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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 写真製版の意味・解説 > 写真製版に関連した英語例文

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写真製版の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 180



例文

特に写真製版用、なかでもスキャナー、イメージセッター用として、保存安定性が優れた熱現像感光材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a heat developable photosensitive material excellent in shelf stability as a material particularly for a photolithography and for a scanner and an image setter. - 特許庁

写真製版プロセスで形成するフォトレジスト2に網点処理を施すようにしたことにより、今までにない微妙な階調表現が可能となる。例文帳に追加

By applying a dot processing to the photoresist 2 formed by a photomechanical process, subtle presentation of gradation that has not heretofore existed is enabled. - 特許庁

写真製版工程を増やすことなく、ポリシリコン層と配線層とを安定して低抵抗で接続した薄膜トランジスタを提供する。例文帳に追加

To provide a thin film transistor for which a polysilicon layer and a wiring layer are connected stably with low resistance without increasing a photoengraving process. - 特許庁

写真製版装置の解像限界よりも小さなパターンを有する半導体装置の製造方法を提供することを主要な目的とする。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor device having a pattern smaller than resolution limit of a photolithography device. - 特許庁

例文

本実施の形態におけるエッチング工程100は、写真製版工程により、レジスト膜の露光・エッチングが行なわれる(S101)。例文帳に追加

In the etching process 100, a resist film is exposed/etched in a photoengraving process (S101). - 特許庁


例文

特に写真製版に適したスキャナー、イメージセッター用の熱現像感光材料の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing a heat-developable photosensitive material for a scanner or an image setter suitable particularly for a photomechanical process. - 特許庁

写真製版屋で点表現してもらうと時間と費用がかかり、サンドブラスト出来ない点になる事もあった。例文帳に追加

The dot expression capable of changing dots as desired and executing satisfactory sandblasting is made possible by using a personal computer. - 特許庁

医療画像用、写真製版用として、感度が高く、高画質で未現像時の保存性に優れている熱現像感光材料を提供すること。例文帳に追加

To obtain a heat developable photosensitive material having high sensitivity and high image quality and excellent in preservability in the undeveloped state as a material for a medical image and for a photomechanical process. - 特許庁

層間絶縁膜26および46に、写真製版およびエッチングによってコンタクトホール32および52を形成する。例文帳に追加

Contact holes 32 and 52 are formed in interlaminar insulating films 26 and 46 by photolithography and etching. - 特許庁

例文

特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用として迅速処理可能な高速熱現像感光材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a high-speed heat developable sensitive material which can rapidly be processed as a material particularly for a photomechanical process and particularly for a scanner or an image setter. - 特許庁

例文

熱現像処理後の画像保存安定性の良い写真製版用途に適した熱現像感光材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a heat-developable photosensitive material having good storage stability of image after heat development and suitable for use in photomechanical process. - 特許庁

印刷製版用に好適な超硬調の画像が得られるハロゲン化銀写真感光材料に迅速処理性を付与する。例文帳に追加

To impart rapid processability to a silver halide photographic sensitive material suitable for manufacturing a printing plate and giving an ultrahigh contrast image. - 特許庁

液晶表示装置の製造における写真製版工程の回数を低減し、スループットの向上、製造コストの低減を図る。例文帳に追加

To decrease steps of a photomechanical process in manufacture of a liquid crystal display, to improve throughput and to reduce a manufacturing cost. - 特許庁

文字線幅の現像時の温湿度依存性が小さい、写真製版用途に好適な熱現像感光材料を提供する。例文帳に追加

To provide a heat developable photosensitive material having small temperature and humidity dependence of letter line width in development and suitable for use in a photomechanical process. - 特許庁

電力用半導体装置において写真製版工程を削減すると同時に、かかる工程削減に起因した耐圧の低下を改善する。例文帳に追加

To reduce a photographic preparation process in a power semiconductor device, and to simultaneously improve lowering of a breakdown voltage caused by process reduction. - 特許庁

迅速処理性に優れ、高い処理安定性をもった製版用ハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a silver halide photographic sensitive material for plate making excellent in rapid processability and having high process stability. - 特許庁

