technical defectsとは 意味・読み方・使い方

To provide a silicone elastomer composition which is well self-adhesive to various base materials, has no defects of a composition described in technical levels, or satisfies request profiles thereof.例文帳に追加

種々の基材に対して良好に自己付着する、技術水準に記載される組成物の欠点を有さず、あるいは前記の要求プロフィールを満たすシリコーンエラストマー組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a binder capable of overcoming defects of conventional technical levels, giving high strength and heat resistance to the fibrous molded product after processing, and capable of being used as powder.例文帳に追加

従来の技術水準の欠点を克服し、加工後の繊維形成体が高い強度及び耐熱性を有する、粉末として使用できる結合剤を得る。 - 特許庁

To develop a method for continuously producing a slightly-smelling, long-stable, and monomer-containing polyisocyanurate derived from isophorone diisocyanate (IPDI), by eliminating defects caused by conventional technical levels.例文帳に追加

知技術水準の上記の欠点を有しない、ＩＰＤＩベースの臭気が少なく貯蔵安定なモノマー含有ポリイソシアヌレートの連続的な製造法を開発する。 - 特許庁

To provide a passage monitoring apparatus capable of solving conventional technical defects that an error alarm may be generated when a permitted person is returned on the way and an unpermitted person following a permitted person can pass.例文帳に追加

従来の技術の欠陥であった、途中で戻ってしまった許可者での誤警報と、許可者に同伴する不許可者が通過できてしまうことを防止できる通過監視装置を提供する。 - 特許庁

The technical result which is the purpose of an invention may be, for example, the reduction of friction coefficient, prevention of jamming, avoidance of defects from metal casting, increase of the sensitivity of a measuring instrument, increase of the activity of a medicinal product, localization of the effects of a proprietary medicinal product, etc.発音を聞く 例文帳に追加

発明の目的である技術的結果となることがあるものは，例として次のものである。摩擦係数の減少，詰まりの防止，金属鋳造の欠陥の除去，測定機器の感度の向上，医薬製品の活性の強化，専有医薬品の効果の局所限定等。 - 特許庁

To solve a technical problem in enhancing performance peculiar to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly KrF or ArF excimer laser light and to obtain a positive type photoresist composition less liable to cause development defects and excellent in edge roughness.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＫｒＦ又はＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、現像欠陥の発生が少なく、エッジラフネスに優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To allow even a nonexpert to perform inspection without requiring advanced technical knowledge, to readily evaluate the soundness and unsoundness of a steel pipe pillar underground section and instantaneously, at site, to simplify a program for evaluating defects, and to allow the program to be readily incorporated into an ultrasonic flaw detector used on site.例文帳に追加

高度の技術知識を要さず、専門家でなくても検査でき、現地で簡単に即時に鋼管柱地中部の健全、不健全を評価でき、かつ、欠陥を評価するプログラムも簡単で、現地で使用する超音波探傷器に容易に組み込むことができるようにする。 - 特許庁

To enhance performance and to solve technical problem in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies characteristics such as sensitivity, resolution, resist shape, development defects and appliability in the use of electron beams or X-rays.例文帳に追加

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能の向上及び技術課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像度、レジスト形状、現像欠陥、及び塗布性の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