「研安」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

研削盤における安全カバー装置例文帳に追加

SAFETY COVER DEVICE IN GRINDING MACHINE - 特許庁

研磨能力に優れ、被研磨面に研磨傷を発生させず、かつ分散安定性が良好な、化学機械研磨用の研磨剤を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing agent for chemical machanical polishing that is superior in polishing capacity, generates no scratch on a surface to be polished and has superior dispersion stability. - 特許庁

所定の一定した研磨力により安定した研磨量を得ること。例文帳に追加

To obtain the stable degree of polishing by specified fixed polishing force. - 特許庁

光学素子や半導体などの研磨に用いられる研磨ポリシャにおいて、高精度研磨を安価に実施する。例文帳に追加

To inexpensively execute highly accurate polishing using a polisher used for polishing optical elements and semiconductors. - 特許庁

研磨パッドの研磨中の変形特性を一定の状態で維持し、安定してウエハを研磨する。例文帳に追加

To constantly keep the deformation characteristic of an abrasive pad in polishing to stably polish a wafer. - 特許庁

分散安定性と研磨能力に優れ、かつ研磨傷の発生せず、化学的機械研磨による精密研磨に適した研磨用砥粒、研磨用水性分散液、及び研磨剤を提供する。例文帳に追加

To provide abrasive grains for polishing, aqueous dispersion for polishing and an abrasive material, which are excellent in dispersion stability and polishing ability and suitable for fine polishing by chemical machine polishing without generating polishing scratches. - 特許庁

被研磨物表面を研磨し平坦化するときに、研磨による摩擦熱で研磨用パッドの温度が高くなった場合にも、研磨特性の変化を抑え安定した研磨を実施できる研磨用パッドを提供すること。例文帳に追加

To provide a polishing pad inhibiting the change of polishing characteristics and carrying out a stable polishing even when the temperature of the polishing pad is elevated by a frictional heat by the polishing when the surface of an article to be polished is polished and flattened. - 特許庁

研磨工具の弾性変形に起因する被研磨対象物の被研磨面の外周端部の過剰研磨を抑制することができ、かつ、研磨レートを安定化することができる研磨装置および研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing device and a polishing method, capable of restraining excessive polishing to the outer peripheral end of the surface to be polished of a polishing object caused by elastic deformation of a polishing tool and capable of stabilizing a polishing rate. - 特許庁

研磨速度、被研磨面のスクラッチおよび被研磨面の面内均一性に優れ、多数の被研磨体を連続研磨する場合でも安定した研磨速度を示す利点を有する化学機械研磨パッドを提供する。例文帳に追加

To provide a chemical mechanical polishing pad excellent in polishing speed, scratches of a surface to be polished, and in-plane uniformity of a surface to be polished, and exhibiting stabilized polishing speed even when continuously polishing a number of bodies to be polished. - 特許庁

安定した研磨速度で被研磨面を選択的に傷なく研磨することができ、高平坦化することが可能であるＣＭＰ研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a CMP polishing method for polishing a surface to be polished at a stable polishing speed selectively, without flaws, and for achieving high planarization. - 特許庁

ドレッシングを必要とせず研磨レートを高く安定して維持できる研磨パッド、及びこの研磨パッドを備えた研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing pad capable of stably maintain a polishing rate high without requiring dressing and a polishing device furnished with this polishing pad. - 特許庁

安定した研磨速度で被研磨面を選択的に研磨することができ、高平坦化することが可能であるＣＭＰ研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for CMP polishing, capable of selectively polishing a surface to be polished at a stably polishing speed and highly planarizing the surface. - 特許庁

半導体ウエハ等を研磨する研磨装置において、研削性ドレッサの占有面積を減らすと共に安定した研磨性能を得る。例文帳に追加

To reduce an occupied area of a grinding dresser and obtain a stable polishing performance in a polishing device for polishing a semiconductor wafer or the like. - 特許庁

研磨中の研磨対象物の被研磨面上の膜の状態を精度よく、かつ、安価に測定することができる研磨状態監視装置を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing state monitoring apparatus precisely and inexpensively measuring the state of a film adhering to the surface of an object under polishing. - 特許庁

研磨加工用の研磨パッドに用いられ、摩耗の度合を適正化し研磨性能の安定化を図ることができる研磨シートを提供する。例文帳に追加

To provide a polishing sheet used in a polishing pad for use in polishing, and capable of moderating a degree of abrasion and stabilizing polishing performance. - 特許庁

