CONFORMALを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 127件
As for the export for EU27, export from Chubu area (export share 59.7%) is more than that from Kanto area (30.9%), this structure is conformal with the order of the export share for whole world as in export for China.例文帳に追加
EU27 向けの輸出は、中部地域からの輸出(輸出シェア59.7%)が関東地域からの輸出(同30.9%)よりも多くなっており、中国向け輸出と同様に、全世界向け輸出シェアの順位と整合的である。 - 経済産業省
To provide Group 4 precursors which exhibit lower molecular weight, lower melting point (e.g., 100°C or below), and higher vapor pressure (e.g., 0.5 torr or greater) and deposition processes for fabricating conformal metal containing films on substrates.例文帳に追加
低分子量、低融点(100℃以下)、及び高蒸気圧(0.5torr以上)の性質を示す第4族前駆体、及び共形(コンフォーマル)な金属含有膜を基板上に製造するための堆積プロセスの提供。 - 特許庁
As a suitable execution example, the metal oxide layer 22 is oxidized aluminium, the nitride layer 31 is aluminium nitride, and the nitride layer 31 is stuck on a substrate and the metal structure 21 as a conformal layer.例文帳に追加
本発明の好適な実施例では、金属酸化物層22が酸化アルミニウムであり、窒化物層31が窒化アルミニウムであり、窒化物層31が基板及び金属構造21上に共形層として付着される。 - 特許庁
The lower electrode is formed by forming a first molded film on the substrate and a conductive film on the molded film in a conformal state, and polishing the conductive film through a chemical mechanical polishing step.例文帳に追加
シリンダ型の下部電極は半導体基板上に第1モールド膜を形成し、第1モールド膜上に導電膜をコンフォマルに形成した後に、導電膜を化学機械的研磨工程で研磨することによって形成する。 - 特許庁
After the pattern of a first conductor 3 is formed on a semiconductor substrate 1, a plasma radical oxidation is performed on the first conductor 3, a conformal oxide film 4 is formed, and the edge of the conductor is rounded at a low temperature.例文帳に追加
半導体基板1上に第一の導電体3のパターンの形成後、第一の導電体3にプラズマ・ラジカル酸化を施し、低温にて、コンフォーマルな酸化膜4を形成して導電体の縁部を丸める。 - 特許庁
To provide a non-tacky aqueous conformal coating which forms a film that is solvent-free and has an excellent flexibility, adhesivity and moisture resistance, insulative properties and low Young's modulus at a room temperature without using a film-forming aid.例文帳に追加
造膜助剤を使用せずに室温で造膜することができ、溶剤を含まず、柔軟性、低ヤング率、良好な付着性、防湿性および絶縁性を有する皮膜を形成する非粘着性水系コーティング材を提供する。 - 特許庁
To provide a technology which improves the method of manufacturing a multilayer printed wiring board by the conformal mask method using copper foils with resin and enables alignment of inner layer patterns with a film for laser masks at a high accuracy and simplification of the manufacturing process.例文帳に追加
樹脂付き銅箔を用いたコンフォーマルマスク法による多層プリント配線板の製造方法を改善し、内層パターンとレーザマスク用フィルムとの位置合わせが高精度で行え、製造工程も簡略化できる技術を提供する。 - 特許庁
The drug delivery conformal film consists of one of three in vivo biocompatible; biodegradable, bio-erodable or bioabsorbable embodiments: (1) cross-linked sodium alginate, (2) UV photo-active polymer, or, (3) hydrogels.例文帳に追加
当該薬物送達共形フィルムは、インビボで生体適合性で;生分解性、生体侵食性若しくは生体吸収性の形態;(1)架橋されたアルギン酸ナトリウム、(2)UV光活性ポリマー、(3)ヒドロゲルの三つのうちの一つからなる。 - 特許庁
Aspects of the present invention include an implantable structure, e.g., an integrated circuit (IC) device, an IPG, etc., having a conformal, void free sealing layer present on at least a portion of an outer surface thereof to hermetically seal the structure from corrosive environments.例文帳に追加
