「"さんじゅつへいきん"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

一実施形態の平均は、屈折率の算術平均である。例文帳に追加

In one embodiment, the average is an arithmetic mean of the indexes of refraction. - 特許庁

前記鋼板は表面の算術平均うねりWaが0.6μm以下である。例文帳に追加

The arithmetic mean waviness Wa of the surface of the steel sheet is ≤0.6 μm. - 特許庁

この層１２Ｂ_ｎの上面の算術平均粗さは２ｎｍ以下である。例文帳に追加

Arithmetic average roughness in the upper surface of the layer 12B_n is 2nm or less. - 特許庁

ベース平面の表面粗さは算術平均粗さで０．８μｍ以下である。例文帳に追加

The surface roughness of the base plane is ≤0.8 μm in arithmetic average roughness. - 特許庁

現像スリーブ２０３２の算術平均粗さは０．１５以上である。例文帳に追加

The arithmetic mean roughness of the developing sleeve 2032 is ≥0.15. - 特許庁

逆数の算術平均の逆数として表されるn個の数字の平均例文帳に追加

the mean of n numbers expressed as the reciprocal of the arithmetic mean of the reciprocals of the numbers  - 日本語WordNet

算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する反射防止膜。例文帳に追加

The antireflection film has irregularities of 1 to 30 μm arithmetic mean roughness (Ra). - 特許庁

また、磁石素体２は、その表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．０８〜０．８μｍである。例文帳に追加

The magnet body 2 has a surface arithmetic mean roughness (Ra) of 0.08 to 0.8 μm. - 特許庁

LPRM増幅器６と算術平均回路８との間から分岐してLPRM指示計７を接続する。例文帳に追加

An LPRM indicator 7 is connected diverged from between the LPRM amplifier 6 and arithmetic processing circuit 8. - 特許庁

前記薄膜は、算術平均粗さＲａが１μｍ以下の凹凸を表面に有することを特徴とする。例文帳に追加

The thin film has ruggedness with the arithmetic average roughness Ra of ≤1 μm, on the surface. - 特許庁

基板１の表面粗さ（算術平均粗さＲａ）が、Ｘμｍ≦Ｒａ≦０．１μｍの範囲内である。例文帳に追加

The surface roughness (arithmetic mean roughness Ra) of a substrate 1 is within the range of X μm≤Ra≤0.1 μm. - 特許庁

第１の主面１０は、０．１５μｍ〜１．０μｍの算術平均高さ（Ｒａ）を有している。例文帳に追加

The first main surface 10 has an arithmetic mean height (Ra) of 0.15-1.0 μm. - 特許庁

また、金属酸化物膜の表面の算術平均粗さＲａを１０ｎｍ以下とする。例文帳に追加

The arithmetic average roughness of the metal oxide film is set being ≤10 nm. - 特許庁

粗面部１ｅの表面の算術平均粗さＲａ（μｍ）は０．０２以上、０．８以下である。例文帳に追加

The arithmetic average roughness Ra (μm) of the surface of rough surface portions 1e is 0.02-0.8. - 特許庁

反射膜の算術平均粗さＲａは０．５ｎｍ以下であり、反射膜の厚さは２５ｎｍ以上である。例文帳に追加

The reflection film has ≤0.5 nm arithmetic average roughness Ra and ≥25 nm thickness. - 特許庁

前記水溶性保護膜の算術平均粗さＲａは、０．０５〜３０μｍである。例文帳に追加

The water-soluble protective film has arithmetic average roughness Ra of 0.05-30 μm. - 特許庁

前記凹凸構造の算術平均傾斜Δａは０．０５〜５°であってもよい。例文帳に追加

An arithmetic average inclination Δa of the uneven structure can be in the range from 0.05 to 5°. - 特許庁

そして、該配向制御膜６ａ，６ｂの算術平均粗さＲａを、 Ｒａ＜０．５ｎｍ にする。例文帳に追加

An arithmetic average roughness Ra of the alignment control films 6a, 6b is controlled to satisfy Ra<0.5 nm. - 特許庁

そして、該配向制御膜６ａ，６ｂの算術平均粗さＲａを、 Ｒａ＞０．６ｎｍ にする。例文帳に追加

Furthermore, arithmetic average roughness Ra of the alignment control layers 6a, 6b is made to satisfy an inequality Ra>0.6 nm. - 特許庁

チューブの最内層は平滑であり、算術平均荒さ（Ｒａ）が０．３μｍ以下であることが好ましい。例文帳に追加

The innermost layer of the tube is preferably smooth, having an arithmetic average roughness (Ra) of ≤0.3 μm. - 特許庁

