「液膜厚さ」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

高感度で高解像度のパターンを得ることができ、低線膨張係数を有し、アルカリ可溶性樹脂と感光性ジアゾキノン化合物と無機酸化物のコロイド溶液との分散性に優れるため膜厚が均一なポジ型感光性樹脂組成物の製造方法並びに半導体装置及び表示素子を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a positive-type photosensitive resin composition capable of obtaining a high-sensitivity, high-resolution pattern, having low linear expansion coefficient and giving uniform film thickness because of the superior dispersibility of an alkali soluble resin, a photosensitive diazo quinone compound and an inorganic oxide colloid solution to each other, and to provide a semiconductor device and a display device. - 特許庁

帯電ローラーなどの部品に被覆する際、収縮特性や開口性に優れると共に、従来の導電性コーティング液を使用した導電性被膜層と同等の厚みを実現し、更に薄肉の製品にもかかわらず、電気特性、化学的安定性に優れ、また表面平滑性および機械加工性にも優れた熱収縮性熱可塑性樹脂チューブを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a heat-shrinkable thermoplastic resin tube excellent in shrink characteristics or perforation properties at the time of coating of a part such as a charge roller or the like, realizing thickness equal to that of a conductive film layer using a conventional conductive coating liquid, excellent in electric characteristics and chemical stability in spite of a thin-walled product and also excellent in surface smoothness and mechanical processability. - 特許庁

半導体ウエハＷの被処理面から気泡Ａを確実に追い出し気泡Ａの影響を排除して銅メッキを施すようにしているが、気泡Ａを確実に追い出す際の半導体ウエハＷの回転速度やメッキ液３の循環流量の設定が難しく、均一な膜厚のメッキ層を得ることが極めて難しい。例文帳に追加

To obtain a plated layer with a uniform film thickness, by improving a setting of a rotation speed of a semiconductor wafer W and a circulation flow rate of a plating solution 3 for driving out bubbles A without fail, in a plating process in which bubbles A are driven out from a treated surface of the semiconductor wafer W not to influence on the surface. - 特許庁

工業的に十分実用可能な技術の範囲で、即ち廃液処理を要しないドライプロセスであり、残渣が残らない乾式成膜法により、板材もしくは厚みの薄い印刷配線板用金属箔でも粗化を効率的に行なう方法と粗化面を有する板材および印刷配線用金属箔を提供する。例文帳に追加

To provide a method for efficiently performing roughening even to a metal plate or metallic foil for a thin printed wiring board by a dry type film disposition method which requires no waste water treatment within an industrially practicable technology, and to provide a metal plate and metallic foil for printed wiring having a roughened face. - 特許庁

また、その重合反応により生成する水の重量が反応溶液全重量に対して０．０１ｗｔ％以上１．１ｗｔ％以下の範囲となるように還流させることで、１０μｍ以上の膜厚を有するポリイミドフィルムを製造できる程度に高い重合度を有するポリイミド化合物を製造できる。例文帳に追加

By refluxing so that the amount of water generated by the polymerization reaction falls within the range of 0.01-1.1 wt.% based on the total weight of the reaction solution, there can be produced a polyimide compound of polymerization degree as high as realizing the production of a polyimide film of ≥10 μm thickness. - 特許庁

可撓性被搬送体を平坦な状態にして搬送させることのできる搬送方法及び搬送装置を提供し、このように平坦にした可撓性支持体としての可撓性被搬送体に塗布液を均一に安定に塗布する塗布方法及びこの塗布方法による均一な塗布膜厚の塗布物を製造する製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a carrying method and a carrying device capable of carrying a flexible carried element in a flat state; and to provide a coating method for uniformly and stably coating a coating liquid on the flexible carried element as a flexible supporting element that is made to be flat, and a manufacturing method for manufacturing a coated article with uniform coating film thickness by the coating method. - 特許庁

