例文 (999件) |
液膜厚さの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1034件
ディスプレイ3の周辺部に眼球位置検出センサー4および涙液層検出センサー5を配置し、眼球位置検出センサー4で検出した眼球表面の涙液層の膜厚を涙液層検出センサー5で測定し、膜厚が一定値以下になったとき、警告を発するようにしたものである。例文帳に追加
An ocular position detection sensor 4 and a lacrimal layer detection sensor 5 are arranged on a peripheral portion of a display 3, the film thickness of the lacrimal layer on the ocular surface detected by the ocular position detection sensor 4 is measured by the lacrimal layer detection sensor 5, and an alarm is given when the film thickness is below a specified value. - 特許庁
周縁部に枠状のバリア部2を有するシリコン基板1にレジスト液10aを過剰に塗布した後、盛り上がったレジスト液膜10を、バリア部2の上端面にフラット板3をあてがいながら光導波方向と略平行にスキージングして所定の膜厚に液面制御する。例文帳に追加
After an excess amount of a resist liquid 10a is applied on a silicon substrate 1 having a frame-like barrier 2 on the peripheral edge, the bulging resist liquid film 10 is squeezed almost parallel to the guiding direction of light by applying a flat plate 3 on the top face of the barrier 2 to control the liquid surface to specified film thickness. - 特許庁
また、有機溶液にハロゲンおよびジメチルスルホキシドが添加されていることから、厚みの均一性が高く緻密性の高い金属酸化物薄膜を成膜することができる。例文帳に追加
Further, it is possible to deposit the metal oxide thin film having highly uniform thickness and high denseness because dimethylsulfoxide and the halogen are added in the organic solution. - 特許庁
その後、これを過酸化水素を含有する溶液に浸漬することにより、ベース拡散層6の表面に均一な10Å以下の膜厚のシリコン酸化膜16を形成する。例文帳に追加
The semiconductor device is dipped in a solution, containing hydrogen peroxide so that a silicon oxide film 16 with a uniform thickness of less than 10 Å is formed on the surface of the base diffusion layer 6. - 特許庁
基板上に形成された、その膜厚50nm以下であるレジスト膜を選択的に露光し、現像した後、表面張力が67×10^−3N/m以下のリンス液で洗浄することを含むレジストパターン形成方法。例文帳に追加
The method of forming the resist patterns includes cleaning the resist pattern with a rinse liquid having a surface tension of ≤67×10^-3 N/m after selectively exposing and developing resist films formed on a substrate and having a film thickness of ≤50 nm. - 特許庁
スピンチャックを回転し(S3)、かつ、エッチング液を供給している状態で(S4)、ウエハ表面の膜の膜厚がリアルタイムで測定される(S5)。例文帳に追加
In a state wherein a spin chuck is rotated (S3) and an etching liquid is supplied (S4), the thickness of a film on the surface of the wafer is measured in real time (S5). - 特許庁
次に半導体基板を加熱した濃硝酸等の酸化性の薬液に一定時間浸漬することにより、基板の表面に所定の膜厚の極薄の酸化膜を形成する。例文帳に追加
Then the semiconductor substrate is submerged in a heated oxidizing chemical liquid such as concentrated nitric acid for a prescribed period to form a very thin oxide film, with prescribed thickness on the surface of the substrate. - 特許庁
形成する膜全体の厚さを均一にでき、しかも装置の大型化や複雑化を抑えて装置構成を簡略化した、液滴吐出装置とこれを用いた薄膜形成方法とを提供する。例文帳に追加
To provide a liquid drop delivery apparatus capable of making thickness of the whole of the formed film uniform and simplifying a constitution of the apparatus by suppressing large size of complexity of the apparatus, and a thin film formation method using this. - 特許庁
また、配向膜は50nm〜300nmの範囲の適正の厚さを有するため、上記の配向膜を用いた液晶表示装置は光に対する透過率が向上する。例文帳に追加
Moreover, the alignment layer has appropriate thickness that ranges from 50 to 300 nm, which improves light transmittance of the liquid crystal display employing the alignment layer. - 特許庁
帯状の支持体を連続走行させながら、該支持体面に、揮発性溶剤を実質的に溶媒の主成分とする塗布液を塗布形成した塗布膜を乾燥する際に、膜厚ムラの発生を顕著に低減できる。例文帳に追加
To considerably reduce generation of irregularity of film thickness when drying a coating film formed by coating liquid for coating of which solvent is substantially and mainly consists of volatile solvent on a supporting body face while continuously travelling a band-shape supporting body. - 特許庁