また、キャップ１１の内面の算術平均粗さは、０．３μｍ以下にされている。例文帳に追加

Arithmetic mean roughness inside the cap 11 is kept at 0.3 μm or lower. - 特許庁

又、磁気記録媒体１０は、表面の算術平均粗さが０．３ｎｍ以上に制限されている。例文帳に追加

In the magnetic recording medium 10, the arithmetic average roughness of the surface is limited to 0.3nm or more. - 特許庁

すなわち、画像解析部３２は、各テンプレート領域内の輝度成分の算術平均を取る。例文帳に追加

Namely, the image analysis portion 32 calculates an arithmetic mean value for lumimance components in each template region. - 特許庁

また、粗化部５の表面粗さ（算術平均高さ）Ｒａは、１μｍ〜３μｍであることが好ましい。例文帳に追加

Furthermore, the surface roughness (arithmetic mean height) Ra of the roughened part 5 is preferably 1-3 μm. - 特許庁

Ｒａ（算術平均粗さ）≦２．０μｍＲｚ（十点平均粗さ）≦１０．０μｍＲｙ（最大高さ）≦１０．０μｍ例文帳に追加

(maximum height)≤10.0μm. - 特許庁

平均化回路１６から出力される算術平均後のラインデータを、ラインメモリ１４，１５に再度入力して繰り返し平均化回路１６による算術平均処理の対象とすることができる。例文帳に追加

Arithmetically averaged line data outputted from an averaging circuit 16 is inputted again to line memories 14 and 15 and subjected to arithmetic averaging by the iteration averaging circuit 16. - 特許庁

所定の算術平均粗さ（Ｒａ）の表面を有する金属基材１に、前記算術平均粗さの値よりも小さい平均粒子径を有する触媒粉末２が担持されてなることを特徴とする触媒エレメントを用いる。例文帳に追加

The catalyst element is used in which a metal substrate 1 with a surface having a predetermined arithmetical mean roughness (Ra) supports catalyst powder 2 having an average particle diameter smaller than a value of the arithmetical mean roughness. - 特許庁

また、膜面の算術平均粗さＲａ（ｉ）が、フィルム基板表面の算術平均粗さＲａ（ｆ）に対し、Ｒａ（ｉ）−Ｒａ（ｆ）≦２ｎｍであることを特徴とする。例文帳に追加

Moreover, an arithmetical mean roughness Ra(i) of a film surface to that Ra(f) of a film substrate surface satisfies Ra(i)-Ra(f)≤2nm. - 特許庁

Ｒａ比率＝Ｒａ[基材]／Ｒａ[校正板] …（１） ただし、 Ｒａ[基材]； 前記基材（皮膜を持たないもの）の算術平均粗さＲａ（μｍ） Ｒａ[校正板]； 校正板の算術平均粗さＲａ（μｍ）例文帳に追加

Ra ratio=Ra [base material]/Ra [calibration plate] (1), where Ra [base material] is an arithmetic mean roughness Ra (μm) of the base material (without coating), and Ra [calibration plate] is an arithmetic mean roughness Ra (μm) of calibration plate. - 特許庁

セラミック多層配線基板４の主面の算術平均粗さＲa1が０．０１〜０．１μｍであり、かつ金属パッド５の上面の算術平均粗さＲa2が０．１〜０．５μｍである。例文帳に追加

Arithmetic average roughness Ra1 on the main surface of the ceramic multilayer wiring board 4 should be 0.01 to 0.1 μm, and at the same time arithmetic average roughness Ra2 on the upper surface of a metal pad 5 should be 0.1 to 0.5 μm. - 特許庁

樹脂フィルム１０としては、算術平均表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下である平滑フィルム１０Ａと、算術平均表面粗さ（Ｒａ）が０．２〜２．０μｍである粗面フィルム１０Ｂとを組み合わせて用いる。例文帳に追加

A smooth film 10A having arithmetic average surface roughness Ra of 0.1 μm or less and a rough surface film 10B having arithmetic average surface roughness Ra of 0.2-2.0 μm are mutually combined for use as the resin-made film 10. - 特許庁

上記第１の粗化硬化物の表面の算術平均粗さＲａは、比較的穏やかな条件で得られた上記第２の粗化硬化物の表面の算術平均粗さＲａの４倍以下である。例文帳に追加

The arithmetic average roughness Ra of the surface of the first roughened cured product is ≤4 times the arithmetic average roughness Ra of the surface of a second roughened cured product obtained under relatively mild conditions. - 特許庁

