「液膜厚さ」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

液晶素子を構成するＩＴＯ、絶縁膜、配向膜の膜厚と屈折率の関係を最適化した。例文帳に追加

The relation between the film respective thickness and refractive indices of an ITO film, an insulating film and an alignment film which are constituents of the liquid crystal element are optimized. - 特許庁

これにより、着色液４を節約すると共に廃液を減少し、塗布される着色液４の膜厚制御を行うことができる。例文帳に追加

Thereby, the colored liquid 4 can be saved, the amount of the waste liquid can be reduced, and the film thickness of the colored liquid 4 being applied can be controlled. - 特許庁

液滴吐出ヘッドから機能液が吐出される基材上において機能液の膜厚変化によって生じるムラの発生を抑制する。例文帳に追加

To suppress the occurrence of irregularities caused by the film thickness change of functional liquid on a substrate to which the functional liquid is discharged from a droplet discharge head. - 特許庁

液滴吐出ヘッドから機能液が吐出される基材上において機能液の膜厚変化によって生じるムラの発生を抑制する。例文帳に追加

To suppress occurrence of unevenness due to variations in film thickness of a functional liquid on a substrate to which the functional liquid is discharged from droplet discharge heads. - 特許庁

液滴吐出手段を用いて基板上に配向膜材料を含む材料液を塗布する際に材料液の膜厚変動を防止して、基板上に均一な膜厚の配向膜を形成することができる成膜方法を提供する。例文帳に追加

To provide a deposition method by which an alignment layer having a uniform film thickness can be deposited on a substrate by preventing a variation in the film thickness of a material liquid when the material liquid including an alignment layer material is applied to a substrate using a liquid droplet ejecting means. - 特許庁

低速で溶液製膜するときの、フィルムに生じる厚みムラを抑える。例文帳に追加

To restrain the occurrence of uneven thickness of a film in forming a solution film at a low speed. - 特許庁

塩基性化合物（ａ）と多価アルコール（ｂ）とを含む厚膜レジスト用現像液であって、前記多価アルコール（ｂ）を該厚膜レジスト用現像液全量に対して３質量％以上２０質量％未満の濃度で含有することを特徴とする、厚膜レジスト用現像液による。例文帳に追加

This liquid developer for a thick film resist contains a basic compound (a) and a polyhydric alcohol (b), wherein the polyhydric alcohol (b) is contained at a concentration equal to or more than 3 mass% and under 20 mass% to the whole quantity of the liquid developer for the thick film resist. - 特許庁

原液を蒸発させた蒸気を用いて形成する被膜の、最適の膜厚の被膜形成と除去とが完全におこなわれるような、膜厚管理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a film thickness control method for completely forming and removing coating with an optimum film thickness that is formed by using vapor obtained by evaporating stock solution. - 特許庁

配向膜１６の膜厚を配向膜２２の膜厚より薄くすることによって、液晶装置１の動作時における経時的な共通電位の変動を低減できる例文帳に追加

When the film thickness t1 of the orientation film 16 is thinner than the film thickness t2 of the orientation film 22, variation in common potential with the lapse of time during the operation of the liquid crystal apparatus 1 can be reduced. - 特許庁

この方法には超薄膜噴射技術が採用され、前記薄膜の厚さは２ｍｍ、液体窒素の噴射速度は３０ｍ／ｓとする。例文帳に追加

In this method, an ultrathin film jetting technique is adopted and the thickness of the thin film is assumed to be 2 mm and the jetting speed of liquid nitrogen to be 30 m/s. - 特許庁

膜厚：４ｎｍ以下の不動態皮膜は、塩酸、硫酸等の非酸化性酸液にステンレス鋼を浸漬することにより形成される。例文帳に追加

The passive coating of a film thickness of 4 nm or less is formed by the immersion of stainless steel in a nonoxidizing acid solution of hydrochloric acid, sulfuric acid or the like. - 特許庁

また、好ましくは、分散液のミストを最大径で30μm以下とし、前記粉末を100nm以下として、形成する皮膜厚さを1μm以下とし、又は、溶液のミストを最大径で30μm以下として、形成する皮膜厚さを1μm以下とする。例文帳に追加