ダブル露光技術において、保護膜の膜厚を増加せずに現像液耐性を向上させ、微細パターニングを実現する半導体デバイスの製造方法を提供することにある。例文帳に追加
To provide a method of manufacturing a semiconductor device which enhances the resistance to a developer without increasing a film thickness of a protective film in a double exposure technology, and achieves a micro patterning. - 特許庁
柱状スペーサを備えながらも、配向膜の膜厚ムラやラビングムラを視認されにくく、高い画質品位を与える液晶表示装置を提供する。例文帳に追加
To provide a liquid crystal display device which is provided with post spacers, however, in which uneven film thickness or rubbing unevenness of an alignment layer is hardly observable and which exhibits high picture quality. - 特許庁
柱状スペーサを備えながらも、配向膜の膜厚ムラやラビングムラを視認されにくく、高い画質品位を与える液晶表示装置を提供する。例文帳に追加
To provide a liquid crystal display device exhibiting high picture quality in which uneven film thickness or rubbing irregularity in an alignment layer is hardly visually recognized although the device has columnar spacers. - 特許庁
これによって、樹脂製基体2と塗工液との濡れ性が向上し、樹脂製基体2の表面に所定の膜厚で均一に中間層3が成膜されるために塗布ムラが発生しない。例文帳に追加
Thus the wettability of the resin substrate 2 with the coating liquid is improved and the intermediate layer 3 is uniformly formed with specified film thickness on the surface of the resin substrate 2, thereby preventing the occurrence of coating irregularity. - 特許庁
支持体上に塗布した際、塗布液量を少なくすることができると共に、レジスト膜の膜厚の均一性を向上させることができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。例文帳に追加
To provide a resist composition and a resist pattern forming method, reducing the quantity of coating liquid and improving uniformity of film thickness of a resist film in coating on a support. - 特許庁
下流側リップランド19のランド長さI_LOを50μmとしたスロットダイ13で、ウエブ12上に塗布液14を40m/分で塗布し、湿潤膜厚5μmの薄膜塗布を実施した。例文帳に追加
Application liquid 14 is applied on a web 12 at 40 m/min by using a slot die 13 where a land length IL_0 of downstream side lip land 19 is 50 μm, and the thin film application of wet film thickness 5 μm is thus performed. - 特許庁
この液晶組成物は、基板11,12の間に所定の厚みで保持されており、基板11,12の対向面には電極13,14、絶縁膜15、配向膜16が設けられている。例文帳に追加
The liquid crystal composition is held between substrates 11 and 12 at a prescribed thickness and electrodes 13 and 14, insulating films 15 and oriented films 16 are provided on the opposite surfaces of the substrates 11 and 12. - 特許庁
基板の上面に形成される処理液の液膜の厚さを正確に測定することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することである。例文帳に追加
To provide a substrate processing equipment and a method for processing a substrate, in which the thickness of the liquid film of treatment liquid formed on the surface of a substrate is measured correctly. - 特許庁
液体材料30に同じ強さの気体21を吹きつけながら押し広げることにより、第1基板42上に膜厚の均一な液体材料30を塗布する。例文帳に追加
The liquid material 30 having the uniform thickness of the membrane is applied on the first substrate 42 by expanding the liquid material 30 while spraying the gas 21 with the same strength as the liquid material 30. - 特許庁
霧化した塗布液を曲面又は傾斜面を有する基材に付着させることにより基材上に均一の厚さの反射防止膜を形成する方法において、塗布液に界面活性剤を配合することを特徴とする。例文帳に追加
In the method for forming the antireflection film of uniform film thickness on the base material, by adhering an atomized application liquid onto the base material having the curved surface or the inclined surface, the application liquid is compounded with a surfactant. - 特許庁
ダイヘッドの吐出口の両側から吐出される塗工液の量を制限して、ウェブ上に塗工される塗工液についてとりわけ両側部分における厚膜化を確実に防止すること。例文帳に追加
To reliably prevent a film, particularly both sides of the film, from becoming thick at the time of applying a coating liquid on a web by restricting the quantity of the coating liquid to be discharged from both sides of a discharge ports of a die head. - 特許庁
機能溶液を貯留、乾燥して形成される発光層を有する有機EL表示装置において、機能溶液の乾燥速度に着目して機能膜の出来上がり厚さを好適に制御する技術を提供する。例文帳に追加