研磨ユニットは基板支持ユニットに安着された基板を研磨する研磨パッドと、研磨パッドを移動させるパッド駆動部材とを具備する。例文帳に追加

The polishing unit includes a polishing pad for polishing a substrate seated on a substrate supporting member, and a pad driving member for moving the polishing pad. - 特許庁

半導体ウエハ等を研磨する研磨装置において、研削性ドレッサの占有面積を減らすと共に安定した研磨性能を得る。例文帳に追加

To decrease a grinding dresser's occupying area and have a stable grinding ability of a grinder that grinds a semiconductor wafer or the like. - 特許庁

研磨面が摩耗しても常に新しい研磨面が創生され、安定した研磨性能が得られる研磨ホイールを提供する。例文帳に追加

To provided a polishing wheel which always creates a new polishing surface even when the polishing surface is worn, and realizes a stable polishing performance. - 特許庁

連続的に研磨を実施しても高い研磨速度が安定して得られる金属用研磨組成物及びそれを用いた研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing composition for metal by which a high polishing speed can be stably obtained even when polishing is continuously carried out, and to provide a polishing method using it. - 特許庁

磁気研磨法において、研磨量が多く、研磨精度が高く、製造コストが安価である磁気研磨用砥粒を提供する。例文帳に追加

To provide abrasive grains for magnetic polishing which effect a large amount of polishing and have high polishing precision and a low production cost in the magnetic polishing method. - 特許庁

被研磨物を全面に亘って均一に研磨することができると共に、研磨装置を安価に製作することができる研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing device capable of uniformly polishing a polished article all over its surface and to manufacture at low cost. - 特許庁

刃付け角度と研ぎ角度を一定に保って、包丁をみねに向かう方向でのみ研ぐことができる、安価で安全な、包丁研ぎ器を提供する。例文帳に追加

To provide an inexpensive and safe kitchen knife sharpener which sharpens a kitchen knife only in the direction toward a ridge, by keeping a blade applying angle and a sharpening angle constant. - 特許庁

微細な研磨粒子を用いた精密研磨用の研磨フィルムであって、研磨加工に際して被研磨物との間に研磨液が必要十分に保持され、バインダーの溶着や研削焼け等の不具合を発生させることなく優れた研磨性能が安定して得られる研磨フィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a abrasive film for precision polishing by use of fine abrasive particles capable of holding a required and sufficient amount of grinding liquid between a material to be ground and it when performing grinding machining and obtaining excellent abrasive performance stably without causing inconveniences such as deposition of binder and grinding burn. - 特許庁

研磨ヘッドに保持された被研磨材料の表面を研磨パッドに押圧して平坦化研磨を行う研磨装置において、被研磨材料の外周部の研磨量を安定させることが可能な研磨ヘッドの研磨リングを提供する。例文帳に追加

To provide a polishing ring of a polishing head capable of stabilizing the amount of polishing of an outer peripheral part of a material to be polished in a polishing device for flattening and polishing a surface of the material to be polished held on the polishing head by pressing the surface of the material to be polished against a polishing pad. - 特許庁

附属安全原子力システム研究センター例文帳に追加

Research Center for Safe Nuclear System, attached to the Institute  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

ウェーハ研磨装置におけるウェーハ回転安定化機構例文帳に追加

WAFER ROTATION STABILIZATION MECHANISM IN WAFER POLISHING DEVICE - 特許庁

分散安定性に優れている研磨スラリーの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING POLISHING SLURRY EXCELLENT IN DISTRIBUTION STABILITY - 特許庁

研磨ヘッドにおけるウェーハ回転安定化構造例文帳に追加

WAFER ROTATION STABILIZATION STRUCTURE IN POLISHING HEAD - 特許庁

金属含有酸性研磨浴の安定剤例文帳に追加

STABILIZER FOR METAL-CONTAINING ACIDIC POLISHING BATH - 特許庁

水に添加する金属素材を安定して研削すること。例文帳に追加

To stably grind a metal material to be added to water. - 特許庁

何人も容易に使用し得る安価な鋏研ぎ具を提供する。例文帳に追加

To provide an inexpensive scissors sharpener which anybody can use easily. - 特許庁

小型で安価な研削摩擦精穀装置を得る。例文帳に追加

To obtain a small-sized and inexpensive grinding and friction grain refining device. - 特許庁

