例文 (999件) |
縁光の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 6389件
新規な感光性樹脂組成物、それから得られる感光性樹脂組成物溶液、感光性フィルム、絶縁膜及び絶縁膜付きプリント配線板例文帳に追加
NOVEL PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION SOLUTION OBTAINED THEREFROM, PHOTOSENSITIVE FILM, INSULATING FILM, AND PRINTED WIRING BOARD WITH INSULATING FILM - 特許庁
基板端縁部全体に均一かつ十分な光量の露光を行うことができる基板端縁露光装置を提供する。例文帳に追加
To provide a substrate edge aligner capable of exposing uniformly over the entire substrate edge with a sufficient light quantity. - 特許庁
CCD、CMOS等の固体撮像素子の有効画素領域(撮像部)の周縁に、絶縁性の遮光膜を形成するために用いられる絶縁性遮光膜形成用感放射線性組成物、絶縁性遮光膜の形成方法、絶縁性遮光膜及び固体撮像素子を提供する。例文帳に追加
To provide a radiation-sensitive composition for forming an insulative light-shielding film for use in forming the insulative light-shielding film around an effective pixel region (imaging area) of a solid-state imaging element such as a CCD and a CMOS, and also to provide a method of forming the insulative light-shielding film, the insulative light-shielding film, and the solid-state imaging element. - 特許庁
一端周縁が光入射面12の周縁に、他端周縁が光出射面13の周縁にそれぞれ連接され、且つ光入射面12と光出射面13とを光学的に結ぶ光学有効路15に沿ってテーパー面14を形成する。例文帳に追加
In the optical element, one edge peripheryis connected to the periphery of a light-incident surface 12 and another edge periphery respectively is connected to t the periphery of a light-emitting surface 13, and a tapered surface 14 is formed along an optical available path 15, optically connecting the light-incident surface 12 to the light-emitting surface 13. - 特許庁
絶縁層を形成するための感光性絶縁ペーストとして、光吸収剤の含有量が、感光性絶縁ペースト膜12の厚み方向の全領域を光硬化させるために必要な量以上の露光量が得られるように調整された感光性絶縁ペーストを用いる。例文帳に追加
As a photosensitive insulating paste for forming an insulating layer, it is configured to use a photosensitive insulating paste in which the content of an optical absorbing agent is adjusted so as to obtain an exposure amount which is more than or equal to an amount required for photocuring the whole area in a thickness direction of a photosensitive insulating paste film 12. - 特許庁
各遮光板40は、導光レンズ32の受光面31を超える高さの上端縁部を有する。例文帳に追加
Each light-shielding plate 40 has a top edge which in height exceeds a light-receiving surface 31 of the light guide lenses 32. - 特許庁
発光体の表面のみならず周縁も光る発光オーナメントを提供することを課題とする。例文帳に追加
To provide a luminescent ornament such that not only the surface, but also the peripheral edge of a luminous body illuminate. - 特許庁
作品には「星光寺縁起」のほか「清水寺縁起」、「北野天神縁起」など数多くの作品が残っている。例文帳に追加
Many pieces such as 'Seiko-ji Engi' (Legends of Seiko-ji Temple), 'Kiyomizu-dera Engi' (Legends of Kiyomizu-dera Temple), 'Kitano-tenjin Engi' (Legends of Kitano-tenjin Shrine) still exist today. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
半導体素子の層間絶縁膜用感光性樹脂組成物、それを用いた層間絶縁膜及び層間絶縁膜の製造方法例文帳に追加
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATION FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE, INTERLAYER INSULATION FILM USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING INTERLAYER INSULATION FILM - 特許庁
感光性ポリイミド樹脂組成物、それを用いた絶縁膜、絶縁膜の製造方法および絶縁膜を使用した電子部品例文帳に追加
PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE RESIN COMPOSITION, INSULATING FILM USING THE SAME, PROCESS FOR PRODUCING INSULATING FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE INSULATING FILM - 特許庁
ここで、感光性絶縁膜の下層に反射防止機能を有しそのまま層間絶縁膜として使用できる絶縁膜を形成する。例文帳に追加
An insulating film having a reflection prevention function on the lower layer of the photosensitive insulating film and used as an inter-layer insulating film as it stands is formed. - 特許庁
好ましくは、第1の絶縁層21及び第2の絶縁層23は、互いに異なる種類の感光性絶縁膜にされる。例文帳に追加
The first insulating layer 21 and the second insulating layer 23 are preferably formed of photosensitive insulating films of mutually different kinds. - 特許庁
低誘電率、高絶縁性で微細なスルホールを持つ絶縁層を形成可能にする感光性絶縁ペーストを提供を提供する。例文帳に追加
To provide a photosensitive insulating paste, having a low dielectric constant and high insulation, making it possible to form an insulating layer having fine through holes. - 特許庁
