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"きろし"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 274



例文

本発明では、露出パラメータを制御して画像を撮影する手段と、前記撮影手段によって得た画像データの露出−輝度ヒストグラムを生成する手段と、前記露出−輝度ヒストグラムから明度に最適に補正された仮想ヒストグラムを生成する手段と、仮想ヒストグラムに対応する画像を生成する画像生成手段とを設ける。例文帳に追加

There are provided a means for photographing an image by controlling the exposure parameter, a means for generating the exposure-luminance histogram of image data obtained by the photography means, a means for generating the virtual histogram optimally corrected to brightness from the exposure-brightness histogram, and an image generation means for generating the image corresponding to the virtual histogram. - 特許庁

この場合、一方の極性の電極の引き出し部分と、他方の極性の電極の引き出し部分は、それぞれ異なる位置にあって、かつ、同じ極性の電極の引き出し部分どうしが整合するように配置され、それぞれの極性の電極の引き出し部分どうしが、対応する前記露出電極上に接続されるようにする。例文帳に追加

In this case, the extraction parts of electrodes of one-side polarity and the extraction parts of electrodes of the other-side polarity are located at positions different from each other, the extraction parts of the electrodes of the same polarity are arranged to match each other, and the extraction parts of the electrodes of the respective polarities are connected on corresponding exposed electrodes. - 特許庁

本発明は、陽極を形成し、前記陽極上に絶縁膜を形成し、前記絶縁膜をエッチングして前記陽極の一部が露出されるように開口部を形成した後にプラズマ処理をし、前記絶縁膜及び前記露出された陽極上に有機化合物を含む膜を形成し、前記有機化合物を含む膜上に陰極を形成することを特徴とする。例文帳に追加

In this method, a positive electrode is formed, an insulation film is formed on the positive electrode, a plasma process is performed after forming an opening so as to expose a part of the positive electrode by etching the insulation film, a film containing an organic compound is formed on the insulation film and the exposed positive electrode, and a negative electrode is formed on the film containing the organic compound. - 特許庁

艇体内に備えたエンジンから延びた排気管53,54の途中に設けたウォーターマフラー60内を膨張室61とレゾネーターチャンバー62とに区画し,膨張室61に,エンジンに連結した前側排気管53と,艇外に開ロした後側排気管54とを連接し,レゾネーターチャンバー62を,連結パイプ54bを介して後側排気管54の中間部に直接連結した。例文帳に追加

An inside of a water muffler 60 provided in a middle of exhaust pipes 53, 54 extending from an engine provided in a boat hull is divided into an expansion chamber 61 and a resonator chamber 62. - 特許庁

例文

本半導体ウェーハの製造方法は、スライス後のウェーハを研削する工程と、研削されたウェーハに酸化膜を形成する工程と、前記表面に形成された酸化膜のみを除去しウェーハ表面を露出させる酸化膜選択研磨工程と、前記露出したウェーハ表面を研磨する工程を有する。例文帳に追加

The method for manufacturing semiconductor wafers comprises processes for: polishing a sliced wafer; forming an oxide film on the polished wafer; an oxide film selective polishing for removing only the oxide film formed on the surface and exposing the surface of the wafer; and polishing the exposed surface of the wafer. - 特許庁


例文

本発明の知能型操作制御式動態直並列配置を利用した燃料電池システムの配置方法は、少なくとも一つのマルチウェイスイッチ切換器を提供する工程と、少なくとも二つの燃料電池を、マルチウェイスイッチ切換器に電気的に接続する工程と、マルチウェイスイッチ切換器の少なくとも二つの燃料電池を、直列、並列、部分的に開路した電気的接続形態に配置する工程と、からなる。例文帳に追加

The method comprises a step of providing at least one multi-way switch changer; a step of electrically connecting at least two fuel cells to the exchanger; and a step of arranging at least two fuel cells of the changer in a series, parallel and partially opened electric connection form. - 特許庁

