「"さんじゅつへいきん"」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

陽イオン交換膜および陰イオン交換膜を接合したバイポーラ膜において、陽イオン交換膜と陰イオン交換膜の少なくとも一方の接合側の面が、算術平均粗さ（Ｒａ）で０．１〜１μｍの凹凸を成しているバイポーラ膜。例文帳に追加

In the bipolar membrane obtained by joining a cation exchange membrane and an anion exchange membrane, at least either face of the joined sides in the cation exchange membrane and the anion exchange membrane has ruggedness of 0.1 to 1 μm by the arithmetic average roughness (Ra). - 特許庁

０．５〜５ｅＶの禁止帯幅を有する半導体を含有する粘土成形物からなる光触媒体であって、前記粘土成形物の、少なくとも紫外線に照射される表面の算術平均粗さが２０〜２００μｍであることを特徴とする光触媒体。例文帳に追加

This photocatalyst consists of a clay molding which contains a semiconductor having forbidden band width of 0.5 to 5 eV and the surface of which to be irradiated with at least ultraviolet rays has 20-200 μm arithmetical mean roughness. - 特許庁

切削加工又は研削加工により得られた算術平均粗さＲａが５ｎｍを超える非球面形状の表面２１を有する基材２と、非球面形状の表面２１に設けられた塗膜３と、塗膜３上に設けられた反射膜４とを有する反射鏡１とする。例文帳に追加

This reflector mirror 1 has a base 2 having an aspherical surface 21 obtained through cutting or grinding and having asperities exceeding 5nm in a mean average roughness Ra, a film 3 coated on this aspherical surface 21, and a reflector film 4 formed on this coated film 3. - 特許庁

基材フィルム２の上に白金含有触媒層３を塗工形成した触媒層転写シート１であって、基材フィルム２表面は、濡れ性が４０〜９０度であり且つ表面粗さが０．０４〜０．５μｍの算術平均粗さを有することとした。例文帳に追加

The catalyst layer transfer sheet 1 is formed by applying a platinum-containing catalyst layer 3 to a substrate film 2, and the surface of the substrate film 2 has a wettability of 40-90 degrees and an arithmetic mean surface roughness of 0.04-0.5 μm. - 特許庁

９９．９％以上の純度のアルミニウム基板を、少なくとも機械的研磨し、算術平均粗さＲａを０．１μｍ以下、かつ表面光沢度６０％以上とし、さらに陽極酸化する、マイクロポアを表面に有するナノ構造体の製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing a nanostructure having micropores on the surface is carried out by subjecting an aluminum substrate having ≥99.9% purity to at least mechanical polishing to obtain ≤0.1 μm arithmetic average roughness Ra and ≥60% surface gloss, and then anodizing. - 特許庁

本発明は、表面にマイクロレンズアレイを有する液晶表示装置用光学シートであって、裏面に微細な凹凸形状を有し、この裏面の表面粗さＲａ（算術平均粗さ）が１．５μｍ以上４．０μｍ以下であることを特徴とする液晶表示装置用光学シートである。例文帳に追加

Disclosed is the optical sheet for the liquid crystal display device having a microlens array on the surface thereof, wherein the rear surface has a fine ruggedness shape, and the surface roughness Ra (arithmetic average roughness) of the rear surface is 1.5 to 4.0 μm. - 特許庁

少なくとも、基体とその表面に形成された金属薄膜層とからなる加熱定着用部材であって、前記基体の表面における算術平均粗さＲａが、０．１〜５μｍの範囲であることを特徴とする加熱定着用部材、およびそれを用いた電磁誘導加熱定着装置。例文帳に追加

In the electromagnetic induction heat fixing device, the used member for heat fixing consists of at least the substrate and the metal thin film layer formed on its surface and arithmetic mean roughness Ra of the substrate surface is within the range of 0.1 to 5 μm. - 特許庁

発泡層の表面にソリッド層が形成されている樹脂発泡シートであって、前記ソリッド層の表面粗さが０．１０μｍ以上の算術平均粗さ（Ｒａ）となるように形成されていることを特徴とする樹脂発泡シートなどを提供する。例文帳に追加

This resin foamed sheet or the like is formed with the solid layer on a surface of a foamed layer, and is formed to bring a surface roughness of the solid layer into 0.10 μm or more of arithmetic average roughness Ra. - 特許庁