絶縁被覆体5を熱伝導率の高い第1の絶縁被覆体6と光透過性を有する第2の絶縁被覆体7とで構成する。例文帳に追加
An insulating coating body 5 is configured with a first insulating coating body 6 with a heat conductivity and a second insulating coating body 7 with an optical transparency. - 特許庁
投光部10は、露光用光源と接続されており、露光用光源より送られる光を基板Wの周縁部に照射する。例文帳に追加
The projector 10 is connected with a light source for exposing and projects the light supplied from the light source to the circumference of the substrate W. - 特許庁
本発明の細胞外マイクロ電極は、感光性絶縁材料からなる絶縁層20と、絶縁層20上に配置された1以上の金属層40と、金属層40の一部分を覆う感光性絶縁材料からなる絶縁層70と、絶縁層70の一部分を覆う感光性絶縁材料からなる絶縁層90とを有する。例文帳に追加
The extracellular micro electrode includes: an insulation layer 20 consisting of a photosensitive insulation material; 1 or more of metal layers 40 disposed on the insulation layer 20; an insulation layer 70 consisting of a photosensitive insulation material covering a part of the metal layer 40; and an insulation layer 90 consisting of the photosensitive insulation material covering a part of the insulation layer 70. - 特許庁
感光性の柔軟絶縁材料からなる第1絶縁層11と、感光性の柔軟絶縁材料からなる第2絶縁層12と、第1絶縁層11上に形成され、第2絶縁層12に覆われた複数の電極配線13とから構成される。例文帳に追加
The implantation type flexible nerve electrode is constituted by a first insulating layer 11 including a photosensitive flexible insulating material, a second insulating layer 12 including the photosensitive flexible insulating material and a plurality of the electrode wires 13 formed on the first insulating layer 11 and covered with the second insulating layer 12. - 特許庁
感光性の柔軟絶縁材料からなる第1絶縁層11と、感光性の柔軟絶縁材料からなる第2絶縁層12と、第1絶縁層11上に形成され、第2絶縁層12に覆われた複数の電極配線13とから構成される。例文帳に追加
The implantation type flexible nerve electrode is constituted by a first insulating layer 11 including a photosensitive flexible insulating material, a second insulating layer 12 including the photosensitive flexible insulating material, a second insulating layer 12 including the photosensitive flexible insulating material and a plurality of the electrode wires 13 formed on the first insulating layer 11 and covered with the second insulating layer 12. - 特許庁
遮光膜54は、額縁遮光膜53によって遮光しきれなかった入射光、及び当該遮光膜53及び額縁遮光膜54によってTFTアレイ基板1側に反射された反射光を額縁領域の外側で遮光できる。例文帳に追加
The light shielding film 54 can shield incident light which is not completely shielded by the frame light shielding film 53 and the light reflected to the TFT array substrate 1 side by the light shielding film 53 and the frame light shielding film 54 on the outside of the frame area. - 特許庁
遮光膜54は、額縁遮光膜53によって遮光しきれなかった入射光、及び当該遮光膜53及び額縁遮光膜54によってTFTアレイ基板1側に反射された反射光を額縁領域の外側で遮光できる。例文帳に追加
The light shielding film 54 can block incident light which cannot be completely blocked by the frame light shielding film 53 and reflection light reflected by the light shielding film 54 and the frame light shielding film 53 to a TFT array substrate 1 side on the outside of the frame area. - 特許庁
光ディスク装置100は、光源3からの光を集光部1によって集束させ、情報面で反射された光の周縁部分および非周縁部分を受光部4において受光する。例文帳に追加
The optical disk device 100 converges the light from a light source 3 by a beam-condensing section 1 and receives the edge portion or non-edge portion of the light reflected by the information surface in a photodetecting section 4. - 特許庁
絶縁性不透明の遮光樹脂部1と絶縁性透明もしくは半透明の光透過樹脂部2とで形成された一部遮光性を有する絶縁性フィルター部と同一面下に配置された前記絶縁性不透明の遮光樹脂部と非発光時は絶縁性透明もしくは半透明の光透過樹脂部との合成色が同系色となるEL発光素子3とで構成することによるEL発光スイッチ装置4。例文帳に追加
The EL luminescence switch equipment 4 is constituted of the above insulating opaque light shading resin part arranged under the same plane as the insulating filter part, which is made of the insulating opaque shading resin part 1 and the transparent or translucent optical penetrating resin part 2, and the EL light emitting element 3, of which the synthetic color with the transparent or translucent optical penetrating resin part turns into an affiliated color. - 特許庁
