「"さんじゅつへいきん"」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

潤滑油が用いられ、保持器３に保持されたころ２が、軌道輪１ａ，１ｂ上を転動する転がり軸受において、上記ころ２の算術平均粗さの値をＲａ０．０３〜０．１５μｍとする。例文帳に追加

A rolling bearing uses a lubricating oil and is structured so that the rollers 2 held by the retainer 3 roll on the raceway rings 1a and 1b, wherein the value of arithmetic mean roughness of the rollers 2 is made Ra 0.03-0.15 μm. - 特許庁

前記インクは、摂氏25度における剪断速度38.4sec^-1の粘度が20mPa・sec以上600mPa・sec以下、かつ剪断速度384sec^-1の粘度が10mPa・sec以上120mPa・sec以下の水性インクであり、前記先端ボールは、表面の算術平均粗さ(Ra)が、0.005μm以上0.030μm以下とした。例文帳に追加

Ink is aqueous ink of which the viscosity at 25°C is 20-600 mPa.sec at a shearing speed of 38.4 sec^-1 and 10-120 mPa.sec at a shearing speed of 384 sec^-1 and the arithmetic average roughness (Ra) of the surface of a leading end ball is set to 0.005-0.030 μm. - 特許庁

２枚以上の金属帯を重ねて圧延機に装入して圧延を行なう重ね圧延方法において、ワークロールの算術平均表面粗さを ０．２μｍＲａ以下とする。例文帳に追加

In the pack rolling method in which rolling is carried out by feeding two or more metallic strips to a rolling mill after piling them up, the arithmetical mean surface roughness of a work roll is set to ≤ 0.2μm Ra. - 特許庁

アモルファス状膜１３は、厚さが１μｍ〜５０μｍの範囲、硬さがＨＶ８００〜２２００の範囲、表面の算術平均粗さＲａが０．５μｍ以下、且つ、十点平均粗さＲｚが２．０μｍ以下であることが好ましい。例文帳に追加

The amorphous film 13 has thickness in a range of 1 to 50 μm, hardness in a range of HV800 to 2200, and arithmetical mean of surface roughness Ra of 0.5 μm or less, and preferably has ten point height of irregularities Rz of 2.0 μm or less. - 特許庁

これにより、最外層３の外周面は、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．７〜１．３μｍの範囲内、凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が２０〜８０μｍの範囲内の表面粗さに設定された凹凸粗面に形成されている。例文帳に追加

Thus the outer peripheral surface of the outermost layer 3 is formed into a rugged surface set to surface roughness having an arithmetical mean roughness (Ra) of 0.7 to 1.3 mμ and an average spacing (Sm) of profile irregularities of 20 to 80 μm. - 特許庁

好ましくは、絶縁膜４の表面が、１．０ｎｍ以下の算術平均粗さ（Ｒａ）を有しており、また、絶縁膜４の応力が、圧縮応力で２５０ＭＰａ以下であり、引張応力で４００ＭＰａ以下に設定されている。例文帳に追加

Preferably, the surface of the insulating film 4 has the roughness arithmetic average (Ra) of 1.0nm or less, and the stress of the insulating film 4 is set to 250MPa or less on compressive stress and 400MPa on tensile stress. - 特許庁

この負極合剤を、０．２７μｍ〜１０μｍの算術平均粗さＲａを有する負極集電体に塗布し、焼成することにより負極を作製する。例文帳に追加

The negative electrode is fabricated in a way to apply this negative electrode mixture solvent on a negative electrode collector with the arithmetic mean roughness of 0.27 to 10 μm followed by calcination process. - 特許庁

光固定化用固相担体２として、表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり光応答性成分を含有する光応答性層４を備えるようにする。例文帳に追加

As the light-fixing solid-phase carrier 2, a light responsive layer 4 of which the surface has an arithmetic average roughness Ra of 2 nm or smaller and which contains a light responsive component is provided. - 特許庁