To provide a technique which suitably controls completion thickness of a functional film by focusing attention on drying speed of functional solution, in an organic EL display which has a light emitting layer formed by storing and drying the functional solution. - 特許庁
構造体20aは、液晶層18の厚みT1と同一の長さL1を有し、1対の配向膜16a、16bに、言いかえれば液晶層保持部に両端が固着される。例文帳に追加
The structure 20a has the same length L1 with the thickness T1 of the liquid crystal layer 18 and both ends of the structure 20a are fixed to a pair of the alignment layers 16a, 16b, in other words, to liquid crystal layer holding parts. - 特許庁
分子配列規則性の良好な液晶材料を選択し、一対の厚さ規制力を有する界面間に配置し、液晶相からの相転移により配列秩序を付与して固化させ単結晶性薄膜を与える。例文帳に追加
This single crystalline thin film is formed by selecting a liquid crystal material good in regularity of molecular arrangement, then placing the liquid crystal material between a couple of boundaries capable of controlling the thickness, imparting arrangement order by the phase transition from liquid crystal phase and solidifying. - 特許庁
補強層10付き燃料電池用電解質膜1をアルコール系溶液5に一定時間、一定温度で含浸させた後、電解質膜1に含浸されたアルコール系溶液5を乾燥させて、電解質膜1自体の物性を変化させて、生成水により膨潤しても電解質膜1の膜厚方向の寸法を抑制する。例文帳に追加
After an electrolyte membrane 1 for a fuel cell with a reinforcing layer 10 is impregnated in an alcohol system solution 5 for a specified time and temperature, the alcohol system solution 5 impregnated in the electrolyte membrane 1 is dried, and a physical property of the electrolyte membrane 1 itself is changed to restrain a dimension of the electrolyte membrane 1 in its membrane thickness direction even if it is swollen by the generated water. - 特許庁
互いに対向して配される一対の基板間に液晶が封入された液晶表示素子で、該液晶層の厚さを一定に保つために配置された樹脂製スペーサーにおいて、該スペーサーの膜厚の標準偏差値が平均値の2%以下であることを特徴とする液晶パネル用スペーサー。例文帳に追加
The spacer for the liquid crystal panel, which is made of resin and disposed for keeping a fixed thickness of a liquid crystal layer in the liquid crystal display device having the liquid crystal sealed between a pair of substrates disposed oppositely to each other is characterized in that the standard deviation value of the thickness of the spacer is 2% or less of the mean value of the thickness. - 特許庁
有機膜およびオーバーコート層の膜厚むらが発生しにくく、有機膜またはオーバーコート層と、その上下に形成される膜または基板とが剥離しにくく、表示状態が良好な反射型液晶表示装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a reflection type liquid crystal display device in which an uneven layer thickness of an organic film and an overcoat layer is hard to occur, in which the organic film or the overcoat layer and a film or a substrate formed on its upper or lower side are hard to be peeled from each other and which has an excellent displaying state. - 特許庁
電気機械変換膜を形成するための原料を含む塗布液をノズルから吐出させて電極上に塗布する場合に、均一な膜厚を有する所望パターンの電気機械変換膜を形成することができる電気機械変換膜の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a manufacturing method of an electromechanical conversion film capable of forming the electromechanical conversion film of a desired pattern having a uniform film thickness when discharging a coating liquid containing a raw material for forming the electromechanical conversion film from a nozzle and coating an electrode with the liquid. - 特許庁
通常の半導体プロセスに用いられる方法によって、容易に、任意に制御された膜厚の薄膜が形成可能であり、かつ安定性に優れた多孔質膜形成用塗布液、及びこの多孔質膜を内蔵する半導体装置を提供する。例文帳に追加
To provide a coating liquid for forming a porous film capable of easily providing a thin film having an arbitrarily regulated thickness by a method usable for a usual semiconductor process, and having excellent stability; and to provide a semiconductor device including the porous film. - 特許庁
