「DL-BASE」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In the radio communication device, a radio communication terminal 300 detects the number of transmission repetition times of DL-MAP repeatedly transmitted by radio base stations 200A, 200B.例文帳に追加

無線通信端末３００は、無線基地局２００Ａ，２００Ｂによって繰り返し送信されたＤＬ−ＭＡＰの送信繰り返し回数を検出する。 - 特許庁

Then, the second resin layer 12 and the base substrate 1 are cut along a prescribed dicing line DL and divided into the respective semiconductor devices 20 in a chip shape.例文帳に追加

次に、所定のダイシングラインＤＬに沿って第２の樹脂層１２及びベース基板１を切断し、チップ状の個々の半導体装置２０に分割する。 - 特許庁

An output end of a control circuit CTR is connected to a base of the switch Q1 via a delay circuit DL, and a base of an auxiliary switch Q2 is connected to an output end of the control circuit CTR.例文帳に追加

スイッチＱ１のベースには、遅延回路ＤＬを介して制御回路ＣＴＲの出力端が接続されるとともに、この制御回路ＣＴＲの出力端には、補助スイッチＱ２のベースが接続される。 - 特許庁

The base station 1 and the mobile station 2 stop one or both of the transmission and reception of DPCH(DL/UL) while continuing the setting of a physical channel in a suspend state.例文帳に追加

基地局１及び移動局２はサスペンド状態において、物理チャネルの設定を継続しながら、ＤＰＣＨ（ＤＬ／ＵＬ）の送受信の一方または両方を停止する。 - 特許庁

To enable a radio base station eNB to determine a DL CC whose path loss is used in calculation of the reported power headroom.例文帳に追加

無線基地局ｅＮＢにおいて、受信したＰｏｗｅｒ ｈｅａｄｒｏｏｍが、どのＤＬ ＣＣにおけるパスロスに基づいて算出されたものであるかについて判断する。 - 特許庁

Immediately before transmitting a packet signal, the packet transmitting base station(BS) 1 increases a target SIR of an UL DPCH (S12), increases the transmission power of TPC which performs transmission by a DL DPCH (S13), increases the reference power of power balancing and increases the transmission power of the DL DPCH (S14).例文帳に追加

パケット信号送信直前に、パケット送信基地局ＢＳ１は、ＵＬ ＤＰＣＨの目標ＳＩＲを上げ（Ｓ１２）、ＤＬ ＤＰＣＨで送信するＴＰＣの送信電力を上げ（Ｓ１３）、パワーバランシングの基準電力を上げると共にＤＬ ＤＰＣＨの送信電力を上げる（Ｓ１４）。 - 特許庁

To provide a base radio station, etc., in which a transmission quality characteristic does not deteriorate even when there is a time difference between a point time for performing channel estimation for time slots UL#1 to UL#N for an up-link and a point time for transmitting transmission data through time slots DL#1 to DL#N for a down-link.例文帳に追加

上りリンク用タイムスロットＵＬ＃１乃至ＵＬ＃Ｎに対するチャネル推定を行う時点と、下りリンク用タイムスロットＤＬ＃１乃至ＤＬ＃Ｎを介して送信データを送信する時点との間で時間差がある場合であっても、伝送品質特性の劣化しない無線基地局等を提供する。 - 特許庁

The fitting seat comprises a base part 41a having a shape extending in one direction, and fitted to the front cowl, and a supporting part provided on the base part 41a to support a base part of the mirror stay so that the extending direction Dp of a turnable shaft of the mirror stay is diagonal with respect to the longitudinal direction DL of the base part.例文帳に追加

そして、前記取付座は、一方向に延伸する形状を有し、前記フロントカウルに取り付けられる基台部４１ａと、前記基台部４１ａ上に設けられ、前記基台部の長手方向ＤＬに対して前記ミラーステーの回動軸の延伸方向Ｄｐが斜めになるよう前記ミラーステーの基部を支持する支持部とを備える。 - 特許庁

The base station 110 determines whether or not discontinuous transmission (DTX) of a UL CCTrCH that controls the power of a DL CCTrCH is employed, and/or the WTRU 115 determines whether or not DTX of the DL CCTrCH that controls the power of the UL CCTrCH is employed.例文帳に追加

基地局１１０は、ＤＬ ＣＣＴｒＣＨの電力を制御するＵＬ ＣＣＴｒＣＨにおける不連続送信（ＤＴＸ）が利用されているかどうかを判定し、かつ／またはＷＴＲＵ１１５は、ＵＬ ＣＣＴｒＣＨの電力を制御するＤＬ ＣＣＴｒＣＨにおけるＤＴＸが利用されているかどうかを判定する。 - 特許庁