また絶縁基板１上面の算術平均粗さを０．５μｍ〜１．０μｍ程度とすることで、電子部品２を覆っている樹脂被覆材７と絶縁基板１との密着力を大きくした。例文帳に追加

An arithmetical mean roughness of the top surface of the insulating substrate 1 is made about from 0.5 μm to 1.0 μm to increase the adhering force of a resin covering member 7 covering an electronic component 2 to the insulating substrate 1. - 特許庁

ステージ面１ａは、ステンレスで形成され、粗さ曲線の算術平均高さＲａが０．１μｍ以上０．３μｍ以下かつ粗さ曲線の最大高さＲｚが０．５μｍ以上２．５μｍである。例文帳に追加

The stage surface 1a is formed of stainless steel, whose arithmetic average height Ra in roughness curve is equal to or greater than 0.1 μm and smaller than 0.3 μm, and whose maximum height Ra in roughness curve is equal to or greater than 0.5 μm and smaller than 2.5 μm. - 特許庁

この発明において、地鉄が露出した方向性電磁鋼板表面の粗さは算術平均粗さＲａで0.4μｍ以下であることとするのが好ましい。例文帳に追加

The surface of the grain-oriented electromagnetic steel sheet having the base iron exposed thereon has preferably a roughness of 0.4 μm or less by the arithmetic mean roughness Ra. - 特許庁

ウェーハの裏面を研削した後、ダイシングを行う前に、ウェーハの裏面の算術平均粗さが０．０１μｍ以下となるように裏面に加工を施す。例文帳に追加

Prior to dicing a wafer having ground rear surface, rear surface of the wafer is roughened to have an arithmetic average roughness of 0.01 μm or less. - 特許庁

そして、光反射層が印刷された層であり、その層の表面粗さが、算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１）で０．０５以上０．４以下であることを特徴とする。例文帳に追加

Then, the light reflection layer is a printed layer and the surface roughness Ra of the layer is 0.05 or more and 0.4 or less in arithmetic mean roughness (JIS B 0601:2001). - 特許庁

溶接用ワイヤを送給する溝付ローラであって、溝表面の円周方向の算術平均粗さがＲａ＝０．７〜１０．０μｍであることを特徴とする溶接用ワイヤ送給ローラ。例文帳に追加

In the welding wire feeding roller, arithmetical average roughness Ra in the circumferential direction on the surface of a groove is 0.7-10.0 μm as the feature. - 特許庁

塗装金属板から成る金属製キャップであって、外表面の表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）で表して１．６μｍ以上であり且つ鉛筆硬度が２Ｈ以上４Ｈ以下であることを特徴とする金属製キャップ。例文帳に追加

The metal cap, which is made of a coated metal plate, is characterized in that the surface roughness of its outer surface is at least 1.6 μm(Ra) as an arithmetic mean value, and pencil hardness of its outer surface is 2H to 4H. - 特許庁

研磨工程後のガラス基板の表面の算術平均粗さＲａが０．２ｎｍ以下、うねりＷａが０．５ｎｍ以下であり、さらに微小うねりμＷａが０．２ｎｍ以下であること。例文帳に追加

As for the surface of the glass substrate after a polishing process, an arithmetic average roughness Ra is ≤0.2 nm, a waviness Wa is ≤0.5 nm and a fine waviness μWa is ≤0.2 nm. - 特許庁

本発明の研磨パッド１は、研磨面の表面粗さを算術平均粗さＲａで０．１μｍ以上３．７μｍ以下に設定した研磨パッドとして、ダミーウエハを用いた前処理工程を不要化している。例文帳に追加

An abrasive pad 1 of the present invention has a ground surface with a surface roughness set at 0.1 μm or more and 3.7 μm or less by an arithmetic average roughness Ra, and requires no pretreatment step wherein a dummy wafer is used. - 特許庁

光拡散性シート１の、光拡散層３が形成された面とは反対の面に、算術平均粗さが０．５μｍ以下であって凹凸の平均間隔が８０μｍ以下である凹凸面を形成する。例文帳に追加

An uneven surface having arithmetical mean deviation of 0.5 μm or less and mean spacing of 80 μm or narrower is formed on a surface opposite to a surface on which a light diffusion layer 3 of the light diffusive sheet 1. - 特許庁