インク・ジェット方式で膜材料(液体材料)を供給することにより、半導体基板42上の所望の部分にのみ膜材料を供給することができ、不要な部分への膜材料の供給が防止されるとともに、膜厚のばらつきが半導体ウエハ上のパターンに依存することがなくなる。例文帳に追加
By supplying the film material (liquid material) by an ink jet system, the film material can be supplied only to a desired part of the semiconductor substrate and the supply thereof to an unnecessary part is prevented and the irregularity of film thickness is prevented from depending on the pattern on a semiconductor wafer. - 特許庁
優れた平面性を有する85μm未満の膜厚のセルロースエステルフィルムを作製するフィルム製造装置及び製造方法を、また平面性に優れた85μm未満の膜厚の液晶画像表示装置用セルロースエステルフィルムを提供する。例文帳に追加
To provide an apparatus and method for preparing a cellulose ester film having a thickness of less than 85 μm excellent in flatness and to provide a cellulose ester film for a liquid crystal image display device having a thickness of less than 85 μm excellent in flatness. - 特許庁
基板上の隔壁で囲まれた区域毎に、EL素子の発光層等を塗液で形成する際、従来、生じていた塗膜の厚みムラを解消し、各区域内に厚みの均一な発光層等の塗膜を形成することを課題とする。例文帳に追加
To form a coating such as a luminescent layer having uniform thickness in each section by eliminating thickness irregularity of the coating conventionally generated when the luminescent layer or the like of an EL element is formed of a coating liquid for every section surrounded by barrier ribs on a substrate. - 特許庁
従来の感光性着色樹脂組成物を用いて約3.0μm程度の膜厚の着色画素を形成しても、塗布ムラや膜厚不均一などが発生せず、着色画素の断面形状がオーバーハング状とならない液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供すること。例文帳に追加
To provide a method for producing a color filter for a liquid crystal display in which unevenness in coating and non-uniformity in film thickness are not caused and colored pixels are made free from an overhanging sectional shape even when colored pixels of about 3.0 μm film thickness are formed using a conventional photosensitive colored resin composition. - 特許庁
内部電極の表面上に形成される絶縁膜の厚みの範囲を規定することで液体の状態の検知を精度よく行うことができる静電容量式液状態検知センサを提供する。例文帳に追加
To provide a capacitance type liquid state detecting sensor capable of accurately performing detection of a liquid state by regulating the range of thickness of an insulating film formed on a surface of an inner electrode. - 特許庁
主液室34Aと副液室34Bとを仕切る仕切り体38は、弾性仕切り膜46と、その外周厚肉部46Aを挟持する一対の挟持部材48,52を備える。例文帳に追加
The partition body 38 to divide the main liquid room 34A and the sub-liquid room 34B is equipped with the elastic partition film 46 and a pair of clip holding member 48, 52 which clips and holds the peripheral thick-walled part 46A. - 特許庁
また、塗布終了端では残った液ビードの大半が液だまり部に保持されることで塗布終了端での膜厚の盛り上がりを抑えることができる。例文帳に追加
Further, the greater part of the bead of remaining coating liquid at the coating end edge is held in the reservoir, resulting in suppression of swell in the film thickness at the coating end edge. - 特許庁
主液室34Aと副液室34Bとを仕切る仕切り体38は、弾性仕切り膜46と、その外周厚肉部46Aを挟持する一対の挟持部材48,52を備える。例文帳に追加
A partition body 38 partitioning the main liquid chamber 34A and a sub-liquid chamber 34B, has an elastic partition film 46 and a pair of sandwiching members 48 and 52 sandwiching its outer peripheral thick part 46A. - 特許庁
ビード18が最も薄くなる位置に側部垂直面が存在するため、塗布液の縮流が抑制され、塗布膜19の膜厚が均一になる。例文帳に追加
Since the side part vertical surface is present at a position where a bead 18 becomes thinnest, the contraction flow of coating liquid is suppressed and the film thickness of the coating film 19 becomes uniform. - 特許庁
基体にポリシラザン溶液を塗布し、化学的処理して二酸化ケイ素膜を被覆する方法において、次の(A)〜(D)の各工程が順次行なわれることを特徴とする厚膜二酸化ケイ素の被覆方法。例文帳に追加
A polysilazane solution is applied to a substrate and subjected to a chemical treatment to obtain a thick silicon dioxide coating film. - 特許庁
溶液流延製膜方法により製造された乾燥膜厚が20〜60μmのセルロースエステルフィルムにおいて、巻き取り時の残留溶媒量が0.05質量%以下であることを特徴とするセルロースエステルフィルム。例文帳に追加