本発明の側面は、埋込み型構造、例えば集積回路(IC)装置、IPG等を含み、その外面上の少なくとも一部に存在して構造を腐食性環境から密閉する、共形で空洞のない密閉層を有する。 - 特許庁
A material composed of two layers of an insulating base material 2 and adhesive polyimide 3 which differ in etching resistance is used as the insulating base material, and the hole 6 for conduction is formed by resin etching using a conductor layer on a higher etching-resistance side as a conformal mask.例文帳に追加
絶縁べ−ス材としてエッチング耐性が異なる絶縁べ−ス材2と接着性ポリイミド3との2層からなる材料を用い、エッチング耐性の高い側の導体層1をコンフォ−マルマスクとして樹脂エッチングして導通用孔6を形成する。 - 特許庁
In this detector, a 2nd infrared absorbing section (an overhang section 12) projects from surface of the conformal coating 8 and extends towards outside the infrared receiver 5 from either the edge of the infrared receiver 5 or inside the electrode section 13 to cover the electrode section 13, the supporting section 6 and the contact pad.例文帳に追加
絶縁保護膜8の表面から第2の赤外線吸収部(庇部12)が突出し、赤外線受光部5の縁部または電極部13の内側から赤外線受光部5の外側に向けて延び、電極部13、支持部6、コンタクトパッドを覆っている。 - 特許庁
The applicator (10) includes: a body assembly (12) with a liquid flow passage (40) having an inlet (16) for the liquid conformal coating material, a liquid outlet (44), a valve seat (62), and a valve actuating mechanism (80); a valve stem (70) for reciprocating movement between an open position and a closed position; and a resilient dampening element (180).例文帳に追加
アプリケータ(10)は液体コンフォーマルコーティング材料の入口(16)を備えた液体流路(40)、液体出口(44)、弁座(62)及び弁作動機構体(80)を含む本体組立体(12)と、開放位置と閉鎖位置との間で往復動する弁棒(70)と、弾性減衰要素(180 )を有する。 - 特許庁
As for the export for China, the export from Chubu area (export share 56.7%) is considerably more than export from the Kanto area (27.4%), and this is conformal with the share according to the area of the export for whole world; that is the export from the Chubu area is more.例文帳に追加
次に中国向けの輸出は、中部地域からの輸出(輸出シェア56.7%)が関東地域からの輸出(同27.4%)よりも大幅に多くなっており、全世界向け輸出の地域別シェアと整合的であり、より中部地域からの輸出が多い構造になっている。 - 経済産業省
By repeatedly performing the process for a plurality of times (S_9), CVD reaction occurs between the former gas adsorbed on the surface of the substrate and the other gas introduced later, thus a barrier film grows inside a contact hole in a conformal way, and the barrier film having a satisfactory step coverage can be obtained.例文帳に追加
この工程を複数回繰り返して行うと(S_9)、基板表面に吸着された一方のガスと、後から導入された他方のガスとの間でCVD反応が生じるので、コンタクトホール内にバリア膜がコンフォーマルに成長し、ステップカバレージのよいバリア膜を得ることができる。 - 特許庁
The manufacturing method and the manufacturing apparatus of a semiconductor device are provided, wherein for forming a silicon oxide film uniform and conformal at a low processing temperature of ≤500°C triethoxysilane and active oxygen such as ozone are alternately supplied into a processing chamber to form the silicon oxide film on the substrate.例文帳に追加
500℃以下の低温の処理温度で均質かつコンフォーマルなシリコン酸化膜を形成するために、トリエトキシシランと、オゾンなどの活性な酸素を交互に処理室に供給して、基板にシリコン酸化膜を成膜する半導体装置の製造方法と製造装置を提供する。 - 特許庁