It is preferable that the maximum diameter of the mist of the dispersion is controlled to ≤30 μm, the diameter of the powder is controlled to ≤100 nm, the the maximum diameter of the mist of the solution is controlled to ≤30 μm and the thickness of the coating film to be formed is controlled to ≤1 μm. - 特許庁

振動板の厚みを高精度に、しかも低コストで能率良く作製することができる液体吐出ヘッドの製造方法並びに高度な厚み精度が要求される薄膜構造体の膜厚調整方法を提供する。例文帳に追加

To provide a production method for a liquid ejection head in which thickness of a vibrating plate is efficiently controlled in high accuracy with low costs, and a method for controlling film thickness of a thin film structure to which high thickness accuracy is required. - 特許庁

レジスト溶液の塗布時、予め登録したレジスト溶液の目標膜厚と重量差を変換するデータテーブルを用いて、レジスト塗布前の基板重量と、レジスト塗布後の基板重量の重量差から膜厚に換算し、該換算値をレジスト膜厚値として出力する測定方法。例文帳に追加

The measuring method enables the output of a conversion value as a resist film thickness value by converting a weight difference between a substrate weight before resist application and a substrate weight after resist application into the film thickness by using a data table for converting a target film thickness and the weight difference of a resist solution registered in advance when the resist solution is applied. - 特許庁

シンプルな構成により、ローラの表面に形成される液体膜の厚さが当該ローラの幅方向において均一であるか否かを簡易にかつ精度良く測定することができる液体膜厚さ測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid film thickness measuring apparatus capable of easily and accurately measuring whether the thickness of a liquid film formed on the surface of a roller is uniform in the width direction of the roller or not. - 特許庁

塗布ユニットにおいて塗布液の種類は同じだが目標膜厚が異なる生産ライン用レシピと膜厚測定用レシピとを複数用意し、これらのうち塗布液の種類及び目標膜厚が対応するものについて、共通のスピンカーブにリンクさせる。例文帳に追加

Among the recipes, recipes with the kind of coating liquid and the target film thickness corresponding to each other are linked by a common spin curve. - 特許庁

溶液塗布焼成法により一度の成膜、焼成操作で緻密で膜厚の厚い酸化物薄膜の製造を可能とするペロブスカイト構造誘電体薄膜形成用塗布液及びペロブスカイト構造誘電体膜の形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a coating liquid for forming a thin dielectric film of a perovskite structure which is capable of manufacturing a thin and dense oxide film of a large film thickness by one time of deposition and firing operation by a solution coating applying and firing process and a method of forming the dielectric film of the perovskite structure. - 特許庁

２種類以上の塗布液を、厚さ方向に積層して基材に塗布し、積層塗膜を形成する塗布方法であって、前記積層塗膜を構成する各塗膜のうち少なくとも２層の膜厚が所定の方向に沿って変化するように前記塗布液を塗布することを特徴とする塗膜の形成方法。例文帳に追加

In a coating film for laminating at least two kinds of coating solutions in a thickness direction to apply them to a substrate to form a laminated coating film, the coating solutions are applied so that the film thickness of at least two coating film layers constituting the laminated coating film changes along a predetermined direction. - 特許庁

坩堝の側面に原料融液が這い上がった状態で成膜を行うと、形成された薄膜の厚さの均一性が低下してしまう。例文帳に追加

To solve such a problem that, when performing film deposition in a state of creeping-up of a raw material melt along a side wall of a crucible, uniformity in thickness of a deposited thin film is degraded. - 特許庁

過酸化水素が添加された排水Ｗは、オーバーフロータンク１１から流出し、液膜流路１２の流路面１２ａ上を、１０ｍｍ以下の液膜厚さの液膜として流れる。例文帳に追加

The waste water W to which hydrogen peroxide is added is flows out of the overflow tank 11 to flow on the surface 12a of a liquid film flow channel 12 as a liquid film with a thickness of 10 mm or less. - 特許庁

基板１の表面又は裏面のエアナイフ３０からのエアが当たる部分では、洗浄液２の液膜の厚さが薄く制御され、エアナイフ３０からのエアによって洗浄液２の液膜が容易に除去される。例文帳に追加

On a part on the surface or the back surface of the substrate 1 against which the air from the air knife 30 strikes, the thickness of liquid film of the cleaning solution 2 is controlled thinly and the liquid film of the cleaning solution 2 is easily removed by the air from the air knife 30. - 特許庁

