hole nとは 意味・読み方・使い方

After an interlayer insulating film 29 is formed, a contact hole 31 is formed (N).例文帳に追加

層間絶縁膜２９を堆積した後、コンタクトホール３１を形成する（Ｎ）。 - 特許庁

A boring hole 2 is excavated in the ground, and a sampling tube 6 is provided with a mark thereon showing the N-pole on the ground, and plunged into the boring hole bottom, while keeping a state where the mark agrees with the N-pole direction, and the soil is filled into an internal space 7.例文帳に追加

地中にボーリング孔２を掘削し、サンプリング管６には地上でのN極となる目印を設け、該目印をN極方向に一致させた状態を保ちつつボーリング孔底に押し込んで内部空間７に土を充填する。 - 特許庁

To provide an electric element having an n-type organic layer as an electrode for hole injection or hole extraction.例文帳に追加

正孔注入または正孔抽出用電極としてｎ型有機物層を備えた電気素子を提供する。 - 特許庁

To obtain a cylinder hole inspecting device capable of detecting a defect such as a cavity, a flaw and burr on the inner surface of a hole with a good S/N.例文帳に追加

孔内面の鋳巣、疵、バリ等の欠陥をＳ／Ｎ良く検出できる円筒孔検査装置を得る。 - 特許庁

The nut N is vibrated, and the threaded hole of the vibrating nut N is irradiated with laser slit light L, and the inner diameter of the threaded hole is inspected based on a peak value of the quantity of the laser slit light L passing the threaded hole.例文帳に追加

ナットＮに振動を与え、その振動するナットＮのねじ孔にレーザスリット光Ｌを照射し、ねじ孔を通過したレーザスリット光Ｌの光量のピーク値に基づいてねじ孔の内径を検査する。 - 特許庁

When the laser beam is irradiated at a specific hole forming position P1 for n times, irradiation for n times is not continuously performed to specific hole forming positions P2-P5.例文帳に追加

特定の孔形成位置Ｐ１にｎ回にわけてレーザービームを照射するにあたり、特定の孔形成位置Ｐ２〜Ｐ５にｎ回の照射を連続的に行わない。 - 特許庁

An n-side electrode 17 with a pin hole 17a formed in its center part is formed on the n-type semiconductor layer 13 and the reflection layer 16.例文帳に追加

ｎ型半導体層１３および反射層１６上に中央部にピンホール１７ａを有するｎ側電極１７を形成する。 - 特許庁

A distance W1 between the edge of the n-type low concentration impurity region 17 and the hole 7a is smaller than a distance W2 between the edge of the n-type well region 19 and the hole 15a.例文帳に追加

Ｎ型低濃度不純物領域１７の端部、ホール７ａ間の距離Ｗ１は、Ｎ型ウェル領域１９の端部、ホール１５ａ間の距離Ｗ２よりも小さい。 - 特許庁