This cellulose ester film 20-60 μm in thickness on a dry basis is produced by solution casting film formation method, and is characterized by being ≤0.05 mass% in residual solvent content when wound and rolled. - 特許庁
良好な厚さを有して光透過率及び導電性が共に優れた透明導電膜を、液相法にて容易に製造することのできる透明導電膜の製造法の提供。例文帳に追加
To provide a method for producing a transparent conductive film, by which a transparent conductive film having a favorable thickness and excellent in both light transmittance and conductivity can be easily produced by a liquid phase method. - 特許庁
液体急冷は、冷却された単ロール5または双ロール6、6を用いて行うことができ、複相型水素透過合金膜の膜厚は100μm未満が望ましい。例文帳に追加
The melt quenching can be performed using a single roll 5 or twin rolls 6, 6 which have been cooled, and the membrane thickness of the dual phase type hydrogen permeable membrane is desirably controlled to <100 μm. - 特許庁
ワインおよびビール等の発酵液を処理するために好適に使用され得る、内径および膜厚が比較的大きな中空糸膜を安定して製造するための方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for stably manufacturing a hollow fiber membrane with relatively large inner diameter and thickness and preferably usable for treating a fermented liquid such as wine, beer or the like. - 特許庁
この表示パネル10Aの列方向に配列された画素PIXに沿って液体を連続的に塗布することで、各画素PIXの有機EL層の膜質及び膜厚を均一化する。例文帳に追加
The film quality and the film thickness of the organic EL layer of each pixel PIX are made uniform, by continuously applying a liquid along the pixels PIX arranged in the column direction of the display panel 10A. - 特許庁
エナメル塗装面やクリア塗装面の劣化を抑制するように2μmをこえる厚膜で塗膜する場合でも高度な光触媒分解活性を得ることの可能な窓サッシおよび窓サッシ用コーティング液を提供すること。例文帳に追加
To provide a window sash and a coating liquid for window sashes capable of obtaining high photocatalyst decomposition activity even when a thick coating film with a thickness of 2 μm or more is applied to reduce degradation of an enamel coating surface and a clear coating surface. - 特許庁
スリット型ダイコーターを用い、低粘度の塗布液を使用し、安定した膜厚でストライプ状の複数の薄膜を形成する塗布方法及びこの塗布方法より形成された有機エレクトロニクス素子を提供することである。例文帳に追加
To provide a coating method using a slit type die coater and a low-viscosity coating liquid and forming two or more stripe-like thin films with a stable film thickness and an organic electronics element formed by the coating method. - 特許庁
インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴を塗布しナノインプリントを行う方法において、凹凸パターン転写されたレジスト膜の残膜の厚みムラおよび残留気体による欠陥の発生を抑制する。例文帳に追加
To reduce a defect, which is caused by uneven thickness and residual gas in a film residue of a resist film having an uneven pattern transferred thereon, in a method for carrying out an nano-imprint by inkjet applying an ink droplet made of resist material. - 特許庁
Al含有Zn系合金めっき鋼板の成形加工品の表面に化成処理液を塗布し、乾燥させて、膜厚が0.5〜10μmの化成処理皮膜を形成する。例文帳に追加
In this method for manufacturing the molded product, the chemical conversion treatment liquid is coated on the surface of the molded product made of an Al-containing Zn-based alloy plated steel sheet and is dried to form the chemical conversion coating having a film thickness of 0.5-10 μm. - 特許庁
供給される処理流体が少流量であっても、これを均一な膜厚の連続した液膜として吐出することができるノズル装置を提供する。例文帳に追加
To provide a nozzle device capable of discharging a supplied treatment fluid as a continuous liquid film having a uniform film thickness even in the case of the supplied treatment fluid at a small flow rate. - 特許庁
そして、DIW供給停止後、所定時間が経過してパドル状の液膜の膜厚T1がほぼ均一になるのを待ってから、基板Wの回転速度が40rpmに加速される。例文帳に追加
Upon elapsing a predetermined time after stopping supply of DIW, rotational speed of the substrate W is accelerated to 40 rpm after waiting for the liquid film in the shape of a paddle to have a substantially uniform thickness T1. - 特許庁
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