測定装置のセンサ等を劣化させず、簡便にかつ精度良く液槽の壁面等に付着した液膜の厚さを求めることができる。例文帳に追加

To easily and accurately obtain the thickness of a liquid film adhering to the wall surfaces of a liquid tank, etc., without degrading the sensor of a measuring device, etc. - 特許庁

基板に塗布された塗布溶液の膜厚に応じて塗布条件を動的に変更して、設定された膜厚の溶液を迅速かつ確実に塗布することができるスリットコート式塗布装置及びその制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a slit coating-type coating device which dynamically changes coating requirement in accordance with a film thickness of a coating liquid, which is applied to a substrate, to quickly, surely apply a coating liquid of preliminarily fixed film thickness, and to provide also provide its controlling method. - 特許庁

シリコン膜を形成するために使用される液体シリコン材料、特に高次シラン溶液について、成膜後に膜の特性や厚さが均一になる高次シラン溶液の製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method of preparing a higher order silane solution by which the characteristics or the thickness of a film formed from a silicon material, particularly a higher order silane solution is uniformalized. - 特許庁

そのため、ウエハＷの表面全域にほぼ均一な膜厚を有する硫酸の液膜がむらなく形成される。例文帳に追加

Therefore, the liquid film of sulfuric acid having almost uniform thickness is formed to the entire area of the surface of the wafer W. - 特許庁

このために、洗浄物５０の表面には、厚さが１０ｎｍ〜１μｍの純水及び有機溶剤の液滴又は液膜が形成される。例文帳に追加

Liquid drops or a liquid film of pure water and organic solvent is thereby formed by 10 nm-1 μm thick on the surface of a cleaning matter 50. - 特許庁

必要最小限の海水流量で伝熱管表面の液膜を保持して、ドライスポット発生および伝熱管表面の液膜厚さが必要以上に厚くなることによる伝熱性能低下を防止する。例文帳に追加

To prevent lowering of heat transferring performance caused by generation of dry spot and thickening of a liquid film on surfaces of heat transfer tubes to more than necessary, by holding the liquid film on the surfaces of the heat transfer tubes with a minimum necessary sea water flow rate. - 特許庁

レジスト塗布処理時には，回転されたウェハＷの中心部にレジスト液供給ノズルによりレジスト液が吐出され，所定の膜厚のレジスト液の液膜が形成される。例文帳に追加

In resist coating treatment, a resist liquid is delivered from a resist liquid supply nozzle to the center of a spinning wafer W, and a film of the resist liquid having a given thickness is formed. - 特許庁

液滴を吐出して形成する薄膜の筋状の膜厚段差を解消させた薄膜形成方法、液滴吐出装置および液晶表示装置を提供することである。例文帳に追加

To provide a thin film deposition method which causes no stripe-shaped level differences in film thickness of thin films which are deposited by discharging liquid droplets, and also provide a liquid droplet-discharging device and a liquid crystal display device. - 特許庁

液晶表示装置用カラーフィルタの着色膜を分光干渉式で測定する際に、着色膜に含まれる顔料の吸収の影響、高次光の影響を受けず、精度よく膜厚測定が可能な、また、パターン露光前のフォトレジストの膜厚測定が可能な着色膜の膜厚測定装置、及び膜厚測定方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a thickness measuring device of a colored film and a thickness measuring method capable of measuring the film thickness precisely without being influenced by absorption of a pigment included in the colored film and by high order light, and measuring the film thickness of a photoresist before pattern exposure, when measuring the colored film of a color filter for a liquid crystal display device by a spectral interference method. - 特許庁

液状物質が展延されたディスク基板の搬送時間によって発生する液状物質の膜厚変動を防止し、膜厚を均一にすることが可能な光ディスクの製造装置を提供すること。例文帳に追加

To provide the manufacturing apparatus of an optical disk by which film thickness can be made uniform by preventing the film thickness fluctuation of a liquid substance due to the conveying time of a disk substrate on which the liquid substance is spread. - 特許庁

版面に現像処理液を搬送、塗布するローラに、弾性ローラ１３−１を用いたため、膜厚規制部材１３−２により、弾性ローラに一定膜厚の現像処理液を形成することができる。例文帳に追加