十分なプロセスマージンを有し、１,５００Ｊ/ｍ^2以下の露光量で十分なスペーサー形状および膜厚を得ることを可能とし、圧縮荷重による高い柔軟性を持ち、密着性、ラビング耐性、耐熱性などにも優れ、剥離液耐性に優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition which has a sufficient process margin, makes it possible to obtain a satisfactory spacer shape and film thickness with an exposure amount of ≤1,500 J/m^2, and forms spacers for a display panel having high flexibility under compressive load, excellent also in adhesion, rubbing resistance and heat resistance, and excellent in resistance to a stripping solution. - 特許庁

従来の横電界方式液晶表示装置用アクティブマトリックス基板では、画素電極をソース・ドレイン電極と同一工程で作製しているので、画素電極の段差はソース・ドレイン電極の膜厚と同じ０．２〜０．４μｍと大きくなり、ラビング圧不均一による配向不良が発生しやすくなる。例文帳に追加

To eliminate the occurrence of an aligning defect caused by non- uniform rubbing pressure by reducing the step differences of pixel electrodes, that are made the same as the film thickness of source/drain electrodes in a conventional lateral electric field system liquid crystal display device active matrix substrate on which the pixel electrodes are produced in the same process of manufacturing the source/drain electrodes. - 特許庁

カラー液晶表示装置の高画質化、低消費電力化に対応できる高解像性を有する感光性着色組成物、特に、ＣＯＡ方式のような厚膜でも高解像度で、パターン剥がれをおこさない密着性の優れた感光性着色組成物、およびこれを用いたカラーフィルタを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a photosensitive coloring composition having high definition capable of corresponding to high image quality improvement and power consumption reduction of a collar liquid crystal display device, particularly a photosensitive coloring composition with high definition even for a thick film in COA system and with excellent adhesion preventing pattern peeling, and a color filter using the same. - 特許庁

また、着色層について、Ｃ光源を使用して測定した、ＸＹＺ表色系色度図における赤、緑、青の各色度座標を結んでなる三角形の面積がＮＴＳＣ規格比８０％以上であり、かつ膜厚が４μｍ以下であることカラーフィルター、およびこれを用いた液晶表示装置を実現する。例文帳に追加

The color filter and a liquid crystal display device using the same are achieved, in which, concerning the coloring layer, the area of a triangle formed by connecting each chromaticity coordinate of red, green, and blue in the XYZ color specification system measured by using a C light source is not smaller than 80% on the NTSC standard ratio, and the thickness is not thicker than 4 μm. - 特許庁

液晶装置において、画素スイッチング用のＭＯＳＦＥＴ３０と周辺回路用のＭＯＳＦＥＴ８０とは、ＭＯＳＦＥＴがＯＮした時のチャンネル領域を形成する半導体層の反転領域の導電型が同じＰ型であるが、チャンネル半導体層領域１ａ、２ａの膜厚が異なる。例文帳に追加

In a liquid crystal device, a MOSFET 30 for pixel switching and a MOSFET 80 for a peripheral circuit have the same P-conduction type of the inversion area of a semiconductor layer forming a channel area when the MOSFET is turned on, and respectively have channel semiconductor layer areas 1a and 2a whose film thicknesses are different from each other. - 特許庁

本発明の目的は、前記の事情に鑑み、テンターを用いてフィルムを斜め方向に延伸する際に長手方向の膜厚、光学特性の均一性に優れた遅相軸が傾斜した長尺延伸フィルムの製造方法、長尺延伸フィルム、それを用いた長尺偏光板、及び液晶表示装置を提供するものである。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a long stretched film that has an oblique delayed phase axis and hardly causes variations in a thickness and in optical characteristics in its longitudinal direction when stretching a film in an oblique direction by using a tenter, to provide the long stretched film, and to provide a long polarization plate and a liquid crystal display device which use the long stretched film. - 特許庁

一度の黒色感光性樹脂組成物の塗布、露光、現像、焼成処理によって表示領域内と額縁部で膜厚差を有するブラックマトリックスを形成し、遮光性を十分に保ちつつ、光漏れなどの不具合を防止することができるカラーフィルタの製造方法、それを用いて得られるカラーフィルタ及び液晶表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a color filter, with which malfunctions such as light leakage is prevented while a sufficient light-shielding property is retained, by only once processing a black photosensitive resin composition with application, exposure, development, and baking, and forming a black matrix having film thickness difference between the inside of a display region and a picture frame region. - 特許庁

