「フォトエッチング」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

フォトエッチング加工用ステンレス鋼板およびその製造方法例文帳に追加

STAINLESS STEEL SHEET TO BE PHOTO-ETCHED AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

片面に金属層を配した電子部品のフォトエッチング加工方法例文帳に追加

PHOTOETCHING METHOD FOR ELECTRONIC PARTS WITH METALLIC LAYER DISPOSED ON ONE FACE THEREOF - 特許庁

突条１２は、薄膜をフォトエッチングすることにより精度良く形成することができる。例文帳に追加

The protrusion 12 is formed precisely by photo-etching the thin film. - 特許庁

フォトエッチング製品の製造方法およびそれに用いる露光用パターン板例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF PHOTO-ETCHING PRODUCT AND PATTERN BOARD FOR EXPOSURE USED FOR IT - 特許庁

さらにフェース３のスコアライン４もフォトエッチング処理により形成する。例文帳に追加

Further, the score line 4 of a face 3 is formed by a photoetching processing as well. - 特許庁

ターボチャージャ部品であるタービン１０にの入口部内面１０ａに、放電加工や、フォトエッチングによって識別刻印を形成する。例文帳に追加

A discrimination marking is formed by electric discharge machining or photo etching on an inner surface 10a of an entrance part of a turbine 10 as a turbocharger component. - 特許庁

そして、途中のゲート層７０Ａの不要部分をフォトエッチングして最終のゲート層４０を形成する。例文帳に追加

Then, the unneeded part of the halfway gate layer 70A is photoetched and a final gate layer 40 is formed. - 特許庁

多孔板１１は、貫通孔１１ａの形状をフォトエッチングした薄板１１ｂが積層された構造となっている。例文帳に追加

A porous plate 11 has a structure obtained by laminating a sheet 11b where the shape of a through-hole 11a is photo-etched. - 特許庁

この薄膜親素子基板１１ａをフォトエッチング加工して振動重り３などの機能素子を形成する。例文帳に追加

The thin-film parent element substrate 11a is photo-etched to form a function element such as a vibration weight 3. - 特許庁

また、放電加工やフォトエッチングで加工することにより、加工対象が切削困難な硬い材料であっても、刻印は簡便に付与できる。例文帳に追加

Moreover, even if a machining object is a hard material difficult to cut, it can easily be provided with the marking by electric discharge machining or photo etching. - 特許庁

次に、ゲート材料層７０をフォトエッチングして多結晶シリコン膜５２Ａに交差する、途中のゲート層７０Ａを形成する。例文帳に追加

Then, the gate material layer 70 is photoetched to form a halfway gate layer 70A crossing the polycrystal silicon film 52A. - 特許庁

水晶振動片の外形をフォトエッチングにより水晶ウエハ１１の枠部１４との連結部１３を残して加工する。例文帳に追加

An outer shape of a crystal vibrating-reed is processed by photo-etching while a connection part 13 with a frame part 14 of a crystal wafer 11 is left. - 特許庁

小型フォトエッチング型ＡＴカット水晶振動子の支持による振動エネルギ漏洩を回避し、支持によるＱ値の劣化を防止する。例文帳に追加

To prevent Q factor deterioration caused by supporting, by avoiding vibrational energy from being leaked owing to the supporting in a small-sized photo-etching type AT-cut crystal vibrator. - 特許庁

フォトエッチングで貫通孔１１ａを形成するので、配列ピッチを薄板１１ｂの板厚ｄの０．５〜０．７倍程度にすることができる。例文帳に追加

Since the through-hole 11a is formed by photo-etching, an array pitch is made about 0.5 to 0.7 times as large as the thickness (d) of the sheet 11b. - 特許庁

金属層と導電性層をそれぞフォトエッチング法により加工する工程と、絶縁層をウェットエッチングにより加工する。例文帳に追加

The process step of working the metallic layer and the conductive layer by the photoetching method is included and the insulating layer 2 is worked by the wet etching. - 特許庁

水晶振動片の外形をフォトエッチングにより水晶ウエハ１１の枠部１４との連結部１３を残して加工する。例文帳に追加

The outer shape of the crystal vibrating-reed is processed by photo-etching while a connection section 13 with a frame section 14 of a crystal wafer 11 is left. - 特許庁

貫通孔１１ａがフォトエッチングされた箇所には、サイドエッチ現象によるテーパー状の突起２０が形成される。例文帳に追加

Tapered protrusions 20 by a side etch phenomenon is formed at a spot where the through-hole 11a is photo-etched. - 特許庁

有機保護膜の粘度が高い場合はモールドを除去してから有機保護膜をフォトエッチングでパターニングする。例文帳に追加

When the viscosity of the organic protective film is high, the organic protective film is patterned by photoetching after the mold is removed. - 特許庁

電子部品との接続の役割を果たす配線パターン８を張り出し部１２にフォトエッチング法等により形成する。例文帳に追加

A wiring pattern 8 to connect to electronic parts is fabricated by a photoetching method or the like on the protruding portion 12. - 特許庁

