「"さんじゅつへいきん"」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

上成形面を成形する上型面と、下成形面を成形する下型面と、外径規制面を成形する規制型面と、を有する成形型であって、規制型面は、算術平均粗さＲａが１６ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。例文帳に追加

The molding die has an upper die face forming an upper molded face, a lower die face forming a lower molded face and a regulation mold face forming an outside diameter regulation face, wherein the regulation mold face has an arithmetic average roughness Ra of 16-100 nm. - 特許庁

芯表面の少なくとも８０μｍ×８０μｍの領域内における算術平均粗さを０．４〜１．０μｍ、且つ最大高低差を３〜８μｍとする。例文帳に追加

An arithmetic mean roughness within range of at least 80 μm×80 μm on the surface of the lead is between 0.4 and 1.0 μm, and a maximum difference in high and low is between 3 and 8 μm. - 特許庁

算術平均中心線粗さＲａとして表される０．４５μｍより小さい表面粗さを有する研磨され、陽極酸化されたアルミニウム支持体を使用することにより、印刷マスターの運転長さが改良される。例文帳に追加

By using the aluminum support which is polished to have surface roughness below 0.45 μm expressed as arithmetic average center line roughness Ra and subjected to anodic oxidation, the operation length of the printing master is improved. - 特許庁

各第１のピン３の接触面１２と各第２のピン４の接触面１４の算術平均粗さＲａが、それぞれ０．１μｍ以上且つ２μｍ以下の範囲に設定されている。例文帳に追加

The arithmetic mean surface roughness Ra of the contacting surface 12 of the first pin 3 and the contacting surface 14 of the second pin 4 is set to the range 0.1-2 μm, including the limits. - 特許庁

めっき後の調質圧延を、算術平均粗さ：Raが0.7 μｍ以上、粗さ曲線の平均線方向の長さ25.4mm当たりの山の数：PPI が150 以上の表面粗さを有するロールを用いて行ってもよい。例文帳に追加

Temper rolling after the plating can be performed by using a roll having a surface roughness that the arithmetic average roughness: Ra is ≥0.7 μm, and the number of peaks per length of 25.4 mm in the average line direction of a roughness curve: (PPI) is ≥150. - 特許庁

この水圧転写シートにおいて、基材シート２の転写層側の面の表面粗さがＪＩＳ−Ｂ０６０１−２００１による算術平均高さＲａで０．１μｍ以下であることが好ましい。例文帳に追加

In this hydraulic transfer sheet, the preferable surface roughness of the surface on the transfer layer side of the base material 2 is not more than 0.1 μm by the arithmetic mean height Ra according to JIS B 0601-(2001). - 特許庁

その後、セラミックス製プレート１の周縁面取り部３および周側面４を算術平均粗さ０．４２μｍ以下に研磨、または樹脂２を５０μｍ〜５００μｍでほぼ均一な厚さに被覆する。例文帳に追加

Subsequently, a peripheral chamfer portion 3 and the peripheral side face 4 of the ceramics plate 1 are mirrored to the level of the average roughness of 0.42 μm or less, or are coated with resin 2 to an almost equivalent thickness of 50 to 500μm. - 特許庁

定着ローラ２００の外周面のうち、通紙時に記録シートが接触する領域の算術平均表面粗さＲａ２が、０．４２μｍ以上、２．７２μｍ以下の範囲内にある。例文帳に追加

The arithmetic average surface roughness Ra2 of an area in contact with the recording sheet during paper passing, in an outer peripheral surface of the fixing roller 200, falls within a range of 0.42 to 2.72 μm. - 特許庁

電極１５の表面には酸化膜１７を成膜し、酸化膜１７の表面１７ａの算術平均粗さＲａを３．０〜１０．０ｎｍの範囲内にした。例文帳に追加

An oxidized film 17 is formed on the surface of an electrode 15, and an arithmetic mean coarse Ra of the oxidized film 17 surface 17a is set to within 3.0-10.0 nm. - 特許庁

