「ふっ酸」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

その後、フッ酸系エッチング液によってエッチングストップした面の酸化膜を除去し、振動板２１を得る。例文帳に追加

Finally, the oxide film is removed from the etching stop face using a hydrofluoric acid based etching liquid, thus obtaining a diaphragm 21. - 特許庁

高温かつ強い酸化雰囲気下の過酷な環境においても充分な耐久性を有する安定化フッ素化スルホン酸ポリマーを提供する。例文帳に追加

To provide a stabilized fluorinated sulfonic acid polymer having sufficient durability in a severe environment such as high temperature and strong oxidizing atmosphere. - 特許庁

酸化物半導体層１４上に形成されたチャネル保護膜１６が、フッ素、シリコンおよび酸素を含んでいる。例文帳に追加

The channel protection film 16 formed on the oxide semiconductor layer 14 contains fluorine, silicon and oxygen. - 特許庁

総金属イオン濃度に対する前記フッ酸の添加量が、０．０５％〜５％である酸化物超電導薄膜製造用の原料溶液。例文帳に追加

The amount of the hydrofluoric acid added is 0.05-5% of the total metal ion concentration. - 特許庁

前記金属酸化物を含有するガラスが、リン酸系ガラスであることを特徴とする含フッ素共重合体組成物の製造方法。例文帳に追加

The method is also disclosed, in which the metal oxide-containing glass is a phosphate glass. - 特許庁

フッ酸等の薬液による表面処理が行われた基板に対して酸添加水によるリンス洗浄処理を行う。例文帳に追加

A substrate after subjected to surface treatment with use of a chemical, such as a hydrofluoric acid solution, is rinsed and cleaned with an acid-added water. - 特許庁

結晶化したシリコンをフッ酸や塩酸でエッチングして、不要な金属元素を除去し、活性層を形成する。例文帳に追加

Crystallized silicon 3 is etched with a fluoric acid or hydrochloric, and an unrequired metal element is removed to form an active layer. - 特許庁

そして、蒸留塔（２）のフッ酸廃液に金属成分の析出を抑制するに足る量の硫酸を添加する。例文帳に追加

Further, in the method, sulfuric acid is added to the hydrofluoric acid waste solution of the distillation tower (2) in an amount sufficient to suppress the deposition of metal components. - 特許庁

そして、熱拡散炉から取り出したウェハをフッ酸で１５〜３０秒間処理することにより、ガラス層および酸化膜を除去する。例文帳に追加

The wafer taken out of the thermal diffusion furnace is treated with a hydrofluoric acid for 15-30 sec, thereby removing the glass layer and the oxide film. - 特許庁

このとき形成された酸化膜をフッ酸蒸気により実質的に反応律速の様態で除去することを特徴とする。例文帳に追加

An oxide film formed is then removed, with the reaction rate being controlled essentially by the hydrofluoric acid steam. - 特許庁

さらには、フッ化水素水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、または水酸化カリウム水溶液のいずれかと反応させた後、水で洗浄する。例文帳に追加

Further, the alkaline solid chemical is allowed to react with either one of an aqueous hydrogen fluoride solution, an aqueous sodium hydroxide solution or an aqueous potassium hydroxide solution, then washed with the water. - 特許庁

ＣＭＯＳ型半導体集積回路の製造方法において、酸化膜を除去するためのフッ酸処理工程を削減した製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a CMOS semiconductor integrated circuit in which a hydrofluoric acid treatment process for removing an oxide film is reduced. - 特許庁

シリコン酸化物層間膜部62、68は、フッ化水素酸を含む溶液でエッチングされるので、絶縁物に接触していない配線が形成される。例文帳に追加

Since the sections 62 and 68 are etched off with the etchant containing aqueous hydrofluoric acid, wiring which is not in contact with an insulator is formed. - 特許庁

取替え部４を固定している接着剤６は、１０％以下の低い濃度の酸薬液で（例えば、フッ酸など）で溶かし取替え部４を取り除く。例文帳に追加

The adhesive 6 fixing the replacement 4 is dissolved by an acid chemical (hydrofluoric acid, for example) of a low concentration of 10% or less and the replacement 4 is removed. - 特許庁