本発明に係る光ケーブルの端末分岐構造は、通信線と前記通信線の周囲に配設された抗張力繊維とを収容したケーブルの端末構造であって、前記抗張力繊維の一部は、前記ケーブルの端末から露出され、前記露出された抗張力繊維の先端側の一部は一体化されていることを特徴とする。例文帳に追加

The terminal branching structure of the optical cable includes a communication line and an anti-tensile force fabric disposed around the communication cable, a part of the anti-tensile force fabric is exposed from the terminal of the cable and a part of the exposed end side of the anti-tensile force fabric is integrated. - 特許庁

この検知ファイバ体24の他端部から供給される光の反射量により、液面検知部24aがフラックス液22の液中か空気中に露出しているかを判定し、前記露出の判定によりフラックス液22における液面22aの下限液位L以下を検知する制御部28を備える。例文帳に追加

By the reflection quantity of light supplied from the other end of the detecting fiber 24, a controller 28 judges whether the liquid level detector 24a is in the liquid of flux 22 or exposed in the air and detects the level lower than the lower limit L of the liquid level 22a in the flux liquid 22 by the judgment of the exposure. - 特許庁

本発明は、プリント基板の最小ビア間隔よりも短い端子間隔を持つコンデンサの実装方法であって、前記コンデンサの端子箇所のプリント基板を削り、電源ライン又は接地ラインを表面に露出させ、前記コンデンサの端子を、前記露出された電源ライン又は接地ラインに直接ハンダ付けするように構成した。例文帳に追加

In the method of mounting a capacitor having terminals spaced by a distance shorter than a minimum via interval of the printed circuit board, sites of the printed circuit board at the terminals are cut to expose a power line or a grounding line to the air, and the terminals of the capacitor is directly soldered to the exposed power or grounding line. - 特許庁

例文

動画像を撮像する撮像手段と、露出制御手段と、撮影フレームレートを選択する選択手段と、撮影した動画像を再生する再生手段とを有する撮像装置において、前記選択手段により選択された記録フレームレートと、前記再生手段における再生フレームレートから前記露出制御手段の追従速度を変更することを特徴とする。例文帳に追加

The imaging apparatus provided with imaging means for taking a moving image, exposure control means, selection means for selecting a photographic frame rate, and reproduction means for reproducing the taken moving image changes the follow-up speed of the exposure control means from a recording frame rate selected by the selection means and reproduction frame rate in the reproduction means. - 特許庁

例文

生体試料がパラフィンに包埋された標本を、加熱条件下で、パラフィンと互いに相溶性がある有機溶剤に晒し、前記パラフィンを融解及び前記有機溶剤へ溶解させることによって、前記生体試料を露出させる工程と、前記パラフィンが溶解した有機溶剤と、前記露出した生体試料とを分離することによって、前記標本から前記パラフィンを除去する工程とを含む。例文帳に追加

The deparaffinization method includes the process of: exposing a biological sample by exposing a sample having the biological sample embedded in paraffin to an organic solvent which is mutually compatible with paraffin under a heating condition, and melting and dissolving the paraffin in the organic solvent; and removing the paraffin from the sample by separating the organic solvent in which the paraffin is dissolved and the exposed biological sample. - 特許庁

該母材修復材(72)は、ベースメタルと相容性がある構造材料源を供給し、プラズマ移行性アーク溶接によって固定シュラウド(24)の初期露出母材流路表面(70)上に位置させて構造材料源を溶着して、修理された母材流路表面(76)を形成することによって施される。例文帳に追加

The base-metal restoration (72) is applied by furnishing a source of a structural material that is compatible with the base metal, and depositing the source of the structural material overlying the initially exposed base-metal flow-path surface (70) of the stationary shroud (24) by plasma transferred arc welding to form a repaired base-metal flow-path surface (76). - 特許庁

複数の現像装置毎に設けられ現像装置内の圧力を抜くための通気路20Y、20M、20C、20Kと、通気路が合流して通気路から排気される空気中のトナーを捕集するトナーフィルタ43とを備えた画像形成装置において、所定の通気路を遮断することにより、他の通気路から所定の通気路への空気の流入を防止する通気路遮断部60を備える。例文帳に追加