保護層２０の外側の表面の算術平均傾斜Δａを０．０１４以上、０．１以下とすることで、耐傷性の高い放射線画像変換パネルを得ることができる。例文帳に追加

When an arithmetic mean inclination Δa on the outside surface of the protective layer 20 is set to 0.014-0.1, the radiographic image conversion panel can be equipped with high resistance to damage. - 特許庁

本発明のブランケットは、高分子ＥＬ材料インクの印刷で使用されるブランケットにおいて、表面の十点平均粗さＲｚが２μｍ以下、もしくは、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以下であることを特徴とする。例文帳に追加

In relation to a blanket used in printing polymer EL material ink, this blanket is characterized by that ten-point average roughness Rz of a surface is below 2 μm or arithmetic average roughness Ra is below 0.2 μm. - 特許庁

ドリル加工等によってナット１２に形成されるボール戻し用貫通路１９の算術平均粗さを１０μｍ以下、好ましくは５μｍ以下にする。例文帳に追加

An arithmetic average roughness of a through path 19 for returning balls formed in a nut 12 by drilling or the like is made to be 10 μm or less, preferably 5 μm or less. - 特許庁

アモルファス状膜１３は、厚さが１μｍ〜５０μｍの範囲、硬さがＨＶ８００〜２２００の範囲、表面の算術平均粗さＲａが０．５μｍ以下、且つ、十点平均粗さＲｚが２．０μｍ以下であることが好ましい。例文帳に追加

The amorphous film 13 preferably has a thickness in a range of 1 μm-50 μm, hardness in a range of HV800-2200, a surface arithmetic mean roughness Ra of 0.5 μm or smaller, and a ten point height roughness Rz 2.0 μm or smaller. - 特許庁

現像剤担持体の表面の算術平均表面粗度Ｒａが０．１〔μｍ〕以上で、０．６〔μｍ〕以下にされ、かつ、表面自由エネルギーＳＦＥが１５〔ｍＮ／ｍ〕以上で、２６〔ｍＮ／ｍ〕以下にされる。例文帳に追加

Mean average surface roughness Ra of the surface of the developer carrier is 0.1-0.6 [μm], and surface free energy SFE is 15-26 [mN/m]. - 特許庁

剥離シート１４は、粘着層１２に密着する面の表面粗さが算術平均粗さで０．１μｍ以下であり、この表面粗さが粘着層１２の表面に転写される。例文帳に追加

In the release sheet 14, the surface roughness of the surface closely adhered to the adhesive layer 12 is 0.1 μm or less in arithmetic average roughness, and the surface roughness is transferred to the surface of the adhesive layer 12. - 特許庁

研磨で基板背面の表面粗さＲａ（算術平均粗さ）を０．００１μｍ以上２μｍ以下とすることでウェハーは反りのない平坦状態になり、その後、ウェハーを素子に分離する。例文帳に追加

The wafer is formed so as to be flat state having no warpage by making the surface roughness Ra (mathematical average roughness) of the rear surface of the substrate so as to be not less than 0.001 μm and not more than 2 μm through polishing and, thereafter, the wafer is separated into the elements. - 特許庁

反射鏡２０が形成される基体１０の反射鏡形成面１０ａの算術平均粗さＲａを１５μｍ以下にし、最大高さＲｙを２０μｍ以下にする。例文帳に追加

The arithmetic average roughness Ra of the reflector-forming surface 10a of the substrate 10, on which the reflecting mirror 20 is formed, is set at most 15 μm; and the maximum height Ry thereof is set at most 20 μm. - 特許庁

算術平均粗度Ｒａが１００ｎｍ以下の表面を有する金属部３ａの表面に、凹凸パターンを有するマスターモールド３０を押し付けて、凹凸パターン４を金属部３ａに転写する工程を有する。例文帳に追加

The method comprises a process in which a master mold 30 having the recessed and protruded pattern is pressed on the surface of a metal part 3a having a surface of an arithmetical mean degree of roughness Ra of 100 nm or smaller to transfer the recessed and protruded pattern 4 to the metal part 3a. - 特許庁

コイル３ａ３、３ｂ３は、コイル間において封止部１２ａ、１２ｂと軸部３ａ２２、３ｂ２２とが接触するように巻装されており、軸部３ａ２２、３ｂ２２は算術平均粗さＲａが０．２０μｍ以下である。例文帳に追加

