space dependenceとは 意味・読み方・使い方

A space defined by two independent variables is set, the remaining one is defined as a dependent variable, the space is divided into the finite number of regions by giving a condition to the dependent variable, and the meaning of regions that refer to dependence can be created, and data labeling can be conducted.例文帳に追加

独立な二変数で張る空間を設定し、残りの一つを従属変数とし、それに条件を与えることで、空間を有限個数の領域に分割して、従属性に言及した領域の意味付けとデータのラベル付けを行うことができる。 - 特許庁

To provide a host apparatus, a memory card, a memory capacity change method, a memory capacity change program and a memory capacity charge transfer method that can change the capacity of memory space in dependence on charge.例文帳に追加

料金に応じてメモリ領域の容量を変更することができるホスト機器、メモリカード、メモリ容量変更方法、メモリ容量変更プログラム及びメモリ容量料金授受方法を提供する。 - 特許庁

To provide an adaptive optics system for alleviating the dependence of modulation characteristics caused by polarization of incident radiation, improving the efficiency of light use, and having a space phase modulating unit capable of correcting aberration of an inspected object.例文帳に追加

入射光の偏光による変調特性の依存性を緩和し、光利用効率を向上させ、被検査物の収差を補正することが可能となる空間位相変調手段による補償光学系を提供する。 - 特許庁

To provide a device that can measure the surface temperature of a minute region of a sample at high accuracy, high space resolution, and high speed by a thermo-reflectance method, can analyze the temperature dependence of the surface reflection even of a sample whose temperature dependence of the surface reflection is not known, and can instantly determine the temperature using the results.例文帳に追加

試料の極微少領域の表面温度をサーモリフレクタンス法により高精度・高空間分解能・高速度で測定することを可能とするとともに、表面反射率の温度依存性が知られていない試料についても、その表面反射率の温度依存性を解析し、その結果を用いて温度を即時に決定することを可能にする装置を提供する。 - 特許庁

A mask correction unit 3 is determined in accordance with the space dependence 7 of a pattern obtained through photolithography and etching steps, design data 1 for producing a photomask are corrected using the mask correction unit 3 and the objective photomask is produced with a pattern forming device.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程及びエッチング工程を経て得られたパターンのスペース依存性７に基いてマスク補正単位３を決定し、このマスク補正単位３を用いてフォトマスク作成用の設計データ１に対する補正を行い、描画装置を用いてフォトマスクを作成する。 - 特許庁

To provide a chemically amplifying positive or negative radiation sensitive composition capable of stably forming a fine pattern excellent in machining performance in a small space, critical dimension uniformity, maintainability and stability as a resist, having small density dependence in high accuracy.例文帳に追加

レジストとして、狭スペースの加工性能、多様なパターンデザインにおけるＣＤ均一性および保存安定性に優れ、粗密依存性が小さく、微細パターンを高精度で安定に形成することができる化学増幅型ポジ型またはネガ型の感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

The space resolution is improved by arranging a pinhole in front of a detector of reflected light intensity, the temperature dependence of the surface reflection is analyzed by simultaneously measuring the electric resistance and reflected light intensity when rectangular wave current is made to flow in the sample, and the temperature is instantly determined using the results.例文帳に追加

反射光強度の検出器の前にピンホールを配置することにより空間分解能を向上させるとともに、試料に矩形波電流を流した際の電気抵抗と反射光強度を同時に測定することにより表面反射率の温度依存性を解析し、その結果を用いて即時に温度を決定する。 - 特許庁

To shorten processing time by minimizing data input/output between a primary storage device and a secondary storage device in dependence on memory capacity, when collecting a plurality of color image data saved in CMYK color space units in the secondary storage device onto the primary storage device and forming images on a single sheet of transfer paper.例文帳に追加

２次記憶装置にＣＭＹＫのカラースペース単位で保存されている複数のカラー画像データを１次記憶装置上に集約し一枚の転写紙上に画像形成する場合に、１次記憶装置・２次記憶装置間のデータ入出力をメモリ容量に応じて最低限に抑えて処理時間を短縮する。 - 特許庁