そして、ストアされている計１６個の乱数の算術平均値を求め、得られた算術平均値に対応する確変継続回数をＲＯＭ１０２のテーブルから取り出し、取り出し確変継続回数を設定する。例文帳に追加

Then, the arithmetic average value of the total of 16 pieces of the stored random numbers is obtained, the number of times of probability variation continuation corresponding to the obtained arithmetic average value is taken out from the table of a ROM 102 and the taken-out number of times of the probability variation continuation is set. - 特許庁

表面の粗さ曲面の算術平均面に対して、算術平均粗さ（Ｒａ）の２倍以上の高さの凸部分の、ナノインデンテーション法で測定した硬さが２ＧＰａ以上であることを特徴とする錫めっき鋼板。例文帳に追加

In the tin-plated steel sheet, a projecting part having height ≥2 times of arithmetic average roughness (Ra) on the arithmetic average surface of the rough curved surface has ≥2 GPa hardness measured by a nanoindentation method. - 特許庁

また、第１面１１、第２面１２及び反射面１３では、各々、面中央１１ａ，１２ａ，１３ａの表面の算術平均粗さ値に比べて、面周縁１１ｂ，１２ｂ，１３ｂの表面の算術平均粗さ値の方が大きい。例文帳に追加

The arithmetic average roughness values on the peripheral parts 11b, 12b and 13b of the first face 11, the second face 12 and the reflection face 13 are greater than those on the central parts 11a, 12a and 13a of the surfaces, respectively. - 特許庁

第３の態様としては、格子点から読み出したデータを算術平均して色変換データを算出する。例文帳に追加

In the third situation, data read from the grid points are arithmetically averaged so as to calculate color conversion data. - 特許庁

その算術平均粗さＲａは０．３〜１．０μｍ、平均凹凸周期は５〜３０μｍ、ビッカース硬度は５００〜１０００Ｈｖである。例文帳に追加

The arithmetic mean roughness Ra of the embossing plate is 0.3 to 1.0 μm, the mean ruggedness period is 5 to 30 μm, and the Vickers hardness is 500 to 1,000 Hv. - 特許庁

高分子フィルムのトナー担持体１２に対向する表面の算術平均粗さＲａは０．０１μｍ〜２μｍである。例文帳に追加

The arithmetic average roughness Ra of the surface of the high polymer film opposed to the toner carrier 12 is 0.01-2μm. - 特許庁

排水溝１０の壁面の表面粗さは、日本工業規格で規定する算術平均粗さ（Ｒａ）で、２．０μｍ以下である。例文帳に追加

The surface roughness of the wall surfaces of the drainage grooves 10 is an arithmetic mean roughness (Ra) of ≤2.0 μm defined by Japan Industrial Standard (JIS). - 特許庁

表面における平均傾斜角θaが０．２°〜１．５°であり、かつ、算術平均粗さＲａが０．０５〜０．４である。例文帳に追加

Average tilt angle θa on the surface is 0.2° to 1.5° and the arithmetic average roughness Ra is 0.05 to 0.4. - 特許庁

半導体素子２を収容する凹部の内側面４の算術平均粗さRａが０.０５〜０．４μｍである。例文帳に追加

The arithmetic average roughness Ra of the inside face of the recess part storing the semiconductor element 2 is 0.05-0.4 μm. - 特許庁

算術平均粒子径ｄｎが４５０〜１０００ｎｍ程度の比較的大きな粒子径の炭素微小球の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a carbon minute sphere having a relatively large particle diameter with an arithmetic average particle diameter dn of about 450-1,000 nm. - 特許庁

クリーニング層は、算術平均粗さＲａが０．０５μｍ以下であり、かつ、最大高さＲｚが１．０μｍ以下である凹凸形状を有する。例文帳に追加

The cleaning layer has an uneven shape having an arithmetic average roughness Ra of 0.05 μm or less and a maximum height Rz of 1.0 μm or less. - 特許庁

表面の面粗さがＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）で０．０５〜１．０μｍとしてなる電子顕微鏡用試料台。例文帳に追加

In this sample table for the electron microscope, surface roughness of a surface is set to 0.05 to 1.0 μm in arithmetical mean roughness Ra stipulated in JIS B 0601. - 特許庁

ベース１０とスリーブ１１の接着面の算術平均粗さＲａは０．１〜１．０μｍの範囲にある。例文帳に追加

An arithmetic average roughness Ra on an adhesive face between the base 10 and the sleeve 11 is 0.1-1.0 μm. - 特許庁