液晶画像表示装置（ＬＣＤ）の偏光板用保護フィルムなどに用いられる光学フィルムについて、ドープの流延スピードがはやい場合であっても、フィルムの平面性を阻害するスジ状の膜厚ムラの発生を抑えることができて、平面性の良好な品質の良い光学フィルムを製造し得る方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing an optical film of good quality used as the protective film for the polarizing plate of a liquid crystal display (LCD) and having good flatness, capable of suppressing the occurrence of streak-like film thickness irregularity obstructing the flatness of the film even when the casting speed of a dope is fast. - 特許庁

正面レターデーション値（単位：ｎｍ）が０≦Ｒｅ(630)≦１０、膜厚方向のレターデーション値が｜Ｒｔｈ(630)｜≦２０で、｜Ｒｅ(450)−Ｒｅ(630)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(450)−Ｒｔｈ(630)｜≦２０であり、総平均置換度が２．９０〜２．９６５であり、グルコース単位の２位および３位の平均置換度の合計が１．９７以上であり、かつ組成分布半値幅が、置換度単位で０．０９以下のセルロースアシレートフィルム、並びにそれを用いた光学補償フィルムおよび液晶表示装置である。例文帳に追加

The optical compensation film and the liquid crystal display device use the cellulose acylate film. - 特許庁

ガラス板を連続して供給する際に、加速減速域を無くして連続的に塗布を行うようにし、塗液供給も一定の圧力での連続的とし、塗布開始と終了時の膜厚不安定エリアを無くし、かつ塗布速度の向上が見込める単板連続塗布装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a device for continuously coating single sheets which enables the glass sheets to be continuously coated at a stable speed without acceleration or deceleration with the continuous supply of a coating liquid under a constant pressure, eliminating areas unstable in film-thickness at the start and end of coating and improving the coating speed when sheets of glass are continuously supplied. - 特許庁

ポリアリーレンのスルホン化物に特定の混合溶媒を加えることにより、得られる組成物の溶液粘度を下げて、フィルム成形性に優れ、その結果、厚膜化が可能で、表面平滑性に優れ、ピンホールなどの欠陥のない優れた物性を有するフィルムが得られるポリアリーレンのスルホン化物の有機溶剤系組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an organic solvent based sulfonated polyarylene composition which has a reduced solution viscosity and is excellent in film forming properties, realizing the formation of a thick film, and gives a film excellent in surface smoothness, and has excellent physical properties free from defects such as pinholes by adding a specified solvent to the sulfonated polyarylene solution. - 特許庁

酸の作用によりアルカリ性現像液に対する溶解性が変化するベースポリマーと、カウンターアニオンを構成する芳香環のメタ位に少なくとも１つの電子吸引性基が導入されておりエネルギービームが照射されると酸を発生する酸発生剤とを有するポジ型の化学増幅型レジスト材料よりなり、２５０ｎｍ以下の膜厚を持つレジスト膜１１を半導体基板１０の上に形成する。例文帳に追加

A resist film 11 having ≤250 nm thickness and comprising a chemical amplification type positive resist material comprising a base polymer having solubility in an alkaline developing solution varied by the action of an acid and an acid generator in which at least one electron withdrawing group has been introduced into the meta-positions of an aromatic ring constituting a counter anion and which generates the acid when irradiated with energy beams is formed on a semiconductor substrate 10. - 特許庁

非磁性ガーネット単結晶基板１上に、白金または白金合金の膜を任意の形状および厚さに形成する工程と、融剤として酸化鉛を含有する磁性ガーネット原料融液と前記非磁性ガーネット単結晶基板１を接触させ、この非磁性ガーネット単結晶基板１上の白金または白金合金を融剤によって除去しながら、非磁性ガーネット単結晶基板１上に磁性ガーネット単結晶膜３を育成する工程とを備える。例文帳に追加