含フッ素コーティング剤は、２つのパーフルオロアルキル鎖を有する含フッ素（メタ）アクリル酸エステルと、係る含フッ素（メタ）アクリル酸エステル以外の重合性化合物とを含有するものである。例文帳に追加

The fluorine-containing coating agent contains a fluorine-containing (meta) acrylic acid ester having two perfluoroalkyl chains, and a polymerizable compound other than the fluorine-containing (meta) acrylic acid ester. - 特許庁

フッ素含量が１００ｐｐｍより少ないにも関わらず、フッ素を１００ｐｐｍより多く含む酸化マグネシウムと同程度以上の紫外光発光強度を持つフッ素含有酸化マグネシウム発光体を提供すること。例文帳に追加

To provide a fluorine-containing magnesium oxide illuminant having ultraviolet light emitting intensity more than magnesium oxide containing 100 ppm or more of fluorine even though fluorine content is less than 100 ppm. - 特許庁

フッ素化カルボン酸は、一般式ＲＣＯＯＨ（Ｒは少なくともフッ素原子を一つ含むアルキル基）であり、これらのアルキル基はフッ素原子の他に水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、アルケニル残基を含んでいてもよい。例文帳に追加

The fluorinated carboxylic acid is represented by the general formula: RCOOH (R is an alkyl group containing at least one fluorine atom), and the alkyl group may contain a hydrogen atom, a halogen atom, an oxygen atom and an alkenyl residue besides the fluorine atom. - 特許庁

フッ素化合物と金属化合物を含有する排水に水酸化アルカリ等を添加して、易溶性のフッ化アルカリと難溶性の金属水酸化物等を形成して、フッ素化合物と金属化合物を分離する。例文帳に追加

Alkali hydroxide is added to the waste water incorporating the fluorine compound and the metallic compound to form easily soluble alkali fluoride and hard soluble metallic hydroxide, etc., then the fluorine compound and the metallic compound are separated. - 特許庁

処理液として、フッ化水素酸水溶液、無水フッ化水素酸溶液、若しくはピリジン、トリエチルアミン、イソプロピルアルコール等の有機化合物と無水フッ化水素との溶液のいずれかから選ぶことができる。例文帳に追加

An aqueous solution of hydrofluoric acid, a solution of hydrofluoric anhydride or a solution of an organic compound such as and pyridine, triethylamine, isopropyl alcohol, etc. hydrofluoric anhydride, can be selected as the solution. - 特許庁

過フッ素化アルカンスルホン酸若しくはカルボン酸又はその塩、硬化部位を含む液体フッ素化モノマー、および、任意に不活性液体の高フッ素化炭化水素化合物から得られる水性マイクロエマルジョン。例文帳に追加

An aqueous microemulsion is obtained from a perfluorinated alkane sulfonic or carboxylic acid or salt thereof, a liquid fluorinated monomer containing a cure-site, and optionally an inert liquid and highly fluorinated hydrocarbon compound. - 特許庁

フッ素含有ジカルボン酸と芳香族ジアミンとを縮合させてなるフッ素含有単量体と、芳香族ジカルボン酸および／またはその誘導体とを重縮合させることによりフッ素含有共重合体を得ることができる。例文帳に追加

This fluorine-containing copolymer can be obtained by polycondensing a fluorine-containing monomer obtained by condensing a fluorine-containing dicarboxylic acid with an aromatic diamine, with an aromatic dicarboxylic acid and/or a derivative thereof. - 特許庁

不純物としての酸素化合物を含むフッ素化合物から少なくとも酸素を除去することにより、高純度のフッ素化合物を得ることが可能なフッ素化合物の精製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for refining a fluorine compound where at least oxygen is removed from a fluorine compound comprising an oxygen compound as impurities, thus the fluorine compound with high purity can be obtained. - 特許庁