ＡＰＥＣにおける食料安全保障政策に関する研究例文帳に追加

Study on Food Security policies in APEC - 経済産業省

安全評価技術の高度化に関する研究例文帳に追加

Study on advanced safety assessment technologies - 経済産業省

原子力施設の耐震安全性研究例文帳に追加

Seismic safety study of nuclear installations - 経済産業省

寸法安定性を良好に確保することにより安定的な研磨特性を発現しつつ、吸水率を高めることにより、研磨速度を向上し、研磨後の被研磨材でのディフェクト発生を低減した研磨パッドを提供すること。例文帳に追加

To provide a polishing pad which exhibits a stable polishing characteristic by securing good dimensional stability, and improves polishing speed and suppresses occurrence of defect caused by a polishing agent after polishing by increasing a water absorption rate. - 特許庁

１台の研磨機に平面研磨と側面研磨の２軸を設けて省スペース化を図り、また加工用ガラスを安定してしかも安全を図って側面研磨できるガラス加工用研磨機を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a polishing machine for glass work for reducing a space, and stably and safely polishing the side surface of glass to be worked by arranging two shafts of plane polishing and side surface polishing in one polishing machine. - 特許庁

薄い金属板状体を被研磨材として研磨加工を行う研磨装置において、同被研磨材の研磨を、正確かつ安定して行い、研磨加工の効率向上を図る様にしたものを提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a polishing device for accurately and stably polishing a polishing object material, and improving efficiency of polishing work in the polishing device for performing the polishing work with a thin metallic plate-like body as the polishing object material. - 特許庁

逆オスカー型の研磨装置において、上定盤の外部のカラーフィルタ上に研磨液を滴下させて研磨を行っても、研磨量の制御が容易で、安定した研磨のできる研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide a reverse oscar type polishing device capable of easily controlling a polishing amount, and performing stable polishing even if dropping a polishing liquid to a color filter outside an upper platen and polishing the color filter. - 特許庁

研磨対象物の表面に気体を噴射ノズルから噴射させて表面研磨を行う際に、研磨速度を一定に保ち研磨の安定性を保つことが可能な研磨装置、研磨方法、光学素子及び露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing device capable of keeping constant polishing speed to maintain stability of polishing in jetting gas to the surface of a polished object from a spray nozzle to polish the surface, and to provide a polishing method, an optical element and an exposure device. - 特許庁

研磨体の研磨面が消耗しても、研磨面が設定したワーク研磨位置に移動するように制御されて安定した研磨作業が行われる研磨装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a polishing apparatus that performs a stable polishing operation by controlling a polishing surface to be moved to a set workpiece polishing position even if the polishing surface of a polisher is worn. - 特許庁

安定した電気粘性効果および良好な保存安定性が維持される電気粘性流体（ＥＲ流体）を用いて、研磨能力の優れた研磨材、研磨工具、研磨装置、研磨材の製造方法、研磨工具の製造方法及び研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide an abrasive, a polishing tool, and a polishing device, which are excellent in polishing capability, as well as the manufacturing method for the abrasive, manufacturing method for the polishing tool, and polishing method using electroviscous fluid (ER fluid) characterized by stabilized electroviscous effects and excellent preservation stability. - 特許庁

柔軟性がありワークの被研磨面に弾力的に追随して該被研磨面を精度よく研磨・研削し、研磨時の切り屑や研磨熱を効率よく逃がして安定した研磨・研削を可能とし、さらには製造コストの低減を図り得る回転砥石及びその製造法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a rotary grinding wheel and a method of manufacturing it, for further reducing manufacturing costs, by enabling stable polishing-grinding by efficiently releasing cutting chips and polishing heat in polishing, by accurately polishing-grinding a polishing object surface by resiliently following the polishing object surface of a workpiece with flexibility. - 特許庁

被加工物の研磨面への研磨剤の均一で安定した供給を行うことができ、研磨剤の外部への飛散を減少でき、研磨熱量の発生を抑えることができ、被加工物の研磨面を均一且つ平坦に研磨できる研磨方法及び研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing method and device for uniformly and stably supplying abrasive to the polished surface of a workpiece, reducing the splash of the abrasive to outside, suppressing the occurrence of polishing heat quantity, and uniformly and flatly polishing the polished surface of the workpiece. - 特許庁

安定化過硫酸アンモニウム水溶液、化学機械研磨用組成物および化学機械研磨方法例文帳に追加

STABILIZED AMMONIUM PERSULFATE AQUEOUS SOLUTION, COMPOSITION FOR CHEMICAL MACHINERY POLISHING AND CHEMICAL MACHINERY POLISHING METHOD - 特許庁