基材微粒子の表面に、導電層及び低融点金属層が順次形成されている導電性微粒子であって、前記低融点金属層表面の算術平均粗さが５０ｎｍ以下であることを特徴とする導電性微粒子。例文帳に追加

In the conductive particulates wherein a conductive layer and a low melting-point metal layer are formed in sequence on the surface of each base material particulates, an arithmetric average roughness of the surface of the low melting-point metal layer is 50 nm or less. - 特許庁

配合炭のギーセラー最高流動度（ｌｏｇＭＦ）を調整する際に、配合炭を構成する石炭のうちギーセラー最高流動度が３．０以上の石炭について、ギーセラー最高流動度の算術平均値が４．０未満となるように配合することが好ましい。例文帳に追加

When adjusting the Gieseler maximum fluidity (logMF) of compounded coal, the compounding is preferably performed so that the arithmetic average value of the Gieseler maximum fluidity becomes less than 4.0, with respect to the coal having the Gieseler maximum fluidity of 3.0 or more among coals constituting the compounded coal. - 特許庁

被覆層の成膜は、成膜中にプロセスガスのイオンの一部が成形面に衝突することによって成形面の算術平均粗さ（Ｒａ）が成膜前よりも増大するように選択されたバイアス電圧を基材に印加した状態で行う。例文帳に追加

The deposition of the cover layer is conducted in a state in which a bias voltage, selected so as to make arithmetic average roughness (Ra) of the molding surface more increased than that before deposition due to collision of a portion of ions of a process gas with the molding surface during deposition, is applied to the base material. - 特許庁

マット面を片面に備える熱可塑性樹脂基板からなり、前記マット面の表面には、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５〜０．４μｍの凹凸が形成されており、ヘイズ（Ｈ）が０．５〜５％のディスプレイ保護用樹脂板である。例文帳に追加

The display protection resin plate is made of a thermoplastic resin substrate having a mat surface provided on one side of surfaces thereof, the surface of the mat surface has unevenness of an arithmetic average roughness (Ra) of 0.05 to 0.4 μm formed thereon, and a haze(H) of the display protection resin plate is 0.5 to 5%. - 特許庁

この透明導電性膜は、表面に凹凸構造を有しており、算術平均粗さＲａが０．０１〜０．１μｍ、最大高さＲｔが０．１〜１μｍであり、十点平均粗さＲｚが０．１〜１μｍであり、かつ凸部の頂部間平均間隔Ｓｍが５０〜３００μｍ程度であってもよい。例文帳に追加

The transparent conductive film has an uneven structure on the surface, wherein an arithmetic average roughness is 0.01-0.1 μm, a maximum height Rt is 0.1-1 μm, a ten-point average roughness is 0.1-1 μm, and an average interval Sm between tops of a convex may be about 50-300 μm. - 特許庁

成形材料と接触する金型表面の、測定領域１０μｍ角以下で測定される算術平均粗さＲａを５ｎｍ以下とし、かつ金型表面に直径１０〜８０ｎｍ、高さが１０〜４０ｎｍの範囲にある粒状の微細凸構造物を密度４００個／μｍ^２以上で形成する。例文帳に追加

In the mold, an arithmetical mean roughness Ra measured in a measuring region of 10 μm square or less of the mold surface in contact with a molding material is set to 5 nm or less, and fine protrusion structures with diameters of 10-80 nm and heights of 10-40 nm are formed on the mold surface with a density of 400 pieces/μm^2 or more. - 特許庁

そして、熱交換器１１（１６）は熱良導性の金属により形成されているとともに、絶縁層１２（１７）に接合された熱交換器１１（１６）の接合面の面粗度（Ｒａ（算術平均粗さ）：ＪＩＳ Ｂ０６０１）が４．７μｍ以下である。例文帳に追加

Hereupon, the heat exchanger 11 (16) is formed out of a heat conductive metal, and the plane roughness (Ra (arithmetical mean roughness): JIS B0601) of the joining surface of the heat exchanger 11 (16) joined to the insulating layer 12 (17) is not larger than 4.7 μm. - 特許庁

セラミック基板１の上面の樹脂枠体２の下方の部位に樹脂枠体２の内側面がその開口上に位置する溝５が略全周にわたって形成されており、かつ溝５の内面の算術平均粗さＲａが０．０５〜０．４μｍである。例文帳に追加