The image forming apparatus equipped with air passages 20Y, 20M, 20C, and 20K provided by a plurality of developing devices to decompress the developing devices; and a toner filter 43, which gathers toner in air discharged from an air passage after confluence of the air passage, is equipped with an air passage shutoff section 60, which prevents air from other air passages from flowing in a predetermined air passage. - 特許庁

商用電源1の停電時には電源開閉器2を開路し、昇降圧チョッパ4の出力電圧をコンデンサ7に定めた所定電圧よりも高い電圧目標値に向かって立ち上げてコンデンサを充電してその電圧が所定値を上回れば充電を中断し、コンデンサ電圧が所定値以下になれば充電を再開するオン−オフ動作を繰り返させる。例文帳に追加

If the commercial power supply 1 fails, the power supply switch 2 is opened, and an output voltage of the chopper 4 is made to rise toward a voltage target value higher than a prescribed voltage determined for the capacitor 7 to charge the capacitor and to repeat the on-off operation of interrupting the charging when the voltage exceeds the prescribed value and of resuming the charging when the capacitor voltage becomes the prescribed value or lower. - 特許庁

露出を制御して、複数の露出の異なる画像を取得する画像取得工程(S406)と、上記露出の異なる複数の画像を管理する画像管理工程(S410)と、前記画像管理工程で管理された露出の異なる複数の画像から、任意の露出の画像を生成する画像生成工程(図6)とを有する。例文帳に追加

An image acquirement process (S406) for controlling the exposure and acquiring the plural images different in the exposures, an image management process (S410) managing the plural images different in the exposures and an image generation process (drawing 6) generating the image of the arbitrary exposure from the plural images different in the exposures, which are managed in the image management process, are provided. - 特許庁

50.8μm未満の平滑度を持つ露出された砥粒ブラスト面を持つ耐熱基体、及び上記露出面に結合され、プロフィルメーターの平均読取値(Ra)で1.5μm以下の表面粗さを持つ、薄い熱硬化性エポキシ被膜、を有する金属又はセラミック粒子の溶射の溶射から領域をマスキングするのに有用なマスキング組立体。例文帳に追加

The objective masking assembly useful for masking a region from the thermal spraying of metal or ceramic particles has a heat resistant substrate with an exposed surface having <50.8 μm smoothness blasted with abrasive grains and a thin thermosetting epoxy coating film bonded to the exposed surface and having ≤1.5 μm surface roughness as the average read value (Ra) of the profile meter. - 特許庁

送電ケーブル用遮断器4と開閉器22を制御する制御回路24は、電圧印加時には抵抗回路23の開閉器22を開路してリアクトル3に直列に抵抗器21を挿入した状態で送電ケーブル用遮断器4を投入し、予め設定された一定時間後に抵抗回路の開閉器22を閉路することにより抵抗器21を短絡する。例文帳に追加

A control circuit 24, which controls the transmission line circuit breaker 4 and the switch 22, opens the switch 22 in the resistor circuit 23 when a voltage is applied, throws the transmission cable breaker 4 with the resistor inserted in series in the reactor 3, then shorts the resistor after a previously set prescribed period by closing the switch 22 in the resistor circuit. - 特許庁

高品質の路車間通信を確保することができ、電波の飛びすぎによって生じる、望まない路車間通信を防止することができ、DSRC路車間通信方式によって移動局の位置を特定する際に移動局の通信機の性能の違いによって生じる誤差を減少させることができる路車間通信方式を提供すること。例文帳に追加

To provide a road-vehicle communication system, which can secure a high quality of road-vehicle communication, can prevent undesirable road- vehicle communication caused by excessive emission of electromagnetic waves, and can reduce an error caused by a difference in the performances of mobile station communication devices when the positions of the mobile stations are identified on the basis of a DSRC inter-vehicle communication system. - 特許庁

サムネイル画像取得部111と特徴量算出領域設定部112とが協働して、メーカーノート情報等を解析してサムネイル画像の取得・生成を行い、このサムネイル画像において、画像取得時において露出の影響を受けて得られる画像データが占める領域としての有効画像データ領域(露出関与領域)を特徴量算出領域とする。例文帳に追加