The coils 3a3 and 3b3 are wound to bring the sealing parts 12a and 12b into contact with the shaft parts 3a22 and 3b22 between the coils, and the arithmetic mean roughness Ra of the shaft parts 3a22 and 3b22 is set not larger than 0.20 μm. - 特許庁

亜鉛めっき層のＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４で規定される算術平均粗さ：Ｒａ（μｍ）と、片面当たりのめっき付着量：Ｃｗ（ｇ／ｍ^2）との関係が、下記式（１）を満足してなる亜鉛めっき鋼板である。例文帳に追加

The galvanized steel sheet satisfies expression (1): Ra≥0.015Cw in the relationship between the arithmetic mean roughness of a zink plating layer: Ra (μm) stipulated by JIS B 0601-1994 and plating coating weight : Cw (g/m^2) per side. - 特許庁

前記凹凸層１４表面の凹凸部１３は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）として０．０５〜５μｍであり、かつ凹凸部１３の平均間隔（Ｓｍ）として５〜５００μｍであることが好ましい。例文帳に追加

Preferably, the irregularities 13 on the surface of the irregularity layer 14 is 0.05 to 5 μm as the arithmetic mean roughness (Ra) stipulated in JIS B 0601-1994 and is 5 to 500 μm as the mean spacing (Sm) of the irregularities 13. - 特許庁

Ｐｔを主成分とする１または複数の第１相と、Ｃｕを含む１または複数の第２相と、を表面に有し、両相の表面において第１相は第２相よりも算術平均表面粗さが大きいこと。例文帳に追加

The ornament comprises one or a plurality of first phases essentially consisting of Pt and one or a plurality of second phases comprising Cu in the surface, and in the surfaces of both the phases, the arithmetic average surface roughness of the first phase(s) is higher than that of the second phase(s). - 特許庁

樹脂枠体２の接合面側に樹脂枠体２の内側の略全周にわたる切り欠き部５が形成されており、かつ切り欠き部５の内面の算術平均粗さＲａが０.０５〜０.４μｍである。例文帳に追加

Notched parts 5 are formed almost entirely around the inside circumference of the resin frame body 2 on the bonding side of the resin frame body 2, where the arithmetic average of the surface roughness Ra on the inner surface of the notched part 5 is 0.05 to 0.4 μm. - 特許庁

このとき、サーボパターン領域２１の表面の算術平均粗さＲａが０．３ｎｍ以上であることが好ましく、サーボパターン領域２１の表面に存在する凹凸が６ｎｍ以下の段差を有することが好ましい。例文帳に追加

At this time, it is preferable that arithmetic average roughness Ra on the surface of the servo pattern area 21 is 0.3nm or more and it is preferable that the irregularity existing on the surface of the servo pattern area 21 has a step with 6nm or less. - 特許庁

打撃平面のめっき層は、砥粒を衝突させることにより表面の算術平均粗さＲａｆが０．２０μｍよりも大に粗面化された粗面部７ａを具える。例文帳に追加

The plating layer of the blow plane is equipped with a rough surface part 7a in which the arithmetical mean roughness Raf of the surface is roughened to larger size than 0.20 μm by making abrasive grain collide. - 特許庁

好ましくは、前記画像受理層の表面のＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４における算術平均粗さ（Ｒａ）を０．９μｍ以下、局部山頂平均間隔（Ｓ）を６０μｍ以上となるように構成する。例文帳に追加

Preferably the arithmetic mean roughness (Ra) in JIS B0601:1994 of the surface of the image accepting layer is made 0.9 μm or less and the local peak average spacing (S) thereof 60 μm or more. - 特許庁

蓋体３の一方主面Ａの周縁部の算術平均粗さＲａが３．０μｍ未満であり、他方主面Ｂの周縁部がエッチングにより薄肉化されている。例文帳に追加

The mathematical mean roughness Ra of the peripheral edge of one main surface A of the lid 3 is ≤3.0 μm, and the peripheral edge of the other main surface B is made thin by etching. - 特許庁