The anti-icing system 60 for the aircraft engine nacelle includes at least one heating element 62 with a cross-sectional shape conformal with a cross-sectional shape of an inlet lip 56, and carbon nanotubes are oriented and arranged here to conduct a current to the heating element 62.例文帳に追加
航空機エンジンナセル用の氷結防止システム60は、入口リップ56の断面形状に共形の断面形状を有する少なくとも1つの加熱素子62を含み、ここにはカーボンナノチューブが加熱素子62に電流を導通させるように配向及び配列される。 - 特許庁
This conformal array antenna comprises a planar array antenna having multiple element antennas configured in a plane, a dielectric substrate having an arbitrary three-dimensional curved surface located facing the planar array antenna, and a spacer of uneven thickness touching the planar array antenna and the dielectric substrate.例文帳に追加
平面状に構成された複数の素子アンテナを有する平面アレーアンテナと、上記平面アレーアンテナに対向して位置する任意の3次元曲面を有する誘電体基板と、上記平面アレーアンテナと上記誘電体基板に接し、厚みが不均一なスペーサを有するように構成した。 - 特許庁
By repeatedly performing the process for a plurality of times (S_9), CVD (Chemical Vapor Deposition) reaction occurs between the former gas adsorbed on the surface of the substrate and the other gas introduced later, thus a barrier film grows inside a contact hole in a conformal way, and the barrier film having a satisfactory step coverage can be obtained.例文帳に追加
この工程を複数回繰り返して行うと(S_9)、基板表面に吸着された一方のガスと、後から導入された他方のガスとの間でCVD反応が生じるので、コンタクトホール内にバリア膜がコンフォーマルに成長し、ステップカバレージのよいバリア膜を得ることができる。 - 特許庁
This embodiment comprises a silicon substrate 2, a silicon dioxide layer 3, a monocrystal silicon layer 4, a silicon dioxide layer 5, a spacer 13 of N+ doped polysilicon, a conformal layer 15 of a conductive diffusion preventing substance, a metal silicide layer 16, a CVD silicon dioxide layer 17, an insulator spacer 18, a silicon oxide layer 19, and a polysilicon 21.例文帳に追加
シリコン基板2、二酸化シリコン層3、単結晶シリコン層4、二酸化シリコン層5、N+ドープ・ポリシリコンのスペーサ13、導電性拡散防止物質のコンフォーマル層15、金属シリサイド層16、CVD二酸化シリコン層17、絶縁体スペーサ18、酸化シリコン層19、ポリシリコン21を備える。 - 特許庁
A method for manufacturing an inkjet printhead includes a process for: forming an aperture plate by disposing a silicon layer on the aperture plate; using photolithography to create a textured pattern on an outer surface of the silicon layer; and chemically modifying the textured surface by disposing a conformal oil repellent coating on the textured surface.例文帳に追加
アパチャプレート上にシリコン層を配置することでアパチャプレートを形成する工程と、写真平版術を用いてシリコン層の外面にテクスチャード加工パターンを作成する工程と、テクスチャード加工面に共形の撥油性被覆を配置することでテクスチャード加工面を化学的に改質する工程とを含む。 - 特許庁
In another method of forming the self-support portion of the carbon nanotube, a pair of metal electrodes 24, 26 are disposed on a first substrate portion, then part of the first substrate portion adjacent to the metal electrodes is removed, and a second substrate portion is disposed on the first substrate portion in a conformal shape to form a groove.例文帳に追加
カーボンナノチューブの自立形部分を形成する別の記載した方法は、第1の基板部分上に一対の金属電極24,26を配置し、金属電極に隣接した第1の基板部分の一部分を除去し、かつ第1の基板部分上に第2の基板部分を共形状に配置して溝を形成することである。 - 特許庁
A manufacturing method of a conductive electrode structure according to an embodiment of the present invention comprises: forming a conductive pattern 140 with a shape projecting toward outside by applying a conductive paste on a substrate 110 and heating the conductive paste; and forming a solder film 154 covering the conductive pattern 140 in a conformal manner.例文帳に追加