A groove 5 is made at a lower part of a resin frame 2 in the upper surface of a ceramic substrate 1 over a substantially entire circumference thereof, such that the inner side face of the resin frame 2 is located above the opening thereof, where arithmetic mean roughness Ra of the inner surface of the groove 5 is 0.05-0.4 μm. - 特許庁

反射型液晶表示装置１３において、反射型液晶表示パネル８上に導光板３にて構成したフロントライト１２を当接配置し、そして、この導光板３の当接面１５に算術平均粗さＲａ０．１μｍ以上の光反射防止板１６を設けている。例文帳に追加

In the reflection type liquid crystal display device 13, a front light 12 composed of a light guide plate 3 is abutted and arranged on a reflection type liquid crystal display panel 8, and an antireflection plate 16 having ≥0.1 μm arithmetic mean roughness Ra is provided on the abutting face 15 of the light guide plate 3. - 特許庁

互いに摺動する弁体の摺動面が平坦度１μｍ以下で、かつ算術平均粗さ（Ｒａ）で０．２μｍの平滑面を備えたディスクバルブにおいて、スティックスリップ現象や異音の発生がなく、長期間にわたって滑らかな摺動特性が得られるディスクバルブを提供する。例文帳に追加

To provide a disc valve having smooth sliding properties over a long period of time without causing stick slip phenomenon nor abnormal noise, having smooth slide surfaces of a valve element sliding each other having 1 μm or less flatness degree and 0.2 μm arithmetical average roughness (Ra). - 特許庁

樹脂組成物を少なくとも画像形成領域部に対応する部分に凹凸を設けた金型に射出成形することにより現像ローラを製造し、画像形成領域部の現像ローラの表面粗さ（Ｒａ：算術平均粗さ）が、０．５〜５．０μｍであることを特徴とする現像ローラ。例文帳に追加

The developing roller is manufactured by injection molding a resin composition into a mold provided with the unevenness at least at a part corresponding to an image formation region part, wherein the surface roughness (Ra: arithmetic mean roughness) of the developing roller in the image formation region part is 0.5 to 5.0 μm. - 特許庁

現像ブレード９と現像スリーブ１０の接触部に塗布する潤滑剤３として、トナー１１とは逆極性の球形ポリマー粒子であって、その重量平均粒径が現像スリーブ１０の表面の算術平均粗さＲａ値よりも小さいものを用いる。例文帳に追加

Spherical polymer particles which are of the polarity reverse to the polarity of a toner 11 and have the weight mean grain size smaller than the arithmetic mean roughness Ra value of the surface of a developing sleeve 10 are used as a lubricant 3 to be applied to the contacting part of a developing blade 9 and the developing sleeve 10. - 特許庁

また線材表面の算術平均粗さＲaが１．０μｍ以下であることから、ワイヤ表面と電極チップ内面との摩擦が小さくなって、ワイヤの送りがスムーズになり、ワイヤに詰まりや座屈が発生する恐れをさらに小さくしている。例文帳に追加

As the arithmetical mean roughness Ra of the wire surface is 1.0 νm or smaller, the friction between the wire surface and the inside face of the electrode tip is reduced and hence, the wire can be smoothly fed and the fear that jamming or buckling arises is further reduced. - 特許庁

一端が他端よりも口径の小さいスロート部１１Ａとされている音響管１１であり、その内面が全面的あるいは部分的に、算術平均粗さＲａで１８０μm〜１０mmの表面粗さを有する粗面部１１Ｃとされる。例文帳に追加

The acoustic tube 11 has a throat portion 11A having one end of a diameter smaller than that of the other end, wherein its inner surface is partially or entirely a rough surface portion 11C having a surface roughness of 180 μm-10 mm in terms of arithmetic mean roughness Ra. - 特許庁

アウターシリンダ６のシール摺動面６ａにアルマイト処理を施し、その表面粗さをＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に規定する算術平均粗さＲａで１．６以下、負荷長さ率ｔｐ(５０％)で６０％以上に設定した構成。例文帳に追加

A hydraulic clutch cut-off device is subjected to anodic oxide coating at the seal sliding surface 6a of an outer cylinder 6, whose surface roughness is not less than 1.6 at arithmetic average roughness Ra defined by B0601-1994, and not less than 60% at load length ratio tp(50%). - 特許庁