湿式法による廃ガスの処理において、フッ素含有廃ガスからフッ素ガスあるいはフッ化酸素を含む酸化性ガスを高効率で除去する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for removing an oxidizing gas containing fluorine gas or oxygen fluoride from fluorine-containing exhaust gas in high efficiency when exhaust gas is treated by a wet process. - 特許庁

フッ化水素を７５〜９５％含有している濃フッ化水素酸を温和な条件下でキチン系材料に反応させた後、脱フッ化水素酸することにより、グルコサミン又は（及び）キトサンオリゴマー組成物を容易に製造すること。例文帳に追加

The glucosamine or (and) the chitosan oligomer composition is easily produced by reacting the chitin-based material with a concentrated hydrofluoric acid containing 75-95% hydrogen fluoride under a mild condition and dehydrofluorinating the product. - 特許庁

含フッ素共重合体水性重合乳化液から、共重合反応の乳化剤として用いられた含フッ素カルボン酸塩を非常に効率良く含フッ素カルボン酸として回収する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for extremely efficiently recovering a fluorine-containing carboxylate, as a fluorine-containing carboxylic acid, useful as an emulsifying agent for a copolymerization reaction from an aqueous emulsified liquid of a fluorine-containing copolymer. - 特許庁

次にバスケット１１は、フッ化アンモニウム水溶液にフッ酸を加えたエッチング液のＢＨＦ（バッファード・フッ酸）槽２に、比較的短い時間漬浸される。例文帳に追加

Next, the basket 11 is dipped in a BHF (buffered hydrofluoric acid) bath 2 which is an etchant of an ammonium fluoride aqueous solution added with a hydrofluoric acid for a relatively short time. - 特許庁

フッ素含有液を、フッ化水素酸溶液と、可溶性フッ化物及び硫酸の混合溶液とから選択される少なくとも１種とする態様等が好ましい。例文帳に追加

The fluorine-containing liquid preferably includes at least one liquid selected from a hydrofluoric acid solution and a mixture solution of a soluble fluoride and sulfuric acid. - 特許庁

自然酸化膜３２及びフッ素化合物ガスに、シリコン−酸素間の結合エネルギー以上であって、且つ、フッ素化合物ガスを分解してフッ素原子活性種を生じさせるエネルギーを有する光を照射する。例文帳に追加

A light of which energy is larger than a binding energy between silicon and oxygen and is enough to decompose the fluorine compound gas and produce fluorine atomic active species is directed to the natural oxide film 32 and the fluorine compound gas. - 特許庁

土壌中にフッ素を含有するフッ素汚染土壌を、リン酸またはリン酸塩存在下で４００〜１２００℃の温度に加熱することを特徴とするフッ素汚染土壌の無害化処理方法を提供する。例文帳に追加

In the detoxicating method for fluorine-contaminated soil, fluorine-contaminated soil comprising fluorine in soil is heated at 400 to 1,200°C in the presence of phosphoric acid or phosphate. - 特許庁

固体高分子電解質型燃料電池の運転中にフッ素系高分子電解質が劣化して生じるフッ酸をフッ酸発生箇所または燃料電池中で固定化して無害化することを目的とする。例文帳に追加

To make hydrofluoric acid generated due to degradation of fluorine system polymer electrolyte in a solid polymer electrolyte fuel cell during its operation harmless by fixing it at a generation place of the hydrofluoric acid or in the fuel cell. - 特許庁

パーハロオレフィン単位と炭素数２〜４の非フッ素ビニル単量体単位とウンデシレン酸単位と水酸基含有ビニル単量体単位を含む含フッ素共重合体またはその中和物を含むフッ素樹脂水性分散体。例文帳に追加

The aqueous dispersion of the fluorine resin is provided by comprising: a fluorine-containing copolymer containing a perhalo-olefin unit, a 2-4C non-fluorine vinyl monomer unit, an undecylenic acid unit and a hydroxy group-containing vinyl monomer unit; or its neutralized material. - 特許庁