The inventive method comprises a step for forming a platinum alloy film of arbitrary shape and thickness on a nonmagnetic garnet single crystal substrate 1, and a step for growing a magnetic garnet single crystal film 3 on the nonmagnetic garnet single crystal substrate 1 by bringing a magnetic garnet material liquid containing lead oxide as flux into contact with the nonmagnetic garnet single crystal substrate 1 and removing platinum or platinum alloy therefrom by means of the flux. - 特許庁

ラビング処理を施した液晶配向膜５５、５６を表面に積層した透明電極５３、５４が対向配置し、かつ前記透明電極を支持する基板５１、５２が透明である中空セルと、前記中空セルに充填された、低分子液晶６０と厚さが前記電極間ギャップ５７よりも小さい微小固体６１を含有する混合物５９と、前記電極間に電圧を印加する電圧印加手段５８とを具備する表示素子。例文帳に追加

This displaying element has a hollow cell oppositely arranging transparent electrodes 53 and 54 laminating liquid crystal orienting films 55 and 56 subjected to rubbing treatment onto the surface and having substrates 51 and 52 supporting the transparent electrode, a mixture 59 packed in the hollow cell and containing low-molecular liquid crystal 60 and minute solid 61 smaller than the gap 51 between the above electrodes and a voltage applying means 58 applying voltage between the above electrodes. - 特許庁

本発明の実施例による薄膜トランジスタ表示基板は、液晶キャパシタを構成する重畳する導電体の面積を大きくしないで、２つの導電体を相対的に厚さの薄い保護膜を介在して重畳するようにしたり、あるいは維持電極を不透明な反射電極下に維持電極を配置することで、表示装置の開口率を減少することなく、より大きな保持容量を有するストレージキャパシタを有することができる。例文帳に追加

The TFT display substrate of the invention has the storage capacitor having the large hold capacity without reducing the aperture ratio of a display device, by superimposing two conductors across a relatively thin protection film without increasing the area of the superimposing conductors for composing a liquid crystal capacitor, or, by arranging a sustain electrode under an opaque reflective electrode. - 特許庁

基材上に珪素化合物を含有するガスバリア層を少なくとも１層有するガスバリアフィルムであって、前記ガスバリア層が珪素化合物溶液を塗布乾燥して形成された層を改質処理することにより形成され、改質処理により珪素酸化物を含む層へ改質された層の膜厚が１０〜１００ｎｍであり、かつ前記改質された層の表面の最大高低差Ｒｐｖが３０ｎｍ以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。例文帳に追加

In the gas-barrier film having at least one gas-barrier layer containing a silicon compound on a base material, the gas-barrier layer is formed by modifying a layer formed by applying and drying a silicon compound solution, the film thickness of a layer modified into a layer containing the silicon compound by the modification is 10-100 nm, and the maximum height difference Rpv on the surface of the modified layer is 30 nm or below. - 特許庁

基板表面に一様に突起を形成したカラーフィルタを有する液晶表示装置の場合、画素領域とシール領域及びその近傍領域に同じ高さの突起が形成されているが、画素領域とシール領域及びその近傍領域とでは、基板表面に形成されている配線、ブラックマトリクス等のパターンが異なり、突起と重なる領域のパターンの膜厚が異なるため、画素領域とシール領域及びその近傍領域とのセルギャップに差が生じる。例文帳に追加

To provide a liquid crystal display device wherein cell gaps at a pixel area, a sealing area and its peripheral area can be equalized to one another, and to provide a manufacturing method therefor. - 特許庁

（１）下記式（Ｉ）および（II）をみたす透明フィルム１と、（２）塗布により形成されるポリマー層からなる光学異方性層１と、（３）塗布により形成される液晶性化合物を含む光学異方性層２ （Ｉ）０≦Ｒｅ_(630)≦１０かつ｜Ｒｔｈ_(630)｜≦２５ （II）｜Ｒｅ_(400)−Ｒｅ_(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ_(400)−Ｒｔｈ_(700)｜≦３５［式中、Ｒｅ_(λ_)は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ_(λ_)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。例文帳に追加

There are provided: (1) a transparent film 1 satisfying following inequalities (I) and (II); (2) an optically anisotropic layer 1 composed of a polymer layer and formed by coating; and (3) an optically anisotropic layer comprising a liquid crystal compound formed by coating. - 特許庁