現像ローラの表面をフィルム研磨装置を用いて加工し、十点平均粗さＲｚと算術平均粗さＲａの値が、Ｒａ／Ｒｚ＜０．１５、且つ、２μｍ＜Ｒｚ＜１１μｍになるように構成する。例文帳に追加

The surface of the developing roller is worked by using a film polishing device and is constituted such that the values of the ten-point average roughness Rz and the arithmetic average roughness Ra satisfy the following relation; Ra/Rz<0.15 and 2μm<Rz<11μm. - 特許庁

表面の算術平均粗さが0.05〜0.4μmのワークロールを使用して冷間圧延を行うに当たり、平均粒子径：0.01〜0.2μmの固体粒子が含有された圧延油を循環使用する。例文帳に追加

When cold rolling is carried out by using the work roll having an arithmetic average roughness of 0.05-0.4 μm on the surface thereof, rolling oil containing solid particles having an average particle diameter of 0.01-0.2 μm is cyclically used. - 特許庁

防眩性ハードコート層の表面における算術平均粗さ（Ｒａ）は０．０１〜０．３０μｍ及び凹凸の平均間隔（Ｓｍ）は１０〜３００μｍである。例文帳に追加

A surface of the antiglare hard coat layer has an arithmetic average roughness (Ra) of 0.01-0.30 μm and an average peak-to-valley spacing (Sm) of 10-300 μm. - 特許庁

前記インキを、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００４〜０．０１０μｍであるボールを回転自在に抱持したボールペンチップを具備したインキ収容筒又は軸筒内に収容して油性ボールペンとする。例文帳に追加

By housing this ink in an ink housing tube or a shaft tube equipped with a ball-point pen tip rotatably holding a ball having an arithmetic mean surface roughness Ra of 0.004-0.010 μm, an oleaginous ball-point pen is obtained. - 特許庁

電池蓋５０のフランジ部は、安全機構４０の安全弁４１のフランジ部と接触しており、その接触面Ｓの表面粗さは、算術平均粗さＲａで、０．５μｍ以上５．５μｍ以下の範囲内とされている。例文帳に追加

A flange part of the battery cover 50 comes in contact with a flange part of a safety valve 41 of the safety mechanism 40, and surface roughness of the contact surface S has an arithmetic mean roughness Ra of 0.5-5.5 μm. - 特許庁

最終仕上焼鈍済みの方向性電磁鋼板の表面を算術平均粗さで０．４μｍ以下とし、その後鋼板表面にクロムを含まないりん酸塩系の張力付与被膜を形成する。例文帳に追加

The arithmetic average roughness of the surface of a grain oriented magnetic steel sheet subjected to final finish annealing is controlled to ≤0.4 μm, and thereafter, a phosphate based tension-imparted steel sheet free from chromium is formed on the surface of the steel sheet. - 特許庁

ダイヤモンド砥粒を含む砥石を使った機械研磨により、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ以下になるようにダイヤモンド薄膜２４０を平滑化する。例文帳に追加

The diamond thin film is smoothed by a mechanical polishing using a grindstone containing diamond abrasive grains so that the arithmetical mean roughness (Ra) of the surface is 20 nm or less. - 特許庁

透明基板１は、一方の面１１に複数の凹凸が形成され、当該面１１は、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４による算術平均傾斜Δａが４度以上３０度以下とされる。例文帳に追加

The EL element 2 is formed on the uneven surface 11 of the transparent substrate 1 with the uneven parts formed along the uneven parts. - 特許庁

離型層４の表面は、算術平均粗さＲ_ａが３０〜２８０ｎｍ、表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であり、弾性層６は、厚みが０．１〜５ｍｍ、圧縮弾性率Ｅ_ｃが０．５〜２０ＭＰａである。例文帳に追加

The surface of the mold releasing layer 4 has 30-280 nm arithmetic average roughness Ra and ≤30 mN/m surface tension and the elastic layer 6 has 0.1-5 mm thickness and 0.5-20 MPa compressive elastic modulus Ec. - 特許庁