表面処理層の表面（３ａ）には０．５μｍ〜５．０μｍの算術平均表面粗さＲａで微細凹凸を与えるとともに、微細凹凸の局部山頂の平均間隔Ｓを０．５μｍ〜５０μｍ、且つ、Ｓ／Ｒａ比を１０未満としたことを特徴とする。例文帳に追加

Fine ruggedness of 0.5 to 5.0 μm by arithmetic mean surface roughness Ra is applied to the surface (3a) of the surface treatment layer, and further, the mean spacing S of the local crests of the fine ruggedness is controlled to 0.5 to 50 μm, and also, an S/Ra ratio is controlled to <10. - 特許庁

基材の表面に、主として平均粒子直径が０．１〜１０μｍの無機粒子からなる粒子層と、該粒子層上に算術平均表面粗さＲ_aが０．５〜５０μｍで厚さが２０〜２００μｍであるＣＶＤ法によるＳｉＣ被覆層を形成する。例文帳に追加

A particle layer consisting mainly of inorganic particles having 0.1-10 μm average particle diameter is formed on the surface of a substrate, and the SiC coating film layer having 0.5-50 μm arithmetically average surface roughness Ra and 20-200 μm thickness is formed on the particle layer by the CVD method. - 特許庁

黒鉛粉末、熱硬化性樹脂および内部離型剤を含む組成物を成形してなり、その表面が、算術平均粗さＲａ０．２７〜１．２０μｍ、かつ、最大高さ粗さＲｚ２．０〜８．０μｍである固体高分子型燃料電池セパレータ。例文帳に追加

This polymer electrolyte fuel cell separator is composed by molding a composition containing graphite powder, a thermosetting resin and an internal mold release agent, wherein its surface has an arithmetic average roughness Ra of 0.27-1.20 μm, and a maximum height roughness Rz of 2.0-8.0 μm. - 特許庁

窒化アルミニウム焼結体を固定砥石で研磨する方法において、算術平均粗さＲａおよび最大高さＲｙが共に小さく、且つ、研磨時間が短縮された、工業的に十分実施可能な、研磨された窒化アルミニウム焼結体の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of producing a polished aluminum nitride sintered compact having a small arithmetic mean roughness Ra and a small maximum height Ry, the method contributing to shortening of a polishing time, and being sufficiently industrially practical. - 特許庁

基板上に隔壁が形成されたプラズマディスプレイにおいて、隔壁頂部の最大高さＲｙが１０μｍ以下、かつ隔壁頂部の算術平均粗さＲａが１μｍ以下であることを特徴とするプラズマディスプレイにより達成される。例文帳に追加

The plasma display has the partitions on the substrates, where the maximum height Ry of partition top is 10 μm or less, and the arithmetic average of surface roughness Ra of the partition top is 1 μm or less. - 特許庁

摺動面に非晶質硬質炭素皮膜（２）を被覆したバルブリフター（１）及びシム（３）の製造方法において、ショットブラスト処理により基材表面（下地）の算術平均粗さをＲａ０．０１〜０.０３μｍかつキズの最大長さを２５０μｍ以下とし、その後に非晶質硬質炭素皮膜を被覆する。例文帳に追加

After that, the surfaces are coated with the amorphous hard carbon film. - 特許庁

透明フィルムと、この透明フィルムの上に形成されたハードコート層とを含む光学フィルムにおいて、前記ハードコート層の表面に凸部の頂部間平均間隔Ｓｍ６００〜１５００μｍ及び算術平均粗さＲａ０．０４〜０．２μｍの凹凸構造を形成する。例文帳に追加

An optical film comprises a transparent film and a hard coat layer formed on the transparent film, in which an uneven structure having an average interval Sm between apexes of protrusions ranging from 600 to 1500 μm and an arithmetic average roughness Ra of 0.04 to 0.2 μm is formed on the surface of the hard coat layer. - 特許庁

面光源装置２０では、光拡散板２３のランプボックス２２側の表面２３ａにおいて、少なくとも各スペーサピン２５との接触領域の算術平均粗さＲａが１．０μｍ以下且つ凹凸の平均間隔ＲＳｍが２００μｍ以下である。例文帳に追加