最高濃度(Dmax)の現像時の温湿度依存性の小さい写真製版用熱現像感光材料熱現像感光材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a heat developable photosensitive material for a photomechanical process having small temperature and humidity dependence of maximum density (Dmax) in development. - 特許庁

高速で現像処理を行っても画像欠陥を生じず、写真製版用途に最適な画像を得ることが可能なハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a silver halide photographic material capable of obtaining an image optimum for photo-engraving use without causing image defects even in the case of a highspeed developing processing. - 特許庁

本発明は、写真撮影したカラーポジフィルムの図柄を写真製版技術を用いてポリエステル等の布地に昇華性染料を染色することを目的とする。例文帳に追加

To provide a photographic printing method, by which the pattern of a photographic color positive film can be printed on a fabric such as a polyester fiber fabric with sublimable dyes by a photomechanical technique. - 特許庁

保存環境条件にかかわらず、優れた写真性能が得られ、塗布面状が良好な写真製版用に適した超硬調な熱現像感光材料を提供する。例文帳に追加

To provide a heat-developable photosensitive material capable of obtaining superior photographic performance regardless of storage environment conditions and having ultrahigh contrast adapted to photographic printing plate formation and good in a state of coating surface. - 特許庁

本発明の目的は、特に印刷製版用としての写真性能の安定性と、PS版の焼き付け性(UV透過性)を両立した、波長500nm以下の光で画像露光される熱現像写真感光材料を提供することにある。例文帳に追加

To provide a heat developable photosensitive material which is imagewise exposed with light of500 nm wavelength and has both stability of photographic performances as a printing plate and printing property (UV transmittance) of a PS plate, in combination. - 特許庁

高感度で、未現像時の保存性に優れ、文字線幅の現像時の温度および湿度依存性の小さい写真製版用途に最適な写真特性を示す熱現像感光材料を提供する。例文帳に追加

To provide a heat developable photosensitive material having high sensitivity, excellent in preservability in the undeveloped state, having small temperature and humidity dependency of the line width of characters in development and exhibiting photographic characteristics optimum for a photomechanical process. - 特許庁

最大濃度(Dmax)が高く、かつ、写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用として、製版機でのセンサー適性のある熱現像感光材料を提供する。例文帳に追加

To provide a heat developable photosensitive material having high maximum density (Dmax) and suitability to a sensor in a plate making machine as a material for a photoengraving process, particularly for a scanner and an image setter. - 特許庁

熱現像による高温下でも寸法安定性に優れ、ロール状形態で保存されてもブロッキングが小さく、支持体にキズが発生しにくい写真用支持体およびその製造方法並びに多版印刷に好適な印刷製版用熱現像写真感光材料を提供する。例文帳に追加

To produce a photographic substrate excellent in dimensional stability even at a high temperature in heat development, less liable to blocking even in the case of being preserved in a rolled state and less liable to scuffing and to obtain a heat developable photographic sensitive material for producing a printing plate suitable for polychromic printing. - 特許庁

塗膜の欠陥が無く、自動現像機で処理したときに黒化部のピンホールや未露光部の黒点状のカブリの発生を抑えて写真製版用途に最適な画像を得ることが可能なハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a silver halide photographic sensitive material free of defects in a coating film and capable of obtaining an image optimum for a photomechanical process by suppressing occurrence of pinholes in a blackened portion and black spot fogging in an unexposed portion when processed with an automatic processing machine. - 特許庁

写真感光材料との易接性を有し、透明性、巻取りや搬送の作業性を同時に満足し、熱現像方式を用いる写真感光材料に用いた場合、常に色ずれのない製版が可能となる二軸配向ポリエステルフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a biaxially oriented polyester film having easy adhesiveness with respect to a photographic photosensitive material, satisfying transparency and take-up or feed workability at the same time and always enabling plate making generating no color shift when used in the photographic photosensitive material using a thermal developing system. - 特許庁

写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用熱現像画像記録材料において、カブリが低く、感度およびDmaxが高く、かつ硬調性および現像湿度依存性に優れた(すなわち、文字線幅の現像時の湿度依存性の小さい)、写真製版用途に最適な熱現像画像記録材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a heat developable image recording material having low fog, high sensitivity and high Dmax, excellent in contrast and development humidity dependence (that is, low humidity dependence of the line width of letters in development) and optimum for a photomechanical process as a heat developable image recording material for a photomechanical process and particularly for a scanner and an image setter. - 特許庁

