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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 専門用語対訳辞書 > order formation processの意味・解説 

order formation processとは 意味・読み方・使い方

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Weblio専門用語対訳辞書での「order formation process」の意味

order formation process

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「order formation process」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 32



例文

Thus, a process for separately applying ultraviolet resin in order to use the resin as resist is omitted, thereby simplifying a pattern formation process and forming micro/nano complex patterns through a single imprint process.例文帳に追加

これにより、レジストとして使用するために紫外線レジンを別途に塗布する工程が省略されるので、パターンの形成工程が簡素化され、単一インプリント工程によりマイクロ・ナノ複合パターンを形成できる。 - 特許庁

The process for including the formation of the thin diamond film on a getter 30 at a temp. lower than the activation temp. of the getter is used in order to produce the device described above.例文帳に追加

この装置を製造するために、ゲッタ30の活性化温度より低い温度でゲッタ上へ薄いダイヤモンドの被膜を形成させることを包含する方法が用いられる。 - 特許庁

In order to recover crystallinity of a semiconductor film after a doping process, activate impurity elements, and reduce contact resistances after the formation of a wiring, a laser beam is irradiated from the backside of the substrate after the formation of a wiring.例文帳に追加

本発明は、ドーピング処理後の半導体膜の結晶性の回復、不純物元素の活性化および配線形成後のコンタクト抵抗の低減を行なうために、配線形成後に基板の裏面側からレーザ光を照射することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a transparent conductive carbon film using a crystalline carbon film by a graphene film at a lower temperature in a shorter time, in order to solve the problem of a high-temperature process of graphene film formation by thermal CVD and the problem that a process time is long.例文帳に追加

熱CVDによるグラフェン膜成膜の高温プロセス、かつプロセス時間が長いという問題を解決すべく、より低温で短時間にグラフェン膜による結晶性炭素膜を用いた透明導電性炭素膜を形成する手法を提供する。 - 特許庁

In the processing apparatus in which a lithographic printing plate coated with a photosensitive material subjected to image formation with an FM screen or a high-definition AM screen is processed through at least a developing process and a washing process in order, the lower roller 62B of a pair of inlet rollers 62 present at the inlet of the washing process 10 has projected and recessed parts and grooves.例文帳に追加

FMスクリーンまたは高精細AMスクリーンで画像形成する感光材料が塗設された平版印刷版を少なくとも現像プロセス、水洗プロセスを順に処理する処理装置において、水洗プロセス10の入口にある一対の入口ローラ62の下ローラ62Bに凹凸部または溝を設けた。 - 特許庁

In a method for treating a plastic substrate pattern-formed on a surface by laser in order to form a core pattern suitable for later metallization, after pattern formation by laser, a substrate is made to come into contact with a process liquid suitable for removing undesired deposition that has occurred during the period of pattern formation.例文帳に追加

後続の金属化に適した核パターンを形成するためにレーザで表面にパターン形成されたプラスチック基体を処理する方法において、レーザによるパターン形成後、パターン形成中に発生した所望されない沈殿物を除去するのに適したプロセス溶液に基体を接触させる。 - 特許庁

例文

In the method of manufacturing printing plate, a first process of forming a printing pattern on a printing original plate layer by means of the laser engraving (α) and a second process of reforming a printing pattern formation surface of the printing original plate layer by means of the laser engraving (β) are performed in this order.例文帳に追加

レーザー彫刻(α)により印刷原版層に印刷パターンを形成する第1工程と、 レーザー彫刻(β)により前記印刷原版層の前記印刷パターン形成面を改質する第2工程とを順次行う印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

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「order formation process」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 32



例文

This manufacturing method of an arc tube includes: an arc tube preparation process of preparing an arc tube 20a with a bulb part 30 formed therein; a bulb part surface polishing process of polishing a surface of the bulb part 30; and an optical thin film formation process of forming an antireflection film 70 as an optical thin film on the surface of the tube part 30, in that order.例文帳に追加

管球部30が形成された発光管20aを準備する発光管準備工程と、管球部30の表面を磨く管球部表面磨き工程と、管球部30の表面に光学薄膜としての反射防止膜70を形成する光学薄膜形成工程とをこの順序で含む発光管の製造方法。 - 特許庁

The dither matrix stores each threshold value such that a number of dots to be allocated to each of the plurality of dot groups is determined according to a dot formation order of each of the plurality of dot groups in the common print region in the halftone process.例文帳に追加

ディザマトリクスは、ハーフトーン処理において、共通の印刷領域における複数のドット群の各々のドット形成順序に応じて、複数のドット群の各々のドット数の配分が定まるように各閾値が格納されている。 - 特許庁

To arrange a calibrating second pressure gage in the same environment in a vacuum treatment chamber in order to keep a pressure zone in a normal condition in film formation treatment, and to calibrate a controlling first pressure gage with a pressure value in an actual process.例文帳に追加

成膜処理時の圧力帯を正常な状態で維持する為に、真空処理室内の同じ環境下に校正用の第2の圧力計を配置し、制御用の第1の圧力計を実プロセス時の圧力値で校正する。 - 特許庁

To enable satisfactory image formation by reducing effects exerted on a process which acts in contact with a photoreceptor drum, even in case of a change in the gravity center of the photoreceptor drum which has a layer inside in order to prevent vibration and a speed change.例文帳に追加

重りを内蔵して振動や速度変動を防止するようにした感光体ドラムの重心が変化した場合でも、これに接触して作用するプロセスが受ける影響を軽減し、良好な画像形成を可能にする。 - 特許庁

To provide a process for producing 1,3-di(2-p-hydroxyphenyl-2-propyl) benzene in high selectivity and high yield as the formation of isomers and high-order condensates is suppressed by reaction of phenol with 1,3-di(2- hydroxy-2-propyl)benzene.例文帳に追加

フェノールと1,3−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼンとの反応によって、異性体や高次縮合物の生成を抑えて、高選択性高収率にて、1,3−ジ(2−p−ヒドロキシフェニル−2−プロピル)ベンゼンを製造する方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a surface processing method for obtaininga substrate having the desired uniform lyophilic property in order to improve formation of a film pattern by the ink jet method, and also provide a surface processing substrate obtained by this surface process and a method of forming a film pattern.例文帳に追加

インクジェット法による膜パターンの形成を改善するため、所望の親液性を均一に有する基板を得るための表面処理方法、この表面処理によって得られた表面処理基板、及び膜パターンの形成方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a trimmer capacitor wherein even if, in a formation process of a stator, a top face of a stator is ground in order to give a higher flatness of the top face of the stator and a front face of a fixing electrode molded on the stator, an electrostatic capacity does not vary and more stable characteristics are provided.例文帳に追加

ステータの形成工程において、ステータ上面およびステータにモールドされている固定電極表面の平面度を上げるためにステータ上面を研磨しても静電容量が変化せず、安定した特性を有するトリマコンデンサを提供する。 - 特許庁

例文

An oxide film formation method for the semiconductor element comprises: a stage for providing a silicon substrate wherein a natural oxide film is removed; a stage for performing an oxidizing process to form an oxide film on the silicon substrate; and a stage for performing a high-temperature heat treatment process under a mixed gas atmosphere of inert gas and oxygen gas in order to reduce trap charge existing in the oxide film.例文帳に追加

自然酸化膜の除去されたシリコン基板を提供する段階と、酸化工程を行って前記シリコン基板上に酸化膜を形成する段階と、前記酸化膜の内部に存在するトラップチャージを減少させるために不活性ガスと酸素ガスとの混合ガス雰囲気の下で高温熱処理工程を行う段階とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

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