本発明の実施形態による導電性電極構造物の製造方法は、基板110上に導電性ペーストを塗布し、該導電性ペーストを熱処理して外部に向かって凸な形状を有する導電性パターン140を形成し、該導電性パターン140をコンフォーマルに覆うソルダ膜154を形成する。 - 特許庁
To provide a film forming method which converts a deposited metal by CVD to a conformal and flat form film with a good followability to a substrate surface, by intermediate heat treatment during a deposition process of the metal, or by post-heat treatment after the end of the deposition process to cause a reflowing phenomenon to the deposited metal, and to provide a chemical vapor deposition apparatus.例文帳に追加
CVDによる金属堆積物を堆積工程実行中に中間熱処理するか、又は堆積工程終了後に後熱処理することによって堆積金属にリフロー現象を起こし、基材表面に対する追随性が良いコンフォーマルで平坦な膜状に改善できる成膜方法及び化学気相蒸着装置を提供すること。 - 特許庁
To provide an effective method for depositing inert polymers and pharmaceutical or biological agents onto a substrate, where the collection process is efficient, the coating produced is conformal, substantially defect-free and uniform, the composition of the coating can be regulated and the morphology and/or secondary structure of the pharmaceutical or biological agents can be controlled.例文帳に追加
不活性ポリマーと医薬又は生物学的製剤とを基材に付着させるための効率の良い方法であって、捕集プロセスは効率的であり、生じるコーティングは表面に沿い(conformal)、実質的に欠点がなく均一であり、コーティングの組成は規制することができ、医薬又は生物学的製剤のモルホロジー及び/又は2次構造は制御可能な方法の提供。 - 特許庁
The non-tacky aqueous conformal coating comprises a resin in which a flexible acrylic resin having a glass transition temperature of ≤0°C constitutes the main skeleton, a vinyl-based polymer having a glass transition temperature of ≥20°C is grafted to the flexible acrylic resin and the content of the vinyl-based polymer in the flexible acrylic resin is 10-70 wt.%.例文帳に追加
ガラス転位温度が0℃以下の柔軟性アクリル樹脂を主骨格とし、ガラス転位温度が20℃以上であるビニル系重合体が、前記柔軟性アクリル樹脂にグラフト化しており、前記ビニル系重合体の含有量が、前記柔軟性アクリル樹脂に対して10〜70重量%である樹脂からなる非粘着性水系コンフォーマルコーティング材。 - 特許庁
To provide a device and a process for performing high temporal- and spatial-resolution MR imaging of the anatomy of a patient during intensity modulated radiation therapy (IMRT) to directly measure and control the highly conformal ionizing radiation dose delivered to the patient for the treatment of diseases caused by proliferative tissue disorders.例文帳に追加
増殖性の組織異常によって引き起こされる疾病の治療において、患者へと投与される高度に原体照射的な電離放射線の線量を直接測定して制御するため、強度変調放射線治療(IMRT)の最中に患者の体構造について、高い時間および空間分解能でのMR画像化を実行するための装置およびプロセスを提供すること。 - 特許庁
The photovoltaic device is constituted by (a) a plurality of elongated semiconductor nanostructures (nanowire is one of these), having first type doping, in which a plurality of the elongated semiconductor nanostructures are arranged on a substrate, and (b) a single amorphous layer of a semiconductor material, having second type doping, in which the layer is provided on the elongated semiconductor nanostructures in a conformal manner.例文帳に追加
光起電力デバイスを、(a)基板上に配設された複数の細長い半導体ナノ構造であって、第1のタイプのドーピングを有する複数の細長い半導体ナノ構造(ナノワイヤーはその1種である)と、b)細長い半導体ナノ構造上にコンフォーマルに設けられ、第2のタイプのドーピングを有する半導体材料の単一の非晶質層、により構成する。 - 特許庁
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