また、基材１３についてＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定されている算術平均粗さ（Ｒａ）は、ダイヤモンド粒子１５の平均粒子径よりも小さくなることが好ましい。例文帳に追加

Further, the arithmetic average roughness (Ra) prescribed in JIS B 0601 of the base material 13 is preferably controlled to smaller than the average particle diameter of the diamond particles 15. - 特許庁

研磨加工後の真球度が±２５μｍであり、表面の平均粗さが算術平均粗さＲａで０．０２５μｍ以上である球状の窒化珪素（Ｓｉ_３Ｎ_４）焼結体から成ることを特徴とする加工治具用セラミックスボールである。例文帳に追加

The ceramic ball for the machining tool is formed of spherical silicon nitride (Si_3N_4) sintered compact of the sphericity after polishing of ±25μm, and the mean surface roughness of ≥ 0.025μm in terms of the arithmetic mean roughness Ra. - 特許庁

この負極合剤を、０．２μｍ〜１０μｍの算術平均粗さＲａを有する金属箔からなる負極集電体に塗布し乾燥させ、焼成することにより負極を作製する。例文帳に追加

The negative electrode is fabricated in a way to apply the negative electrode mixture solvent on a negative electrode collector comprising a metal foil with the arithmetic mean roughness of 0.2 to 10μm followed by drying and calcination processes. - 特許庁

上記のりん酸塩粒子は、算術平均粒径が０．１〜２μｍであり、かつＺｎ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃａ、Ｍｇ及びＡｌから選ばれる２価又は３価の金属の少なくとも１種を含有するりん酸塩の粒子である。例文帳に追加

The phosphate particles have an arithmetic mean particle diameter of 0.1 to 2 μm, and contain at least one kind of bivalent or trivalent metal selected from Zn, Fe, Mn, Ni, Co, Ca, Mg and Al. - 特許庁

少なくとも透明電極が成膜される基板表面の算術平均粗さＲａとその平均長さＲＳｍが、０．４≦Ｒａ／ＲＳｍ≦１．２である。例文帳に追加

The glass substrate for a flat display is provided in which an arithmetic mean roughness Ra and an average length RSm of a substrate surface having a transparent electrode deposited thereon are at least 0.4≤Ra/RSm≤1.2, respectively. - 特許庁

加熱軟化したガラスプリフォームを押圧するガラスレンズ成形型において、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）が３〜６μｍの成形面を有するガラスレンズ成形型。例文帳に追加

The glass lens forming mold, against which a glass preform softened by heating is pressed, has a forming face whose arithmetic average roughness (Ra) as defined by JIS B 0601 is 3 to 6 μm. - 特許庁

算術平均粗さＲａを１〜５μｍとする、または、１．５〜７．０μｍの幅とその幅以上の深さを有する溝を０．１ｍｍあたり３〜８本として７０〜９０％の平滑率で施すことにより表面粗さを付与する。例文帳に追加

The surface is roughened by making its arithmetic average roughness Ra 1-5 μm or by forming 3-8 channels having a width of 1.5-7.0 μm and a depth greater than the width per 0.1 mm to make a smoothness rate 70-90%. - 特許庁

微細な凹凸３は、凹凸面の算術平均粗さRaが 0.5〜15μｍ、凹凸の平均間隔Smが 0.5〜10μｍ、凹凸の平均傾斜θa が45°以上、90°未満となるように形成する。例文帳に追加

The fine unevenness 3 preferably has an arithmetical average roughness Ra of 0.5 to 15 μm, an average distance Sm of 0.5 to 10 μm, and an average inclination θa of ≥45° and <90°. - 特許庁

ガラス母材として、その算術平均表面粗さＲａが０．０５μｍ乃至１．２μｍの範囲内のガラスを用い、該ガラスを加熱しつつ延伸後、所望の長さに切断して、ガラススペーサを製造する。例文帳に追加

Glass, the arithmetic mean surface roughness Ra of which is within a range from 0.05μm to 1.2μm, is used as a glass base material, and after extending the glass while heating it, it is cut to a desired length to manufacture this glass spacer. - 特許庁