金属配線基板面上に形成する感光性絶縁膜であって、絶縁膜がシロキサン構造を有する有機無機感光性樹脂層と、有機感光性樹脂層との複数層を有することを特徴とする感光性絶縁膜。例文帳に追加
The photosensitive insulating film is formed on a surface of a metal wiring substrate, and is characterized by having a plurality of layers comprising an organic inorganic photosensitive resin layer whose insulating film has a siloxane structure and an organic photosensitive resin layer. - 特許庁
基板2の周縁部2a近傍の光透過層4に、光透過層の周縁部4aに沿って、光透過層の周縁部から延びる切り込み10a、10b、11が形成されたことを特徴とする光記録ディスク。例文帳に追加
This optical recording disk is characterized in that undercuts 10a, 10b and 11 extended from a fringe section of the light transmission layers are formed on the light transmission layers 4 near the fringe section 2a of a substrate 2 along with the peripheral section 4a of the light transmission layer. - 特許庁
光吸収層を形成し、光吸収層上に絶縁層を形成し、光吸収層及び絶縁層に選択的にレーザ光を照射し、絶縁層の照射領域を除去し絶縁層に開口を形成し、開口に光吸収層と接するように導電膜を形成する。例文帳に追加
A light absorbing layer is formed; an insulating layer is formed on the light absorbing layer; the light absorbing layer and the insulating layer are selectively irradiated with laser light to remove the irradiated region of the insulating layer to form an opening in the insulating layer; and a conductive film is formed in the opening so as to be in contact with the light absorbing layer. - 特許庁
絶縁膜11bを形成する際には、形成しようとする絶縁膜11bの形状に開口されたフォトマスクを用いて絶縁膜11bとなるネガ型の感光性絶縁材料を紫外線露光する。例文帳に追加
When the insulating film 11b is formed, an ultraviolet ray exposure is performed at a photosensitive insulating material of negative type set to the insulating film 11b using a photomask opened in the shape of the insulating film 11b which is going to be formed. - 特許庁
パターン形成後の加熱接着時の流動性に優れ、基板との密着性が良好な絶縁膜となる感光性絶縁樹脂組成物、さらに該感光性絶縁樹脂組成物から形成される絶縁膜を提供すること。例文帳に追加
To provide a photosensitive insulating resin composition which is superior in fluidity during thermal bonding after pattern formation and is formed into an insulating film having good adhesion to a substrate, and to provide an insulating film formed of the photosensitive insulating resin composition. - 特許庁
すなわち、受光部5の外縁部における絶縁膜23bの膜厚が、受光部5のその他の部分における絶縁膜23aの膜厚よりも薄い絶縁膜23を形成する。例文帳に追加
That means, the insulating film 23 is formed in which an insulating film 23b in the external edge of the light receiving part 5 has a film thickness thinner than the film thickness of an insulating film 23a in the other part of the light receiving part 5. - 特許庁
バンク層24は、その底面の周縁が遮光層22の周縁より内側に位置し、遮光層24は上面の露出面22aを有する。例文帳に追加
Then, the periphery of the base of the layer 24 is positioned more inside than the periphery of the layer 22, and the layer 24 has the exposed surface 22a of an upper surface. - 特許庁
透光性を有するベース基板上に、透光性を有する絶縁層と、絶縁層を介して固定された単結晶半導体層を形成する。例文帳に追加
On a base substrate having a light-transmitting property, a light-transmitting insulating layer and a single crystal semiconductor layer fixed via the insulating layer are formed. - 特許庁
有機電界発光素子は、基板11上に形成された陽極12、第1絶縁層14、有機物発光層15、第2絶縁層17、陰極19を有する。例文帳に追加
This organic electric field light-emitting element comprises an anode 12, first insulting layer 14, organic material light emitting layer 15, second insulating layer 17 and cathode 19 formed on a substrate 11. - 特許庁
また、絶縁膜による凹型の絶縁膜レンズにより斜め入射光をフォトダイオードに集光させるようにした。例文帳に追加
Further, the diagonal incident beams are focused on the photodiode by a recessed insulating film lens using an insulating film. - 特許庁
光学シート6の光源側の端縁6a上に支持フィルム9の端縁9aが重ね合わされ、支持されている。例文帳に追加
An end edge 9a of a support film 9 is superposed and supported on an end edge 6a at the light source side of the optical sheet 6. - 特許庁
感光性絶縁膜を露光、現像して形成された絶縁層を有する液晶表示パネルにおける周期的な外観むらを低減する。例文帳に追加
To reduce periodical appearance unevenness in a liquid crystal display panel having an insulating layer formed by exposing and developing a photosensitive insulating film. - 特許庁