This method for controlling the power of signals makes a base station 110 transmit the signals to a wireless transmit/receive unit (WTRU) 115 via at least one DL CCTrCH, and/or the WTRU 115 transmit the signals to the base station 110 via at least one UL CCTrCH.例文帳に追加

基地局１１０が少なくとも１つのＤＬ ＣＣＴｒＣＨを介して信号を無線送受信ユニット（ＷＴＲＵ）１１５に送信し、かつ／またはＷＴＲＵ１１５が、少なくとも１つのＵＬ ＣＣＴｒＣＨを介して信号を基地局１１０に送信する。 - 特許庁

In addition, At a lower side of the lower flat plate section 14 is installed a base section 20 forming second supporting spaces S2a, S2b where forks FLa can be inserted from a second direction DS which is substantially perpendicular to a first direction DL.例文帳に追加

また、下平板部１４の下部には、上記第１方向ＤＬとほぼ直角の第２方向ＤＳからフォークＦＬａを挿入可能である第２支持スペースＳ２ａ，Ｓ２ｂを形成するベース部２０が装着されている。 - 特許庁

The polyolefin composition comprises (a) from 10 to 100 parts by weight of ultrahigh molecular weight polyolefin having limiting viscosity of from 10 to 40 dl/g measured in a decalin solvent at 135°C, and (b) 100 parts by weight of at least one member of a polyolefin-base synthetic rubber.例文帳に追加

135℃デカリン溶媒中で測定した極限粘度が10〜40dl/gである超高分子量ポリオレフィン１０〜１００重量部（ａ）と、少なくとも一種類のポリオレフィン系合成ゴム１００重量部（ｂ）からなるポリオレフィン組成物。 - 特許庁

The hinge part 34 of the base material 5 of the air bag door 35 is formed as a first hinge part, and a second hinge part 40 apart a specified distance dl from and extending parallel with the first hinge part 34 is formed on the air bag swelling port 36 inner side of the first hinge part.例文帳に追加

エアバッグドア３５の基材５におけるヒンジ部３４を第１ヒンジ部とし、これよりもエアバッグ膨出口３６内側に第１ヒンジ部３４と所定間隔ｄ１をあけかつ平行に延びる第２ヒンジ部４０を形成する。 - 特許庁

(2) The plural number of the bars of material are arranged in parallel in the progressing direction of the palette in the piled layer of the raw material in the DL-type sintering machine, wherein a longitudinal cross section in the palette width direction of the bar of material has a widen shape toward the base of the palette.例文帳に追加

（２）原料堆積層内のパレット進行方向に棒状体を複数並列させたＤＬ式焼結機において、前記棒状体のパレット幅方向縦断面がパレットの底面に向かって末広がりの形状である。 - 特許庁

In this composite porous membrane having membrane thickness of 5-100 μm, a porous membrane consisting a polyimide resin having glass transition temperature over 70°C and logarithmic viscosity over 0.5 dl/g is laminated on a porous base material of polyolefin etc. in a geometrical pattern.例文帳に追加

ガラス転移温度が７０℃以上、対数粘度が０．５ｄｌ／ｇ以上であるポリイミド系樹脂からなる多孔質膜をポリオレフィン系などの多孔質基材上に幾何学模様状に積層した膜厚が５〜１００μｍの複合多孔質膜に関する。 - 特許庁

To reduce the retransmission of downlink information through DL-SCH by reducing a probability that a mobile station UE may be transited to an "out-of-synchronization state" on contrary to the intention of a wireless base station eNB, and to prevent wireless resources in the downlink from being wasted.例文帳に追加

無線基地局ｅＮＢの意図に反して、移動局ＵＥが「同期外れ状態」に遷移する確率を削減することによって、ＤＬ-ＳＣＨを介する下りリンク情報の再送を削減し、下りリンクにおける無線リソースが無駄に使用されてしまうという事態を防ぐ。 - 特許庁

In this way, since the etching process is performed in a condition where the cover rinse part CL is provided to the substrate-end surface side of the hardly soluble layer UL and the exposed base layer DL is protected, only the hardly soluble layer UL formed at the surface edge part TR of the substrate W is selectively etch-removed.例文帳に追加

このように難溶性層ＵＬの基板端面側にカバーリンス部ＣＬを設けて露出した下地層ＤＬを保護した状態でエッチング処理を行っているため、基板Ｗの表面周縁部ＴＲに形成された難溶性層ＵＬのみを選択的にエッチング除去することができる。 - 特許庁