In the surface light source 20, the surface 23a of the light diffusion plate 23 on the lamp box 22 side has an arithmetic average roughness RA of ≤1.0 μm and an irregular average interval RSm of ≤200 μm in a contact region with at least each of the spacer pins 25. - 特許庁

表面平滑度を示す算術平均粗さの値（Ｒａ；μｍ）が、送液される半導体製造用組成物溶液中の異物サイズ（Ｘ；μｍ）との間に以下の関係式Ｒａ＜Ｘが成立するような内面の配管を用いて送液する。例文帳に追加

The solution is delivered using the pipe line the inner surface of which satisfies the following relational expression: Ra<X between the value (Ra:μm) of arithmetic mean roughness showing the surface smoothness and the size (X:μm) of the foreign matter in the delivered semiconductor manufacturing composite solution. - 特許庁

主結晶相は二珪酸リチウム（Ｌｉ_2Ｏ・２ＳｉＯ_2）およびα−クォーツ（α−ＳｉＯ_2）結晶であり、熱膨張係数が−５０〜＋７０℃の範囲において６５〜１３０×１０^-7／℃の範囲であり、研磨後の表面粗度Ｒａ（算術平均粗さ）が９Å以下とすることができる。例文帳に追加

and α-quartz (α-SiO2) and the glass ceramic substrate has 65-130×10-7/°C coefficient of thermal expansion in a temperature range of -50 to +70°C and ≤9 Åsurface roughness (roughness of arithmetical mean) after polishing. - 特許庁

表面粗さにおいて、凸凹の平均間隔Ｓｍが最小となる方向への粗さ測定により得られた、算術平均粗さＲａと凸凹の平均間隔Ｓｍの比率Ｒａ／Ｓｍが０．００１以上となることを特徴とする電気接点安定性に優れた金属箔。例文帳に追加

In the surface roughness of the metal foil having an excellent electric constant stability, the ratio of Ra/Sm between arithmetic average roughness height Ra obtained by measuring roughness in the direction where the mean spacing Sm of the ruggedness is the minimum and the mean spacing Sm of the ruggedness Sm, is to be not less than 0.001. - 特許庁

基体１の上面の凹部３は、上面側開口から外部リード端子５にかけて内寸法が漸次小となるようにその内側面４が１０〜２０°の角度で傾斜しており、かつ内側面４の算術平均粗さＲａが０．０５〜０．４μｍである。例文帳に追加

The inner dimension of the recess 3 on the upper surface of the substrate 1 gradually decreases toward the external lead terminal 5 from an opening at the upper surface side, the inner surface 4 is inclined at an angle of 10-20°, and arithmetic average roughness Ra of the inner surface 4 ranges from 0.05-0.4 μm. - 特許庁

表面基材の一方の面に粘着剤層を有し、前記粘着剤層の前記表面基材と反対の面のＪＩＳＢ０６１０で規定される転がり円算術平均うねり（Wea）が０．３０μｍ以下である硬化性塗膜用の再剥離粘着シート。例文帳に追加

The removable pressure-sensitive adhesive sheet for a curable coating film has a pressure-sensitive adhesive layer on one face of a surface substrate and the arithmetic mean rolling circle waviness (Wea), defined by JISB 0610, of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the surface substrate is ≤0.30 μm. - 特許庁

熱硬化性樹脂を含む樹脂成形体を炭化焼成して得られるアモルファスカーボン製の成形体を酸化雰囲気中にて熱処理して得られたアモルファスカーボン成形体であって、表面と水との接触角が６０度以下であり、算術平均粗さＲａが０．１μｍ以下である。例文帳に追加

The amorphous carbon molded product is manufactured by heat-treating a molded product made from amorphous carbon prepared by carrying out the carbonization/calcination of a resin-molded article containing a thermosetting resin in an oxidative atmosphere, and has a contact angle of the surface and water of 60 or less degrees, and an arithmetic mean roughness Ra of 0.1 μm or less. - 特許庁

製造するにあたっては、再圧延前の一方向性珪素鋼二次再結晶板表面に、例えば、機械的な研磨または化学的な腐食を施し、表面粗度の算術平均Raを0.6μm以上3.5μm未満にした後、再圧延する。例文帳に追加