絶縁基板、および、この絶縁基板を用いて白色系の発光出力を向上させた発光素子の提供。例文帳に追加
To provide an insulating substrate and a light emitting element having the improved light emitting output of while light by using the insulating substrate. - 特許庁
次いで、感光性絶縁材21を現像することによって、接続端子26に通ずるビア穴30を感光性絶縁材21に形成する。例文帳に追加
By developing the photosensitive insulating material 21, a via hole 30 passing to the connection terminal 26 is formed on the photosensitive insulating material 21. - 特許庁
第一光センサー素子3331の縁3331aと第二光センサー素子3332の縁3332aとはX方向に間隔D1ずれている。例文帳に追加
An edge 3331a of the first photosensor element 3331 is deviated by an interval D1 in the X direction from an edge 3332a of the second photosensor element 3332. - 特許庁
積層光学部材は、水晶板(12)の周縁部および光学板(13)の周縁部に接着剤(19)の溜まり部(J)を有する。例文帳に追加
The layered optical member has reservoir parts (J) of the adhesive 19 on the peripheral part of a quartz plate (12) and on the peripheral edge part of an optical plate (13). - 特許庁
光硬化性樹脂組成物、実装回路板用光硬化性防湿絶縁塗料、絶縁処理された電子部品及びその製造法例文帳に追加
PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, PHOTO-CURABLE MOISTURE-PROOF INSULATION COATING FOR PACKAGED CIRCUIT BOARD, INSULATED ELECTRONIC PART AND ITS MANUFACTURING PROCESS - 特許庁
第二光センサー素子3332の縁3332aと第三光センサー素子3333の縁3333aとは、X方向に間隔D2ずれている。例文帳に追加
An edge 3332a of the second photosensor element 3332 is deviated by an interval D2 in the X direction from an edge 3333a of the third photosensor element 3333. - 特許庁
光硬化性樹脂組成物、実装回路板用光硬化性防湿絶縁塗料および並びに絶縁処理された電子部品及びその製造法例文帳に追加
PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, PHOTOCURABLE MOIST-PROOF INSULATING PAINT FOR MOUNTED CIRCUIT BOARD, INSULATED ELECTRONIC COMPONENT AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
装置の大型化を抑えながら高い基板の処理能力を有する周縁露光装置及び周縁露光方法を提供すること例文帳に追加
To provide a periphery exposure device which is provided with a high processing capacity for a substrate while suppressing the enlargement of the device, and a periphery exposing method. - 特許庁
絶縁膜210は、透光性導電膜208上に配置され、透光性導電膜208の外縁を覆っている。例文帳に追加
The insulating film 210 is disposed on the light transmissible conductive film 208 and covers an outer edge of the light transmissible conductive film 208. - 特許庁
キャリア輸送層の外縁を囲むように発光層の外縁部を回り込ませることで発光層に欠陥が発生するのを防ぐ。例文帳に追加
Since the outer fringe portion of the light-emitting layer wraps around the outer fringe of the carrier transport layer so as to surround it, occurrence of defects of the light-emitting layer is prevented. - 特許庁
絶縁層(25)の端部は外部からの照明光(L)を絶縁層内に導入するための光入射端面(21)を有する。例文帳に追加
The insulating layer (25) has at its end part a light incidence end surface (21) for introducing external illumination light (L) in the insulating layer. - 特許庁
外縁光線12は、発光点Pから出射され、レンズ212を経て、コア領域180bの外縁部184に到達する。例文帳に追加
An outer edge beam 12 is emitted from the light emitting point P and reaches an outer edge portion 184 of a core region 180b via the lens 212. - 特許庁
フラッパ33aに沿って感光材料20aが移動し、ガイド部材34aに端縁が当たって各感光材料20aの端縁が揃えられる。例文帳に追加
Accordingly, the photosensitive materials 20a are moved along the flapper 33a and collided to the guide member 34a, whereby the edge of each photosensitive material 20a is neatly arranged. - 特許庁
本発明によると、各装置間の光的絶縁のために独立した光絶縁器を別途に使用する必要がない。例文帳に追加
According to this invention, there is no need to use an independent optical isolator for the purpose of optical insulation between the devices. - 特許庁
導光板5の出光面5Bは反射板4の周囲縁の少なくとも一部を取り囲む領域で露出した周縁部5Cを有する。例文帳に追加
The light emission surface 5B of the light guide plate 5 has a peripheral edge part 5C which is exposed in an area surrounding at least a portion of the peripheral edge of the reflecting plate 4. - 特許庁
可視光源2は、光線を光ガイド・プレート7の縁端に供給し、光線が光ガイド・プレート7両面間で進む。例文帳に追加
The visible light source 2 provides outside edge of the lightguide plate 7 with light ray, allowing the light ray to transparent between both sides of the lightguide plate 7. - 特許庁
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