（１）下記式（Ｉ）および（II）をみたす透明フィルムと、（２）塗布により形成される液晶性化合物を含む光学異方性層１と、（３）下記式（III）で表されるＮｚ値が０以上２．０以下である光学異方性層２と、 （Ｉ） ０≦Ｒｅ_(630)≦１０かつ｜Ｒｔｈ_(630)｜≦２５ （II） ｜Ｒｅ_(400)−Ｒｅ_(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ_(400)−Ｒｔｈ_(700)｜≦３５ （III） Ｎｚ＝０．５＋Ｒｔｈ／Ｒｅ［式中、Ｒｅ_(λ)は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ_(λ)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。例文帳に追加

The three layers are (1) a transparent film satisfying expressions (I) and (II), (2) an optical anisotropic layer 1 containing a liquid crystal compound formed by coating, and (3) an optical anisotropic layer 2 which has an Nz value of 0 to 2.0 represented by expression (III). - 特許庁

基板上に形成された感光層に露光および現像によりマスクパターンを形成し、そのマスクパターンを用いて基板をエッチングすることにより、基板にマスクパターンと同一形状のパターンを形成する際に、レジストパターンの破れによる歩留の低下を防止する一方で、厚膜パターン同士の隙間でエッチング液の流れが阻害されることを防止し、基板全体にわたり所望のパターンを精度良く形成できるようにする。例文帳に追加

To avoid lowering the yield due to breaking of a resist pattern and prevent an etching liquid flow from being blocked in the gap between thick film patterns to accurately form a desired pattern over the entire substrate, when photosensitive layers on a substrate are exposed and developed to form a mask pattern and the substrate is etched with the mask pattern to form the pattern of the same shape as that of the mask pattern on the substrate. - 特許庁

基板上に形成されたＩｎＧａＡｌＰ層をその厚みの途中まで選択的にドライエッチングして略ストライプ状の凸状体を形成する工程と、前記凸状体の上面と両側面とに保護膜を形成する工程と、前記凸状体の周囲の前記ＩｎＧａＡｌＰ層をフッ酸を含有する溶液でエッチングすることにより、前記凸状体を含むリッジを形成する工程と、を備えたことを特徴とする光半導体素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

The manufacturing method of an optical semiconductor element comprises the steps of forming a substantially stripe-shaped protruded structure by selectively dry etching an InGaAlP layer formed on a substrate up to the middle of its thickness, forming a protective film on the upper surface and both side surfaces of the protruded structure, and forming the ridge including the protruded structure by etching the InGaAlP layer around the protruded structure with a solution containing fluorinated acid. - 特許庁

基板上に塗布した、樹脂、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、及び着色剤を含む感光性樹脂組成物に対し、紫外光レーザーでパターン露光を行ウ工程を含み、膜厚が２．２μｍ〜３．５μｍである、色度ｘ≧０．６４の赤色画素、色度ｘ≦０．１５の青色画素、及び色度ｙ≧０．５７の緑色画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法、及び該製造方法により得られたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを備えた液晶表示装置。例文帳に追加

A color filter manufactured by the method, and a liquid display device provided with the color filter, are provided. - 特許庁

液晶表示装置（ＬＣＤ）における偏光板用保護フィルムとして好適なセルロースエステルフィルムについて、セルロースエステルフィルム幅手方向の配向角分布が良好で、しかも支持体からの剥離の際、フィルムにいわゆる横段状故障（横段状の膜厚ムラ）を生じることなく、高品質であるうえに、安定な剥離性が実現可能であり、コスト的にも非常に有利である、安価なセルロースエステルフィルムを提供する。例文帳に追加

To prepare an inexpensive cellulose ester film suitable as a polarizing plate-protecting film in a liquid crystalline display device (LCD), which has a good alignment angle distribution in the width direction of the cellulose ester film, causes no so-called tiered film troubles (uneven thickness in tiers) of the film when peeled off from a support, has high qualities, realizes stable peelability and is very advantageous from a cost standpoint. - 特許庁