第１低圧蒸留塔３１には、フッ酸排水（廃液）１０１とフッ酸の沸点よりも高い溶媒１０２とが混合された被処理液１０３が準備される。例文帳に追加

A liquid 103 to be treated in which hydrofluoric acid draining liquid (waste liquid) 101 and a solvent 102 having a boiling point higher than the boiling point of the hydrofluoric acid are prepared for the first low-pressure distillation column 31. - 特許庁

ふっ素樹脂に酸素濃度１００ｔｏｒｒ以下の不活性ガス雰囲気下で、且つふっ素樹脂の融点以下の温度で電離性放射線の照射を開始し、その後ふっ素樹脂の融点以上の温度で電離性放射線をする改質ふっ素樹脂の製造方法。例文帳に追加

This method for modified fluororesin production comprises starting irradiation of a fluororesin with ionizing radiation in an inert gas atmosphere in an oxygen concentration of ≤100 torr at a temperature equal to or lower than the melting point of the fluororesin and then irradiating the fluororesin with ionizing radiation at a temperature equal to or higher than the melting point of the fluororesin. - 特許庁

ふっ素樹脂を、当該ふっ素樹脂の融点以上に加熱して低酸素雰囲気ガス中を走行させながら電離性放射線を照射して架橋する架橋ふっ素樹脂の製造方法において、前記電離性放射線は前記ふっ素樹脂の幅方向及び走行方向の二方向に偏光させて照射する。例文帳に追加

The crosslinked fluorocarbon resin is produced by radiating a fluorocarbon resin by ionizing radiation for crossliking while heating to above the melting point of this fluorocarbon resin and running the resin in low-oxygen atmosphere, while polarizing the radiation bidirectionally in both width and running directions of the resin. - 特許庁

一酸化炭素と金属フッ化物と反応させて二フッ化カルボニルを製造するに際し、同一反応器内で、一酸化炭素と金属フッ化物とを反応させる工程と、金属フッ化物とフッ素を反応させる工程と、交互に繰り返す。例文帳に追加

In manufacturing carbonyl difluoride by making carbon monoxide react with a metal fluoride, a step to make carbon monoxide react with the metal fluoride and a step to make the metal fluoride react with fluorine is alternately repeated in an identical reactor. - 特許庁

さらに前記３元系フッ素ゴムがフッ化ビニリデン−６フッ化プロピレン−４フッ化エチレンであることを特徴とし、好ましくは酸化亜鉛は前記３元系フッ素ゴム１００重量部に対して４〜８重量部、酸化マグネシウムは２〜４重量部配合される。例文帳に追加

The ternary fluororubber is a mixture of vinylidene fluoride/propylene hexafluoride/ethylene tetrafluoride, and preferably 4-8 parts by weight zinc oxide and 2-4 parts by weight magnesium oxide are compounded to 100 parts by weight ternary fluororubber. - 特許庁

ふっ素イオンを含有する試料液１２に炭酸塩含有水溶液１４を混合し、この炭酸塩含有水溶液１４をイオンクロマトグラフ９の試料注入口９ａから注入することにより導電率の低い炭酸を導電率の高い炭酸塩に変換する。例文帳に追加

By mixing a sample solution 12 containing fluoride ions with a carbonate-containing aqueous solution 14 and injecting the carbonate-containing aqueous solution 14 from a sample inlet 9a of an ion chromatograph 9, carbonic acid having a low conductivity is changed into a carbonate having a high conductivity. - 特許庁

塩基性陰イオン交換樹脂として弱塩基性陰イオン交換樹脂を使用すれば、六フッ化リン酸イオンを吸着した弱塩基性陰イオン交換樹脂から、水酸化リチウムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を溶離液として、六フッ化リン酸イオンを溶離することができる。例文帳に追加

Use of a weak basic anion exchange resin as a basic anion exchange resin allows elution of the hexafluorophosphoric ions from the weak basic anion exchange resin having adsorbed the hexafluorophosphoric ions with the use of an aqueous solution such as lithium hydroxide or sodium hydroxide as an eluate. - 特許庁