円弧面６１内に、算術平均粗さＲａが０．０５μｍ以上０．２０μｍ以下である鏡面６２を有し、鏡面６２内の一部分が現像ローラ４に近接する。例文帳に追加

The member 60 has a mirror surface 62 whose arithmetic mean roughness Ra is ≥0.05μm and ≤0.20μm on the surface 61, and one part of the surface 62 is made proximate to the roller 4. - 特許庁

このとき、データトラック領域２０の表面の算術平均粗さＲａが０．３ｎｍ以上であることが好ましく、データトラック領域２０の表面に存在する凹凸が６ｎｍ以下の段差を有することが好ましい。例文帳に追加

In this case, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the data track area 20 is preferably 0.3nm or more, and the recessed and projected parts present on the surface of the data track area 20 preferably have steps of 6nm or less. - 特許庁

樹脂層の着色が透明着色の場合はパターン金属層の樹脂層面ｆｂの表面粗さをＪＩＳ Ｂ０６０１による算術平均粗さＲａ１．０μｍ以上として金属光沢感を無くすのがより好ましい。例文帳に追加

When the coloring of the resin layer is transparent coloring, a surface roughness of the resin layer surface fb of the pattern metal layer is more preferably such as to eliminate a metal gloss feeling by setting to an arithmetic mean roughness Ra of 1.0 μm or more according to JIS B 0601. - 特許庁

そして、内輪２２または外輪２１における摺接部分は、軸方向表面粗さ：算術平均高さが０．１５μｍＲａから０．０５μｍＲａの範囲に設定されている。例文帳に追加

An axial surface roughness: an arithmetic average height of a portion in slide contact with the inner ring 22 or the outer ring 21 is set to be in a range of 0.15μmRa to 0.05μmRa. - 特許庁

焼鈍後にさらに、ワークロール表面の算術平均粗さRa1.0μｍ以上のワークロールを用いて、伸び率0.5％以下の調質圧延を行ってもよい。例文帳に追加

The temper rolling of the elongation of ≤ 0.5% may be performed by using a work roll of the arithmetic mean surface roughness Ra of ≥ 1.0 μm after the annealing. - 特許庁

焼成用定盤の、ＰＤＰ処理基板と接する側の表面のＪＩＳに基づく算術平均粗さＲａを１．０μｍ≦Ｒａ≦５．０μｍとし、かつ、ＪＩＳに基づく最大高さＲｙを、７μｍ≦Ｒｙ≦２０μｍとなるようにする。例文帳に追加

The arithmetic mean roughness Ra based on JIS of a surface on a PDP-treating-board touching side of the platen for calcination is made to satisfy 1.0 μm≤Ra≤5.0 μm, and the maximum height Ry based on JIS is made to satisfy 7 μm≤Ry≤20 μm. - 特許庁

また、結晶化温度が２００℃以上、膜表面の算術平均高さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ以下、内部応力の絶対値が１×１０^10ｄｙｎ／ｃｍ^2 以下であることが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that a crystallizing temperature is 200°C or more, that the arithmetrical average height (Ra) of a film surface is 2.0 nm or less, and that the absolute value of the inner stress is 1×10^10 dyn/cm^2 or less. - 特許庁

防眩性フィルムは、表面に微細凹凸形状を有し、該表面における粗さ曲線の算術平均粗さＲａは０．０５〜０．５μｍであり、かつ二乗平均平方根傾斜ＲΔｑは０．００３〜０．０５μｍである。例文帳に追加

The anti-glare film includes fine irregularities formed on a surface thereof, wherein arithmetic mean roughness Ra of a roughness curve of the surface is 0.05 to 0.5 micrometers, and root mean square slope RΔq is 0.003 to 0.05 micrometers. - 特許庁

形状転写面は、平均径４μｍ以上５０μｍ以下の微小領域からなる略球欠形状の凹部ドメインが多数形成されたものであり、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０２μｍ以上０．２μｍ以下である。例文帳に追加

The shape transfer surface has many substantially spherical segment-shaped concave domains formed thereon and comprising minute regions having an average diameter of 4 to 50 μm, and has an arithmetic average roughness (Ra) of 0.02 to 0.2 μm. - 特許庁