Ｂｃ＝Ｂｒ／Ｍ ここで、Ｂｒはたて方向の曲げ剛性とよこ方向の曲げ剛性の算術平均曲げ剛性（単位：ｇｆ・ｃｍ^２／ｃｍ）を表し、Ｍは目付（単位：ｇ／ｍ^２）を表す」である。例文帳に追加

Bc=Br/M, wherein Br represents arithmetic mean flexural rigidity (unit: gf-cm^2/cm) of the flexural rigidity in the longitudinal direction and the flexural rigidity in the lateral direction, and M represents a basis weight (unit: g/m^2). - 特許庁

また、加圧部材２０２、２０５の定着ローラ２００に対向する主面のうち、通紙時に記録シートが接触する領域の算術平均粗さＲａ１は０．２１μｍ以下である。例文帳に追加

The arithmetic average surface roughness Ra1 of an area in contact with the recording sheet during paper passing, in main surfaces of the pressure members 202, 205 facing the fixing roller 200, is 0.21 μm or less. - 特許庁

シリコンウェハ載置側の表面のうち、少なくともシリコンウェハ載置部以外の表面の面粗さを、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）で１〜１０μｍとしてなるサセプター。例文帳に追加

The susceptor is manufactured in such a way that, in the surface of silicon wafer placing side, surface roughness of at least the surface other than the silicon wafer placing part has an arithmetic average roughness (Ra) of 1-10 μm stipulated by JIS 0601. - 特許庁

ダイヤモンド砥粒を含む砥石を使った機械研磨により、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ以下になるようダイヤモンド薄膜２４０を平滑化する。例文帳に追加

The diamond thin film 240 is smoothened by mechanical grinding using a grindstone containing a diamond abrasive to obtain ≤20 nm arithmetic average roughness (Ra) of the surface. - 特許庁

流体の通過する流路と、該流路に連通する細孔を有するセラミック製ノズルにおいて、少なくとも上記細孔の表面粗さが算術平均粗さＲａで０．０５μｍ以下とする。例文帳に追加

In the ceramic nozzle having a passage to pass a fluid and a pore connected to the passage, the surface roughness of at least the above pore is controlled to ≤0.05 μm arithmetic average roughness Ra. - 特許庁

透明基板２の少なくとも一方の面が微細凹凸形状３を有し、微細凹凸形状３の算術平均粗さ（Ｒａ）、自乗平均粗さ（Ｒｍｓ）、平均傾斜角（θａ）が、それぞれ特有の値を示す。例文帳に追加

At least one surface of a transparent substrate 2 has a fine recesses and projections 3, and each of the arithmetic average roughness (Ra), root mean average roughness (Rms) and average inclination angle (θa) of the fine recesses and projections 3 is a specified value. - 特許庁

ロータハブＲの軸１とスリーブＳの挿入孔５とが接触する接触部２３のうち表面硬度が大きい側の算術平均粗さを０．０２μｍ以下に設定する。例文帳に追加

Among contact parts 23 bring into contact of a shaft 1 of the rotor hub R with an insertion hole 5 of the sleeve S, surface hardness large side arithmetic mean roughness is set to 0.02 μm or less. - 特許庁

ホーニング処理面１０１は、砥粒体を含有した液体をカーテン状にノズルから噴射することで、算術平均粗さＲａが０．３〜０．７μｍ、最大高さＲｍａｘが２．０〜４．８μｍの表面処理が施されている。例文帳に追加

With the honing treated surface 101, the surface treatment having an arithmetic mean roughness Ra of 0.3-0.7 μm and a maximum height Rmax of 2.0-4.8 μm is provided by jetting a fluid containing abrasive grains from a nozzle in the form of a curtain. - 特許庁

中仕上げ加工されたＡｌＮ焼結体の表面を、算術平均粗さＲaが０．０５μｍ以下となるように鏡面加工し、加工表面のスキューネスＲskを０以上１以下に仕上げ加工する。例文帳に追加

The surface of the AlN sintered body subjected to the intermediate finish-machining is subjected to a mirror finishing so that an arithmetic mean roughness Ra may be ≤0.05 μm and subjected to a finish-machining so that skewness Rsk of the machined surface may be ≥0 and ≤1. - 特許庁