「バレージ」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目)

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > バレージに関連した英語例文

セーフサーチ：オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

例文 (165件)

バレージを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 165件

＜前へ 1 2 3 4

例文

このため、図２（ｂ）〜（ｈ）の製造工程図に示す通り、半導体層４と第二アンダーコート絶縁膜３との境界部分において大きな段差が生じず、ステップカバレージが良好であるため、得られた薄膜トランジスタはゲートリーク電流を生じない。例文帳に追加

As shown by a manufacturing step chart in fig. 2 (b) to fig. 2 (h), a large difference does hot occur at the boundary of a semiconductor layer 4 and the second undercoat insulation film 3, and since step coverage is excellent, a gate leak current is not generated in a thin film transistor thus obtained. - 特許庁

また、本発明のショットピーニング方法は、ｎ：ショットカバレージ（％／１００）、Ｖ：ショット速度（ｍ／ｓ）、Ｄ：ショット粒径（ｍｍ）、ρ：ショット粒比重（ｇ／ｃｍ^３）の関係が、ｎ×Ｖ^２×Ｄ×ρ ≧３．０×１０^６で表すことができる方法である。例文帳に追加

Additionally, this shot-peening method satisfies an expression of:nxV^2xDxρ≥3.0x10^6 under specifications of:n: shot coverage(%/100),V: shot speed (m/s),D: shot grain diameter (mm),ρ: shot grain specific gravity (g/cm^3). - 特許庁

半導体基板の所定の領域に下部の幅がさらに広いトレンチを形成する段階と、絶縁物質の段差被覆性（ステップカバレージ）を用いてトレンチの下部コーナーにエアギャップを発生させるとともに、トレンチを絶縁層で埋め込む段階とを含む。例文帳に追加

The method includes a step for forming a trench whose width is further expanded in its lower portion, a step for generating an air gap in the lower corner of the trench by utilizing the step coverage of an insulating substance, and a step for burying the insulating layer in the trench. - 特許庁

複数の主分岐及び副分岐が特徴である分岐ＲＦアンテナは、改良された処理面積のカバレージ、減少された定在波の影響、改良された誘導結合電磁界の均一性、より均一なプラズマ生成、及び全処理面積中のより均質的な処理状態をもたらす。例文帳に追加

A branch RF antenna characterized by having a plurality of main branches and subbranches brings about the improved coverage of a processing area, the reduced influence of standing wave, the improved uniformity of an induction coupled electromagnetic field, the generation of more uniform plasma, and a more homogeneous processing state in the entire processing area. - 特許庁

例文

したがって、2×2のタイルの組40を形成する4つのタイルのうちの2つの中に存在することが、その境界ボックス43によって分かるプリミティブ42がまた、2×2のタイルの群40のうちのタイル「1」および「3」に位置していることを示す形「0101」のタイルカバレージビットマップと関連付けられる。例文帳に追加

Accordingly, a primitive 42, which is found present by means of a border box 43, in two of four tiles that form the 2×2-tile set 40 is also related to a tile coverage bit map in a form of "0101" which shows that the primitive 42 is situated at the tiles "1" and "3" of the 2×2-tile group 40. - 特許庁

例文

オーミック層上に形成される金属電極の汚染を防止でき、ゲート絶縁層下部の積層物によるステップカバレージの悪化を緩和でき、積層物間の界面特性を向上できる薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a thin film transistor and its manufacturing method capable of preventing contamination of a metal electrode formed on an ohmic layer, alleviating a deterioration of step coverage caused by a lamination at a lower portion of a gate insulating layer, and improving interface property between laminations. - 特許庁

明るさのコントラスト又は色のコントラストを向上させるために黒色樹脂を樹脂ＢＭの材料として用いても、樹脂ＢＭにクラックやピーリングの発生を抑制できるとともに樹脂ＢＭの上層のカバレージの悪化を抑制できる半導体装置の作製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can control a generation of a crack and peeling on a resin BM and control a deterioration of coverage of an upper layer of the resin BM, even though a black resin is used as a material for the resin BM in order to improve a brightness contrast and a color contrast. - 特許庁

また、ドレイン電極８を全て半導体層７上に設け、且つドレイン電極８端が半導体層７端と重ならないようにすることで、段差部によるドレイン電極８及び画素電極９のカバレージ不足が緩和し、断線や点欠陥等の不良が低減する。例文帳に追加

Furthermore, by forming the whole drain electrode 8 on the semiconductor layer 7 and preventing the edge of the drain electrode 8 from overlapping with the edge of the semiconductor layer 7, defects such as discontinuity or point defects can be reduced as a result of relieving insufficient coverage of the drain electrode 8 and the pixel electrode 9 caused by the stepped section. - 特許庁