データアドレスユニット単位で設計されたマスクパターンを、そのデータアドレスユニットに比して大きな所定の描画アドレスユニットを用いて描画するための写真製版用マスクを製造する。例文帳に追加

The photographic plate making mask for drawing the mask patterns designed in data address units by using the prescribed drawing address units greater than these data address units is manufactured. - 特許庁

本発明の目的は、自動現像機を用いた迅速処理において、残色性がほとんど無いレーザー及び半導体を光源に用いる製版用ハロゲン化銀写真感光材料を提供する事である。例文帳に追加

To provide a silver halide photographic sensitive material for plate making using a laser and a semiconductor as light sources nearly free from residual color in rapid processing using an automatic processing machine. - 特許庁

写真製版法によって、ゲート構造15の端部上、及び該端部に隣接するフォトダイオード18の形成予定領域上が開口したパターンを有するフォトレジスト30を形成する。例文帳に追加

By a photoengraving method, a photoresist 30 having a pattern in which the end of a gate structure 15 and the formation scheduled region of the photodiode 18 adjacent to the end are opened is formed. - 特許庁

幅方向物性差が小さく、生産性に優れ、磁気記録媒体用、プリンタリボン用、コンデンサー用、製版用、写真用、カード用等として好適なポリエステルフィルムを提供すること。例文帳に追加

To provide a polyester film differs less in properties in the direction of width, showing excellent productivity, and being desirable for e.g. printer ribbons, capacitors, printing plates, photos, and cards. - 特許庁

シリコン基板4の表面上に熱酸化膜3とシリコン窒化膜2とが順次形成され、通常の写真製版技術およびエッチング技術により開口6が形成される。例文帳に追加

A thermally oxidized film 3 and a silicon nitride film 2 are formed on a silicon substrate 4 in order, and an opening 6 is formed by conventional photolithographic technology and etching technology. - 特許庁

医療診断用フィルムおよび写真製版用フィルムとして有用な膜強度に優れ、かつ迅速処理適性を有する熱現像感光材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a heat-developable photosensitive material useful as a medical diagnostic film and a film for photoengraving, excellent in film strength and having suitability to rapid processing. - 特許庁

その後、n型ウェル13へ、n型不純物注入工程と同一の写真製版用マスクを用いて、フッ素を、十分に閾値を下げるために1×10^15/cm^2以上の濃度で選択的に注入する。例文帳に追加

Then the same mask for photoengraving with the n-type impurity injection stage is used to selectively inject fluorine into the n-type well 13 to a concentration of10^15/cm^2 to sufficiently lower a threshold. - 特許庁

ゲート絶縁膜3、半導体能動膜4a、オーミックコンタクト膜4b、第2の金属膜を成膜し、第2の写真製版を用いレジストパターンを形成する。例文帳に追加

A gate insulating film 3, a semiconductor active film 4a, an ohmic contact film 4b and a second metal film are formed, and a resist pattern is formed by using the second photoengraving process. - 特許庁

特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用として、生産性に優れ、かつ、熱現像処理適性に優れた熱現像画像記録材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a heat developable image recording material particularly for a photomechanical process and for a scanner and an image setter excellent in productivity and excellent also in suitability to heat development. - 特許庁

通常の写真製版技術を用いて、N型のシリコン基板に、複数のサブミクロンの孔を一括的にサブミクロンの間隔で形成することができる手段を提供する。例文帳に追加

To provide a means for forming a plurality of submicron holes altogether at the interval of submicrons on an N type silicon substrate by using a normal photoengraving technique. - 特許庁

その透光性硬質保護層70は、フォトセンサチップ50の頂面に塗布された透明な感光性硬質塗布材を写真製版工程によって処理することから形成され、感知エリア54上を被覆している。例文帳に追加

The transmissive hard protection layer 70 is formed by treating a transparent photosensitive hard coating material applied on the top surface of the photosensor chip 50 by a photoengraving process and covers the top of the sensing area 54. - 特許庁

