference pattern 11 formed on a lower reference layer 32, and an L-shaped upper reference pattern 12 formed on an upper reference layer 33. - 特許庁

基準電位パターンは、半導体部品及び圧電素子の少なくとも一方に基準電位を付与する。例文帳に追加

The reference potential pattern imparts a reference potential to at least one of the semiconductor component and the piezoelectric element. - 特許庁

本発明では、焦点制御用の基準パターン（５）を用いて、システム全体の基準系を設定する。例文帳に追加

The reference system of an entire system is set by using a reference pattern (5) for focus control. - 特許庁

臨界寸法が第１基準値より小さい第２基準値あるいはそれ以下である時、補助パターンをメインパターン上に付加する。例文帳に追加

When the critical dimensions are a second reference value smaller than the first reference value or below the value, auxiliary patterns 302 are added to the main patterns 300. - 特許庁

基準パターンデータベース１５は、画像の背景ごとに異なる（空用、道路用、道路外用などの）複数の基準パターンを記憶する。例文帳に追加

A reference pattern database 15 stores a plurality of reference patterns (for sky, road, other than road, or the like) depending on the background of the image. - 特許庁

基準パターン１１の画像を光学系２を介して撮像素子１０上に結像させ、この基準パターン１１の像の解像度を検出する。例文帳に追加

The image of the reference pattern 11 is formed through the optical system 2 onto the imaging device 10, and the resolution of image of this reference pattern 11 is detected. - 特許庁

これによって、基準パターン及び比較パターンに相応する基準イメージ及び比較イメージが前記結像面に結像される。例文帳に追加

Thus, a reference image and a comparison image corresponding to the reference pattern and the comparison pattern are formed on the image forming plane. - 特許庁

基準パターン決定部４４は、上記複数の類似度の平均値と標準偏差とを算出し、これに基づいて基準パターンを決定する。例文帳に追加

A reference pattern determination part 44 calculates an average value and a standard deviation of the plurality of similarity degrees, and determines the reference pattern based thereon. - 特許庁

また、スコア値判定部９は、所定の条件に従い、基準パターン更新部１０に基準パターンの更新を指示する。例文帳に追加

Further, the score value decision part 9 instructs a reference pattern update part 10 to update the reference pattern according to specific conditions. - 特許庁

スケール１は、移動量検出用の周期的に並ぶ光学パターン３と、基準位置検出用の基準位置パターン４とを有している。例文帳に追加

The scale 1 includes an optical pattern 3 for the detection of a movement quantity arranged periodically, and a reference position pattern 4 for the detection of a reference position. - 特許庁

もし、追尾不能となった場合には、基準パターン画像の取込範囲を示す基準パターン枠のビューファインダ１８での表示を点滅させる。例文帳に追加

If it can not track the target subject, a reference pattern frame showing the fetching range of the reference pattern image is displayed with flickering in a view finder 18. - 特許庁