A thumbnail image capturing unit 111 and a feature amount calculation area setting unit 112 cooperatively capture/generate a thumbnail image by analyzing producer note information or the like and in the thumbnail image, an effective image data area (exposure related area) as an area occupied by image data obtained while being affected by exposure in image capturing is defined as a feature amount calculation area. - 特許庁

該母材修復材(72)は、ベースメタルと相容性がある構造材料源を粉体又はワイヤの形態で供給し、レーザクラッディングによって固定シュラウド(24)の初期露出母材流路表面(70)上に位置させて該構造材料源を溶着させることによって施されて、修理された母材流路表面(76)を形成する。例文帳に追加

The base-metal restorative material 72 is applied by furnishing a source of a structural material compatible with the base metal, in a form such as a powder or a wire, and depositing the source of the structural material overlying the initially exposed base-metal flow-path surface 70 of the stationary shroud 24 by laser cladding to form a repaired base-metal flow-path surface 76. - 特許庁

基材上にメッシュ状導電層と絶縁層を順次有するディスプレイ用フィルターの周辺部に前記絶縁層が除去されて形成された前記メッシュ状導電層の露出部における露出不良を検出する方法であって、前記露出部上に導電性部材を配置して該導電性部材を介して電気抵抗値を測定し、該電気抵抗値から露出不良を検出することを特徴とするメッシュ状導電層の露出不良検出方法。例文帳に追加

The method for detecting an exposure failure in an exposure part of a mesh-like conductive layer, the exposure part being formed by removal of an insulation layer on the perimeter of a display filter including a mesh-like conductive layer and an insulation layer successively on a base material, comprises measuring an electric resistance through a conductive member placed on the exposure part, and detecting an exposure failure from the electric resistance. - 特許庁

炉心シュラウドと係合するために液圧駆動により選択的に伸出自在な第1伸出自在部材を有する第1脚と第2伸出自在部材を有する第2脚と、第3の一部部材と係合するための第3伸出自在部材を有する第3脚と、加工工具200,300を現場にて位置決めするために一部部材と嵌合する嵌合部とを有し、第1、第2および第3伸出自在部材が伸出して前記炉心シュラウド支持板14上にこの支持ベース100を位置決めする。例文帳に追加

The first, second and third extensible members are extended, to thereby position the support base 100 on the core shroud support plate 14. - 特許庁

集合住宅等の玄関建具等の改修で既存枠を撤去する場合はコンクリート破砕機等を使い枠周辺の壁床等を破砕し撤去しているが、激しい工事公害が発生するため既存枠に新規枠を被せ間口を狭める姑息な方法以外の方法として既存枠の新規枠との接続代を残した露出部分のみを切り取り既存枠と同一寸法の新規枠を螺子等により連節係止する新たな工法に使用する工事公害を伴わず既存枠の指定位置を切り裂き露出部分のみを取り除く工具が必要となる。例文帳に追加

To provide a new tool that avoids the reduction of opening dimensions and is effective in reducing nuisances by construction work, saving time, economic efficiency, etc. - 特許庁

例文

ウラン燃料集合体と、MOX燃料集合体とが取替燃料集合体としてそれぞれ予め定められた本数ずつ同時に装荷される原子炉炉心において、炉心内の燃料集合体配列領域のうち、最外周領域と最外周から2層目の領域とからなる炉心周辺領域に占めるMOX燃料集合体の割合を、前記炉心周辺領域より内側の中央領域に占めるMOX燃料集合体の割合より大きくした。例文帳に追加

In the reactor core to be simultaneously loaded with uranium fuel assemblies and MOX fuel assemblies of predetermined numbers, the fraction of MOX fuel assemblies occupying the core periphery region consisting of the outermost region and the second layer from the outermost region among the fuel assembly array region in the core is made larger than the fraction of MOX fuel assemblies occupying the middle region inside the core periphery region. - 特許庁

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