感光材料を大量処理した後でも、超硬調で、かつ、銀汚れの問題のない印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法の提供。例文帳に追加

To obtain a silver halide photographic sensitive material for printing plate making having ultrahigh contrast and free from the problem of silver stain even after processing in large quantities and to provide a processing method for the sensitive material. - 特許庁

金属抵抗素子の形成位置を画定するための写真製版技術における露光時にレジスト膜中に定在波が発生するのを防止して金属抵抗素子の寸法バラツキを低減する。例文帳に追加

To reduce fluctuation in size of a metal resistance element by preventing generation of standing waves within a resist film, during exposure in the photomechanical process technology for defining a forming position of the metal resistance element. - 特許庁

写真製版の1ショット分の研磨毎にスラリーを供給するウエハの被研磨領域をその場観察で測定する手段と測定に基づいて研磨ローラの研磨条件を設定する手段を設けても良い。例文帳に追加

The polishing apparatus may comprises means for measuring the region to be polished of the wafer being fed with slurry for each shot of photoengraving process through field observation, and means for setting the polishing conditions of the polishing roller based on the measurements. - 特許庁

写真製版工程等における精度の良好な重ね合わせを実現するアライメントマークを備えた半導体装置及びその製造方法を得ること。例文帳に追加

To provide a semiconductor device having an alignment mark for realizing overlay excellent in accuracy in a photoengraving process or the like, and to provide its manufacturing method. - 特許庁

コンタクトホール形成時の写真製版およびエッチングのマージンを確保することができ、配線層がコンタクトホール内において露出することがなく、良好な配線を行なうことのできる半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can ensure a photolithography and etching margin during contact hole formation and can carry out good wiring without exposing a wiring layer inside a contact hole. - 特許庁

本発明は半導体装置または写真製版用マスクに関し、有効なパターン領域内に形成されるメインフィールドやサブフィールドの境界線の総延長を最短化することを目的とする。例文帳に追加

To minimize total length of boundary lines for main fields and sub- fields formed in an effective pattern region in a semiconductor device or in a mask for photolithography. - 特許庁

特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用として、生産性に優れ、かつ、環境面・コスト面で有利な水系塗布可能な熱現像画像記録材料の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing a heat developable image recording material excellent in productivity as a material particularly for a photomechanical process and particularly for a scanner and an image setter and producible by environmentally and cost-wise advantageous waterborne coating. - 特許庁

熱現像による高温下でも寸法安定性に優れ、さらに色再現性と処理適性に優れた印刷製版用熱現像感光材料およびそれを構成する写真用支持体を提供する。例文帳に追加

To provide a heat developable photosensitive material for plate making excellent in dimensional stability even at a high temperature in heat development and excellent also in color reproducibility and suitability to processing and a photographic substrate constituting the photosensitive material. - 特許庁

1回の写真製版で、透過表示領域の柱状スペーサの高さと、反射表示領域の柱状スペーサの高さとを同じにすることが可能な液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing liquid crystal display panels which makes the height of columnar spacers in a transmission area equal to the height of columnar spacers in a reflection display area with onetime photoengraving. - 特許庁

従来のような写真製版を行うことなく、樹脂構造物をダイレクトに、かつ簡単に、しかも高精度に形成することができ、その際のプロセスを短時間化する。例文帳に追加

To form resin structures directly, simply, highly precisely, and with a short period of time for processing, without performing photoengraving process of a prior art. - 特許庁

メモリ領域とロジック領域でのSTIの突き出し量のバラツキを低減するのと共に、ゲート写真製版のフォーカスマージンを向上し得る半導体装置の製造方法を得ることを目的とする。例文帳に追加

To obtain a method of manufacturing a semiconductor device in which dispersion in the protruding amounts of STI in a memory region and a logic region can be reduced and a focus margin of a gate photoengraving process can be improved. - 特許庁

例文

特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用熱現像感光材料において、高い画像濃度(Dmax)を有し、高温高湿下の現像時の線幅の太りが小さい熱現像感光材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a heat developable photosensitive material having high image density (Dmax) and nearly free of the increase of line width in development at high temperature and high humidity as a heat developable photosensitive material particularly for a photoengraving and particularly for a scanner and an image setter. - 特許庁

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