When this steel sheet is manufactured, on the surface of the unidirectional silicon steel secondary recrystallized sheet before re-rolling, for example, a mechanical-grinding or a chemical-corrosion is applied, and after making an arithmetic means Ra of the surface roughness from 0.6 μm to <3.5 μm, the re-rolling is applied. - 特許庁

導線部材８をセラミック素子２の電極端子部７に機械的に圧着させた状態に維持するリング部材１１において、結合ユニット１０との圧着面となる狭圧面１１ａの算術平均粗さＲａが小さくなるように形成される。例文帳に追加

In a ring member 11 for holding a conductor member 8 to a state mechanically bonded to an electrode terminal part 7 of a ceramic element 2 under pressure, the ring member is formed so that the arithmetic average roughness Ra of a holding pressure surface 11a becoming the pressure bonding surface of a joining unit 10 becomes small. - 特許庁

本発明によれば表面あらさ（Ｒａ、算術平均粗さ）が４０ｎｍ以下であり、かつ、縦方向と横方向の引張強さの比が０．８０以上であり、縦方向と横方向の引張弾性率の比が０．８０以上であるポリベンザゾールフィルムが得られる。例文帳に追加

The polybenzazole film has ≤40 nm surface roughness (Ra, arithmetic mean roughness), ≥0.80 tensile strength ratio of lengthwise direction over that of cross direction, ≥0.80 tensile elasticity ratio of lengthwise direction over that of cross direction. - 特許庁

透明または半透明の結晶性熱可塑樹脂で成形されたインキ収容管において、内壁面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１００ｎｍ以上であり、その表面に変性シリコンオイル皮膜を形成したことを特徴とする筆記具用インキ収容管にてインキ付着を防止する。例文帳に追加

In the ink reservoir tube molded of a transparent or a translucent crystalline thermoplastic resin, the ink is prevented from sticking to the ink reservoir tube characterized in that the arithmetic means roughness (Ra) of the inner wall face is 100 nm or more and a modified silicone oil skin is formed on the surface of the interior wall face. - 特許庁

外輪の内周面にころが転動する外輪軌道面を有する自動調心ころ軸受であって、前記外輪軌道面の表面形状が、少なくともその幅方向と長手方向それぞれにおいて平均山高さＲｚｍと算術平均高さＲａ(ISO 4287、JIS B 0601)との比が１．０〜１．８との条件を満足するものである。例文帳に追加

The self-aligning roller bearing has an outer ring raceway surface on which a roller rolls on an inner peripheral surface of an outer ring. - 特許庁

国際規格ＩＳＯ１３３５６：１９９７を満足し、１２１℃、０．２０ＭＰａの飽和水蒸気中で１５２時間の条件で行う加速劣化試験後の表面の算術平均粗さＲａが０．０２μｍ以下である生体用ジルコニアセラミックス。例文帳に追加

The zirconia ceramics for living organisms of ≤0.02 μm in the arithmetic average roughness Ra on the surface after an accelerated deterioration test carried out under conditions of 152 hours in saturated steam of 121°C and 0.20 MPa satisfying International Standard ISO 13356: 1997. - 特許庁

本発明によれば表面あらさ（Ｒａ、算術平均粗さ）が４０ｎｍ以下であり、かつ、１０％重量減少温度が２５０℃以上である耐熱性に優れたポリアゾメチンフィルムが得られ、電気・電子部品材料として好適である。例文帳に追加

According to the present invention, the polyazomethine film excellent in heat-resistance having surface roughness (Ra, arithmetic average roughness) of 40 nm or less and 10% weight reduction temperature of 250°C or higher is obtained, and is preferable as electric and electronic part materials. - 特許庁

円筒状基体１０の外表面１０Ａに少なくとも感光層を含む成膜層が形成された電子写真感光体において、円筒状基体１０は、粗面化処理された端面１９を有し、端面１９の表面粗さは、算術平均粗さＲａにおいて２．０μｍ以上４．５μｍ以下である。例文帳に追加

The electrophotographic photoreceptor is provided in which a deposited layer including at least a photosensitive layer is formed on an outer circumferential surface 10A of a cylindrical substrate 10, wherein the cylindrical substrate 10 has a roughened end face 19 and the surface roughness of the end face 19 is 2.0-4.5 μm in terms of arithmetic average roughness Ra. - 特許庁