laser-etchedとは 意味・読み方・使い方

Thereafter, the gate insulating film 11 is etched with an etching solution that hardly dissolves the laser-irradiated region 100A and dissolves the laser non-irradiated region 100B.例文帳に追加

その後、光照射領域１００Ａに対しては難溶で且つ未照射領域１００Ｂに対しては可溶なエッチング液によりゲート絶縁膜１１をエッチングする。 - 特許庁

A p-type AlGaInP upper cladding layer 40 of the 650 nm wavelength band laser 14 is etched halfway to form ridge waveguides 44.例文帳に追加

６５０ｎｍ帯波長レーザ１４のｐ型ＡｌＧａＩｎＰ上クラッド層４０は途中までエッチングされてリッジ導波路４４が形成されている。 - 特許庁

The laminate structure 28 of a third surface luminescent semiconductor laser element having an oscillation wavelength band different from the oscillation wavelength bands of the first and second semiconductor laser elements is formed and etched to form a third semiconductor laser element 30.例文帳に追加

第１及び第２の半導体レーザ素子の発振波長帯域とは異なる発振波長帯域を有する第３の面発光半導体レーザ素子の積層構造２８を形成し、エッチングして、第３の半導体レーザ素子３０を形成する。 - 特許庁

The photoresist layer 12 is etched in vacuum using a prescribed gas and the foreign materials generated when the laser light is applied for forming the hole 13 are removed.例文帳に追加

真空中で所定のガスを用いてフォトレジスト層１２をエッチングし、レーザ光を照射して穴部１３を形成する際に発生した異物を除去する。 - 特許庁

A bonding plane of a polytetrafluoroethylene part of the composite is etched (chemical etching, electron beam etching, laser etching, or plasma etching), before an uncured mixed material is coated thereto.例文帳に追加

未硬化混合材の塗布前に、コンポジットのポリテトラフルオロエチレン部分の結合面をエッチング（化学的エッチング、電子-ビームエッチング、レーザーエッチング、又はプラズマエッチング）する。 - 特許庁

A p-type AlGaInP second upper cladding layer 28 of the 780 nm wavelength band laser 12 is etched to an ESL layer 26 to form ridge waveguides 32.例文帳に追加

７８０ｎｍ帯波長レーザ１２のｐ型ＡｌＧａＩｎＰ第２上クラッド層２８はＥＳＬ層２６までエッチングされてリッジ導波路３２が形成されている。 - 特許庁

The uppermost surface of an amorphous silicon film 3 is etched through a reverse sputtering treatment, and the amorphous silicon film 3 is crystallized by excimer laser annealing.例文帳に追加

非晶質シリコン膜３の極表面を逆スパッタ処理によってエッチングし、続いて大気に晒すことなく、エキシマレーザアニールによる結晶化を行う。 - 特許庁

By the above method, a soot generated on the surface of the organic polymer film 6 in processing by the irradiation with a laser beam can be selectively etched away and removed.例文帳に追加

これにより、レーザ光の照射による加工の際に有機高分子膜６表面に発生した煤が、選択的にエッチングされて除去される。 - 特許庁