Since an elastic roller 13-1 is used as a roller for carrying and applying the development processing solution to the printing plate, the film of the development processing solution having fixed thickness is formed on the roller 13-1 by a film thickness regulating member 13-2. - 特許庁

ノズル２０が基板に対して移動しながら処理液を供給する装置において、処理液吐出開始時に厚い膜を形成することなく、基板の表面に均一な厚さの膜を形成する。例文帳に追加

To provide a device for supplying a treating liquid while a nozzle 20 shifts relative to a substrate, where a film of uniform thickness is formed on the surface of the substrate without forming a thick film at the time of starting of discharge of the treating liquid. - 特許庁

（３）前記（１）または（２）記載の組成液に更に潤滑剤を含有した組成液を、樹脂乾燥膜厚で０．１〜５μｍ塗布する。例文帳に追加

(3) A compositional soln. moreover contg. a lubricator to the compositional soln. described in (1) or (2) is applied with the resin dry film thickness of 0.1 to 5 μm. - 特許庁

気液２相流として解析を行うことで噴孔の出口近傍における燃料の液膜の厚さを高精度に算出することができる。例文帳に追加

By analyzing it as a gas-liquid two-phase flow, the fuel liquid film thickness near the outlet of the nozzle hole can be precisely calculated. - 特許庁

画像モードに応じて二層構造の泡状定着液層の膜厚を調整して最適化された二層構造の泡状定着液を生成する。例文帳に追加

To generate foamy fixing solution of a two-layer structure optimized by adjusting the film thickness of a foamy fixing solution layer of a two-layer structure according to an image mode. - 特許庁

以上により、レジスト液の粘度が変化しても、形成される膜の膜厚を一定に保つことができる。例文帳に追加

Thus, it is possible to constantly maintain the film thickness of the film to be formed even when the viscosity of the resist liquid is changed. - 特許庁

液相成長によりウエハ上に形成される堆積膜の膜厚をウエハ全体に亙って均一化する。例文帳に追加

To make uniform the film thickness of a deposition film formed on a wafer due to liquid phase growth over the entire wafer. - 特許庁

液膜を効率よく、かつ、膜厚の均一性を劣化させることなく乾燥することができる基板処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a board treatment apparatus capable of drying a liquid film efficiently and without deteriorating the uniformity of a film thickness. - 特許庁

めっき液の汚染の抑制が図られると共に、形成されるめっき被膜の膜厚の均一化が図られたバレルめっき方法を提供する。例文帳に追加

To provide a barrel plating method by which the contamination of a plating solution is suppressed and the thickness of a formed plated coating film is made uniform. - 特許庁

塗布液の乾燥後に形成される膜の膜厚のバラつきの低減を図った減圧乾燥装置を提供する。例文帳に追加

To provide a reduced pressure drying apparatus reducing dispersion of thickness of a film formed after drying of a coating liquid. - 特許庁

塗布液をスピンコーティング法によってウエハＷへ塗布するにあたって、塗布膜の周縁部の膜厚プロファイルを安定化させること。例文帳に追加

To stabilize a film thickness profile of the peripheral edge portion of an applied film in applying an application liquid to a wafer W by a spin coating method. - 特許庁

そして、ノズル毎の吐出量のバラツキが精密に制御された液滴吐出ヘッドを用いて、均一な膜厚の薄膜を形成する。例文帳に追加

Then, a thin film having uniform film thickness is formed using the droplet discharge head which is precisely controlled with respect to the variance in discharge amount of each nozzle. - 特許庁

Ａｌ系合金めっき鋼板の表面に化成処理液を塗布し、乾燥させて、膜厚が０.５〜１０μｍの化成処理皮膜を形成する。例文帳に追加

Solution of chemical conversion treatment is applied onto a surface of an Al-based alloy plated steel sheet, and dried to form a chemical conversion coating film having a film thickness of 0.5-10 μm. - 特許庁

液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させたパターン形成方法、配向膜規制方法、液滴吐出装置、配向膜形成装置及び電気光学装置並びに液晶表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern forming method which improves the uniformity of film thickness of a pattern comprising liquid droplets, an orientation film forming method, a liquid droplet discharge device, an orientation film forming device and an electro-optical device, and a liquid crystal display device. - 特許庁