この測定装置１０は、光源１６と、撮影手段１８と、光源からの光を加工面に投射すると共に加工面からの反射像を撮影手段に導く光学系２８と、撮影手段で撮影された前記反射像から取得される投射痕面積と撮影手段で撮影される撮影面積とからカバレージを算出する演算手段を有している。例文帳に追加

The measuring device 10 includes: a light source 16; an imaging means 18; an optical system 28 for projecting light from the light source onto the worked surface and also leading a reflective image from the worked surface to the imaging means; and a computing means for calculating the coverage from an area of a projection trace acquired from the reflective image recorded by the imaging means and an exposure area recorded by the imaging means. - 特許庁

例文

本発明のショットピーニング方法は、金属成品の表面に、前記金属成品と同等以上の硬度を有するショットを投射し、前記金属成品の表面の硬度を向上させる金属成品のショットピーニング方法において、ショットカバレージを９００％以上として前記金属成品の被ショット部分の組織が５００ｎｍ以下の超微細結晶粒からなることを特徴とする。例文帳に追加

This shot-peening method for a metal product to improve hardness of a surface of the metal product by projecting a shot having hardness the same or higher than the metal product on the surface of the metal product constitutes its characteristic feature of constituting a structure of a shooting part of the metal product of hyper-fine crystal grains of less than 500nm in shot coverage of 900%. - 特許庁

例文

スプレーノズルを用いて導電性エポキシの金属遮蔽層を形成することによりステップカバレージ改善の為のフィレット形成工程を省略することができ、トップモールディング方式を利用してパッケージの製品外形を形成することにより酸化防止層無しの単一層の金属遮蔽層のみ形成しながら、構造の堅固なＳＡＷフィルターパッケージを製造することにある。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for eliminating a fillet forming step for the sake of improving step coverage, by forming a metallic shielding layer made of conductive epoxy by using a spray nozzle, and fabricating an SAW filter package with well-built structure even though only a single-layer metallic shielding layer without an anti-oxidation layer is formed, by forming the exterior form of the package in a top molding method. - 特許庁

ソフトウェアの信頼度を評価するための指標である実効時間、CPU時間およびテストカバレージはすべて、テスト/評価作業とは関係なく、システムの動作のみに着目した指標であり、これらの指標を計測するためには、ユーザが実際に利用する環境とは別の特殊な計測環境を必要とする。例文帳に追加

To provide an information processor and its method capable of easing a condition capable of accurately and objectively evaluating the reliability of software, reducing labor required for the reliability evaluation of the software and realizing the more accurate and objective reliability evaluation of the software in more inexpensive and various situations. - 特許庁

イオン化ＰＶＤ工程によるシード層の形成の時、プラズマ形成用の電力およびＲＦバイアスを調節してオープニングの底の形成される初期シード層をリスパッタリングしてオープニングの側壁に再蒸着して、側壁ステップカバレージ特性が優秀なシード層を形成できる。例文帳に追加

When the seed layer is formed by an ionization PVD process, the power for plasma formation and RF bias are adjusted, and an initial seed layer where the bottom of the opening is formed is resputtered for depositing onto the side wall of the opening, thus forming the seed layer with the superior side-wall step coverage characteristics. - 特許庁

接続できたシステムへのアクセス試行数に対する接続できなかったシステムへのアクセス試行数に基づいて過負荷状態が存在すると判断した基地局は、同基地局のカバレージ・エリア内の移動端末に対して、アクセス・プローブの数、周波数、および出力強度等を表すパラメータを変更するメッセージをブロードキャストする。例文帳に追加

A base station which has decided that an overload state exists, based on the number of the access trial to a system which could not connect to the number of the access trial to a system which could connect broadcasts a message to change parameters indicating the number of access probes, the frequency, the output intensity, or the like to a moving terminal within a coverage area of the base station. - 特許庁

例文

続いて、前記チャンバーに含酸素化合物を導入し、前記有機金属化合物の中心金属と前記含酸素化合物の酸素とを化学的に反応させ、前記中心金属から前記リガンドを分離させ前記基板上に金属酸化物を形成することにより、高誘電率を有し優れたステップカバレージ特性を有する誘電物質を形成することができる。例文帳に追加

Subsequently, a dielectric substance having a high dielectric constant and excellent step coverage characteristics can be formed by introducing an oxygen-containing compound into the chamber to let the core metal of the organometallic compound to chemically react with the oxygen of the oxygen-containing compound and removing the ligand from the core metal to form the metal oxide on the substrate. - 特許庁