内部電極層２１の厚みをＣ（μｍ）とした場合に、内部電極層２１と接する圧電層１１の境界面の表面粗さ（算術平均粗さ）Ｒａは、０．５・Ｃ（μｍ）以下であることが好ましい。例文帳に追加

It is preferable to control the surface roughness (arithmetic mean roughness) Ra of the boundary faces of the piezoelectric layers 11 in contact with the internal electrode layers 21 to ≤0.5×C (μm) (wherein, the C (μm) is the thicknesses of the electrode layers 21). - 特許庁

バルブリフター（１）の被膜（２）処理前のバルブリフター（１）の摺動面を、面粗度を算術平均粗さＲａ０.０１〜０.０３μm且つ基材表面におけるキズの最大長さを２５０μm以下とする。例文帳に追加

In a sliding surface of a valve lifter 1 before film 2 processing, surface roughness Ra thereof is regulated to 0.01-0.03 μm in arithmetic mean roughness and the maximum length of scratches is set to 250 μm or less. - 特許庁

スライス工程（Ｓ１２０）では、スライス後の基板の主表面の算術平均粗さＲａが１０ｍｍ線上で０．０５μｍ以上１μｍ以下となっている。例文帳に追加

In the slicing step (S120), the arithmetic means roughness Ra of a substrate main surface after slicing is not less than 0.05 μm and not larger than 1 μm on a 10 mm line. - 特許庁

又、上記スリンガ１４の外側面で上記第二のシールリップ２３の先端縁が摺接する部分の粗さを、算術平均粗さＲａで０．２〜２．０μｍ、最大高さＲｙで０．８〜８．０μｍとする。例文帳に追加

Roughness of a portion where the tip end edge of the second seal lip 23 is in sliding contact on the outer side of the slinger 14 is set at 0.2 to 2.0 μm in arithmetic mean roughness Ra and 0.8 to 8.0 μm in the maximum height Ry. - 特許庁

ダイスのダイス両角をα（°）、プラグのプラグ両角をβ（°）とした場合に、以下の式（１）及び式（２）を満足すると共に、プラグのストレート部及びテーパ部の長手方向の算術平均粗さＲａが０．２０μｍ以下とされている。例文帳に追加

The inequalities (1) 15≤α≤30 and (2) α-10≤β≤α-3 are satisfied, where α (°) is the both corner angle of the die, and β (°) is the both plug corner angle of the plug. - 特許庁

樹脂フィルムとしては、融点が２３０℃以上であり、厚みが１０〜１５０μｍであり、算術平均表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下であることが好ましい。例文帳に追加

Preferably, the melting point of the resin-made film is 230°C or more, its thickness is 10-150 μm, and its arithmetic average surface roughness Ra is 0.1 μm or less. - 特許庁

エピタキシャル膜製造用の酸化物基板は、エピタキシャル膜を成長させる表面が、表面粗さをＪＩＳＢ０６０１−１９９４で規定されている算術平均粗さ（Ｒａ）で表した場合に０．０２μｍよりも大きい非鏡面である。例文帳に追加

The surface of the oxide substrate useful for producing an epitaxial film is a non-mirror surface having an arithmetic mean roughness (Ra), prescribed by JISB0601-1994, of >0.02 μm. - 特許庁

３次元表面粗さ測定における算術平均粗さが２．０μｍ以上又は／及び十点平均粗さが１０．０μｍ以上であることを特徴とする凹凸表面を有する光拡散層２を透明支持体３上に積層する。例文帳に追加

A light-diffusing layer 2 having a rough surface having ≥2.0 μm arithmetic average roughness and/or ≥10.0 μm ten point average roughness obtained by the three-dimensional surface roughness measurement is laminated on a transparent supporting body 3. - 特許庁

これらの界面の算術平均粗さの平均値をＲａｍと表すと、このＲａｍと誘電体層の厚みＴとは、Ｔ／Ｒａｍ≧１．３を満たしている。例文帳に追加

Assuming the average value of arithmetic mean roughness of these interfaces is Ram, the Ram and the thickness T of the dielectric layer satisfy the following relation: T/Ram≥1.3. - 特許庁