フォトエッチング法により鉄系の金属薄板など、金属材料を加工するエッチング部品の製造方法にて、フォトエッチング法にて用いるフォトレジストとして、カゼイン、重クロム酸アンモン、アンモニア水からなり、アルカリ性のフォトレジストを用いること。例文帳に追加

In the method for manufacturing the etching components for working the metallic material, such as a ferrous metallic sheet by using a photoetching method, the alkaline photoresist composed of casein, ammonium dichromate and ammonia water is used as the photoresist to be used in the photoresist method. - 特許庁

金属板上に感光性樹脂や熱硬化性樹脂により絶縁樹脂層１２を形成した後、この絶縁樹脂層１２にフォトエッチング又はレーザー加工によりビアホール１３を形成する。例文帳に追加

An insulating resin layer 12 is formed of photosensitive resin or thermosetting resin on a metal board, and viaholes 13 are provided to the resin layer 12 by photoetching or laser processing. - 特許庁

本発明は、複雑なフレーム構造が、レーザー切断、抜き打ち、フォト−エッチング、又は他の切断技術によるなどの、開始素材の平面シートから容易に形成される事も、可能にする。例文帳に追加

The invention also allows complicated frame structures to be easily formed from planar sheets of starting material, such as through laser cutting, stamping, photo-etching, or other cutting techniques. - 特許庁

そして、フォトエッチングにより酸化膜１１を開口させたのち、酸化膜１１をマスクとした異方性エッチングを施し、半導体基板１０にトレンチ１２を形成する。例文帳に追加

After an opening is formed in the oxide film 11 by photo-etching, an anisotropic etching step is carried out with a mask of the oxide film 11 to form a trench 12 in the semiconductor substrate 10. - 特許庁

透明な圧電材料と透明な電極パターンが真空蒸着やフォトエッチングによって形成される透明圧電振動板と、この振動板の周辺を保持するフレームとによって透明スピーカを構成する。例文帳に追加

A transparent speaker is configured with a transparent piezoelectric diaphragm where a transparent piezoelectric material, and transparent electrode pattern are formed through vacuum vapor-deposition or photoetching and with a frame supporting the surrounding of the diaphragm. - 特許庁

前記支持体上へのピット又は溝の形成には、好ましくは機械的、化学的、（レーザ）光学的、電気的及びフォトエッチング技術からなる群から選択される技術が適用される。例文帳に追加

A technique selected from a group comprising mechanical, chemical, (laser) optical, electric and photo-etching techniques is preferably applied for forming the pit or the groove on the support. - 特許庁

複数のステンレス板１２３それぞれについてフォトエッチングし、画素１０の位置に対応する正方形の孔１２３ａをマトリクス状に形成する（図４（ａ））。例文帳に追加

A plurality of stainless steel plates 123 are photo-etched respectively to form square holes 123a corresponding to positions of pixels 10 in a matrix form (Fig.4(a)). - 特許庁

そのテープ材料２０の銅箔層１をフォトエッチングして配線パターン１ａを形成し、その配線パターン上にハンダボールパット部５を形成し、インナーリード１４にめっきを施す。例文帳に追加

After a wiring pattern 1a is formed by photoetching the copper foil layer 1, solder ball pad sections 5 are formed on the wiring pattern and inner leads 14 are plated. - 特許庁

基体９上にガラス繊維を含まない絶縁層１２を積層し、この絶縁層１２には層間接続のための導電性ビア１７をレーザー光線照射やフォトエッチング法により形成する。例文帳に追加

An insulation layer 12 that does not contain any glass fiber is laminated on a substrate 9, and a conductive via 17 for interlayer connection is formed on the insulation layer 12 by applying laser beams or by the photo-etching method. - 特許庁

銅箔リ−ドパタ−ン７は、ポリイミドベ−ス材１にＩＣ用プレス穴２を加工した後、銅箔をラミネ−トし、フォトエッチング加工をしたものである。例文帳に追加

The copper foil patterns 7 are ones formed by a method wherein press holes for an IC 5 are processed in a polyimide base material 1 and thereafter, copper foils are laminated on the base material 1 and are subjected to photoetching processing. - 特許庁

従来、計算機ホログラム製造用の凹凸型の製造、特にフォトエッチングの際の露光に長時間を要していた点を解消することを課題とする。例文帳に追加

To solve the problem that is takes a long time for exposure when manufacturing a rugged die for manufacturing a computer hologram, particularly when photo-etching in conventional technique. - 特許庁

フォトエッチング可能か又は透明である材料のカバーウェハ２０をパターン成型し、多数の半導体デバイスを搭載したデバイス基板１０へカバーとして取り付けアセンブリ２４を形成する。例文帳に追加

A cover wafer 20 made of materials capable being photoetched or transparent materials is pattern-molded, and mounted on a device substrate 10 on which plural semiconductor devices are loaded as a cover so that an assembly 24 can be formed. - 特許庁

フォトエッチング法にて製造された微細なスリット状開口部を有する金属製薄板における簾部分に生じる変形を修正するための欠陥修正方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for correcting a deformation generated in a blind section in a metal thin plate having a minute slit-like opening manufactured by the photo-etching method. - 特許庁