フッ素置換フェニル酢酸誘導体をハロゲン化剤を用いて酸ハロゲン化物に誘導した後、ルイス酸存在下、シリルアセチレン誘導体を作用させ、次に酸を作用させることによりフッ素置換2-ナフトール誘導体を製造する方法を提供する。例文帳に追加

The method for production of a fluorine-substituted 2-naphthol derivative includes converting a fluorine-substituted phenylacetic acid derivative into an acid halide using a halogenating agent, reacting the halide with a silyl acetylene derivative in the presence of Lewis acid, and then reacting with an acid. - 特許庁

（Ａ）樹脂成分と、（Ｂ１）フッ素置換アルキルスルホン酸イオンを有するオニウム塩系酸発生剤と、（Ｂ２）フッ素で置換されていないアルキルスルホン酸イオンを有するオニウム塩系酸発生剤とを含むことを特徴とするホトマスク用ホトレジスト組成物。例文帳に追加

The photoresist composition for the photomask comprises (A) a resin component, (B1) an onium salt type acid-generating agent bearing a fluorine-substituted alkylsulfonate ion and (B2) an onium salt type acid-generating agent bearing an alkylsulfonate ion not substituted with fluorine. - 特許庁

希土類金属の塩と、カルボン酸化合物の組み合わせとしては、希土類金属がエルビウムであることが好ましく、カルボン酸化合物、安息香酸のフッ素化物又は塩化物、及び炭素数２〜１０の脂肪族系カルボン酸のフッ化物又は塩化物のいずれかであることが好ましい。例文帳に追加

In a combination of the salt of rare earth metal and carboxylic acid compound, the rare earth metal is preferably erbium and the carboxylic acid compound is preferably fluoride or chloride of benzoic acid, or fluoride or chloride of aliphatic carboxylic acid with C2-10. - 特許庁

また、酸系薬液である塩素と過酸化水素水と水を混合した溶液、またはフッ化水素と塩化水素と過酸化水素水と水を混合した溶液、またはフッ化水素と過酸化水素水と水を混合した溶液を用いることができる。例文帳に追加

Also, solution obtained by mixing chlorine and oxygenated water which is acid system chemical and water, or solution obtained by mixing hydrogen fluoride, hydrogen chloride, oxygenated water and water or solution obtained by mixing hydrogen fluoride, oxygenated water and water may be used as chemical. - 特許庁

酸性水酸基を含有するモノマー単位を構成単位とする含フッ素ポリマー（Ｘ）、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物（Ｙ）、アミノプラスト（Ｚ）、および有機溶媒（Ｄ）を含むことを特徴とするネガ型含フッ素レジスト組成物。例文帳に追加

The negative type fluorine-containing resist composition contains a fluoropolymer (X) having a monomer unit containing an acidic hydroxyl group as a constitutional unit, an acid generating compound (Y) which generates an acid when irradiated with light, an aminoplast (Z) and an organic solvent (D). - 特許庁

フッ素原子を１つ以上含む有機基でブロック化された酸性基とブロック化されていない酸性基とを有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物（Ｂ）および有機溶媒（Ｃ）を含むことを特徴とするレジスト組成物。例文帳に追加

The resist composition contains a fluorine polymer (A), having an acidic group blocked with an organic group containing one or more fluorine atoms, and an acidic group which is not blocked, an acid generating compound (B) for generating acid by receiving light irradiation, and an organic solvent (C). - 特許庁

リン酸、フッ化水素酸、アンモニアおよび／またはアミンを含有し、ｐＨが２〜１２の範囲の水溶液であり、リン酸を０．５〜２５質量％、アンモニアおよび／またはアミンを０．１〜１０質量％、フッ化水素酸を５×１０^-3〜５．０質量％含有する洗浄剤とした。例文帳に追加

The detergent is an aqueous solution with a pH of 2-12 containing 0.5-25 mass% phosphoric acid, 0.1-10 mass% ammonia and/or amine and 5×10^-3-5.0 mass% hydrofluoric acid. - 特許庁