以上により、反射層は基板に直接形成されるため、全体的に起伏がなくなるとともに反射光強度の視角依存性が無くなり、サンドブラスト法のためフォトエッチングをもちいるよりもコスト的に有利である。例文帳に追加

Since the reflecting layer is directly formed on the substrate, no undulation is ensured on the whole and dependence of the intensity of reflected light on visual angle is eliminated. - 特許庁

真空成膜装置によって、絶縁性基板１２１上に第１導電膜を形成し、この第１導電膜をたとえばフォトエッチング法によって、所定パターンにパターン形成してゲート配線１０３を形成する。例文帳に追加

A vacuum film forming device forms a 1st conductive film on an insulating substrate 121 and this 1st conductive film is patterned as specified by, for example, a photoetching method to form a gate wire 103. - 特許庁

良好な平坦性と、エッチング後の少ない反りと、優れたフォトレジスト膜との密着性とを兼備し、さらに優れたばね限界値を備えるフォトエッチング加工用ステンレス鋼板を提供する。例文帳に追加

To provide a stainless steel sheet for photoetching-processing providing good flattening, little warping after etching and also, excellent stickness with photoresisting film and further, excellent spring-limited value. - 特許庁

スペーサー１１および隔壁層１２をフォトエッチング法または印刷法を用いて一度に形成することにより、工程数を減少させ、またコストを低減することができる。例文帳に追加

In this producing method of liquid crystal display element, spacers 11 and barrier layers 12 are formed at one time by using a photo etching method or a printing method, thereby decreases the number of process and reduces the cost. - 特許庁

エッチングファクターの高いフォトエッチングを可能とする銅箔及びその作製方法、エッチング方法、銅箔パターン、保存方法を提供すること。例文帳に追加

To provide copper foil capable of photoetching high in an etching factor, to provide a production method therefor, to provide a copper foil pattern, and to provide a preserving method. - 特許庁

フォトエッチング法にて製造された微細なスリット状開口部を有する金属製薄板における簾部分に生じる変形を修正するための欠陥修正方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a defect correction method for a distortion occurring in a reed screen type part of a thin metal sheet with very narrow slit type apertures manufactured by a photo-etching process. - 特許庁

この方法を用いることにより、フォトエッチング法にて製造されたスリット状の開口を有する金属製薄板１０の簾部分１１に発生したねじれ、位置ずれ、へこみ（出っ張り）等の変形を修正することができる。例文帳に追加

By this way, the deformation generated in the blind section 11 of the metal thin plate 10 having the slit-like opening manufactured by the photo-etching method such as twists, positional misalignments, dents and the like can be corrected. - 特許庁

チタン膜５とニッケル膜６と金膜７の３層構造の金属膜に対しオーバーエッチングとなるフォトエッチングを行い、所定領域の積層構造の金属膜５，６，７を残す。例文帳に追加

Excessive photo-etching is performed on the metal film of the three layer structure of the titanium film 5, the nickel film 6 and the gold metal 7, and the metallic films 5, 6 and 7 in the laminated structure of a prescribed area are left. - 特許庁

金属層２をフォトエッチング法により加工する工程と、絶縁層５上にセミアディティブ法により配線部８を形成する工程と、絶縁層５をプラズマエッチングにより加工する工程とからなる。例文帳に追加

The manufacturing method consists of a process where a metal layer 2 is processed by a photoetching method, a process where the wiring part 8 is formed on the insulation layer 5 by a semi-additive method and a process where the insulation layer 5 is processed by a plasma etching method. - 特許庁

フォトエッチング工程の回数を増加することなく、バックライト光に起因する漏洩電流を抑制できる構造を備えた、薄膜トランジスタ表示板を提供する。例文帳に追加

To provide a thin film transistor ("TFT") array panel provided with a structure capable of suppressing a leakage current occurring in back light without increasing the number of times of photoetching stages. - 特許庁

金属薄板材２０を支持フレーム１２の片面側に張りをもたせて接合した後、支持フレームに接合された金属薄板材に多数の微細透孔をフォトエッチングにより所定パターンで加工形成する。例文帳に追加

The metallic sheet material 20 is joined to one surface of a supporting frame 12 in a manner so as to have tension, and thereafter a large number of minute through-holes are formed in prescribed patterns by photoetching in the metallic sheet material joined to the supporting frame. - 特許庁

薄板水晶基板からフォトエッチング技術により複数個を同時に作成する音叉型屈曲水晶振動片の特性バラツキを低減するための構造及び製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a structure and a manufacturing method in which a plurality of pieces are produced, at the same time, from a laminar crystalline substrate by photoetching technology, in order to reduce the dispersion in the characteristics of a tuning-fork type bending crystal oscillator piece. - 特許庁

フォトエッチング法にて製造された微細なスリット状開口部を有する金属製薄板における簾部分に生じる変形を修正するための欠陥修正方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a defect correction method for correcting deformation produced in a blind-like part in a metallic thin plate having minute slit-like openings manufactured by a photo-etching method. - 特許庁