「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a shelf apparatus capable of processing an electric cord of an electrical appliance without exposing it frontward.例文帳に追加

電気機器の電気コードを前面に露出させずに処理することができる棚装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an exposing unit with a high emitted light utilization efficiency, little optical crosstalk and high resolution.例文帳に追加

発光光の利用効率が高く、光学的クロストークが少なく、且つ高解像度の露光装置を提供する。 - 特許庁

The controller of the substrate position moves the substrate relative to the projection stem via a plurality of exposing positions sequentially.例文帳に追加

基板位置コントローラは、投影系に対して基板を移動させて複数の露光位置を順番に経由させる。 - 特許庁

The line head 70 is provided with a plurality of light emitting element trains La-Ld capable of exposing all region of an image region.例文帳に追加

ラインヘッド７０には、画像領域の全域を露光可能な複数列の発光素子列Ｌａ〜Ｌｄを設ける。 - 特許庁

Then excessive polycrystalline silicon 9 deposited on the SiO2 film is etched back for exposing the SiO2 film 6.例文帳に追加

次に、ＳｉＯ_2膜６の上に堆積した余分な多結晶シリコン９をエッチバックして、ＳｉＯ_2膜６を露出させる。 - 特許庁

The first to fourth outside exposing electrode parts 61A-64A are disposed on the bottom surface 51B of the bottomed cylindrical part 51.例文帳に追加

有底筒部５１の底面５１Ｂには、第１〜第４の外部露出電極部６１Ａ〜６４Ａを配置する。 - 特許庁

A wheel cap body 5 is integrally formed in a state of exposing a surface of a decorative sheet 6 to the surface side.例文帳に追加

ホイールキャップの本体５に、その表面画に加飾シート６の表面を露出した状態で一体形成する。 - 特許庁

Openings for exposing the backside between lands are provided in a second solder resist on the backside of the board core member.例文帳に追加

上記基板コア材の裏面の第２ソルダーレジストにランドとランドの間に裏面を露出させる開口を設ける。 - 特許庁

To dispose a driving mechanism used for automatically peeling a sealing member, in a small space without exposing it outside.例文帳に追加

シール部材を自動的にはがす駆動機構を小さなスペースで且つ外部に露出させることなく配置する。 - 特許庁

In the method of fabricating the CIGS solar cell, a buffer layer exposing many protrusions is formed.例文帳に追加

本発明によるＣＩＧＳ太陽電池の製造方法は、多数の突起が露出されるバッファー層を形成する。 - 特許庁

Further, the three-dimensional analysis can be performed on a sample likely to be changed in the atmosphere without exposing the sample to the atmosphere.例文帳に追加

また、大気中で変化し易い試料を、大気に曝すことなく三次元解析することも可能となる。 - 特許庁

To provide a pair of gloves preventing snow from going into from the wrist part of the gloves, and free from exposing the skin.例文帳に追加

雪が手袋の手首部分より進入するのを防ぎ肌が出ないことを目的とする手袋を提供する。 - 特許庁

Therefore, space between the mask M and the work W is made constant, and the variance of exposing accuracy can be reduced.例文帳に追加

このため、マスクＭとワークＷとの間隔が一定になり、露光精度のばらつきを少なくすることができる。 - 特許庁

The semiconductor substrate is heated to a temperature range of ≥ 150°C and < 250°C without exposing the hole to atmosphere.例文帳に追加

この孔を大気に晒すことなく、半導体基板を１５０℃以上２５０℃未満の範囲の温度に加熱する。 - 特許庁

A plurality of light emitting elements 20 are arranged on a wiring substrate 50 for exposing a thyristor film 10 at a position adjacent thereto.例文帳に追加

配線基板５０の上に発光素子２０を複数配列し、サイリスフィルム１０に近接して露光を行う。 - 特許庁

To enlarge a lifting frame without interfering with a bending piece of an aperture exposing the lifting frame by a loading slider.例文帳に追加

ローディングスライダが昇降フレームを露呈する開口の折曲片に干渉せずに昇降フレームを大きくする。 - 特許庁

The container is provided with openings 70a, 70b, 72a, 72b for exposing the chemical impregnation body 1 to the outside of the container.例文帳に追加

容器には、薬剤含浸体１を容器の外部に露出させるための開口部７０ａ，７０ｂ，７２ａ，７２ｂが設けられている。 - 特許庁

This constitution exposes the pattern 21 of the decorative panel 19 through the pattern exposing opening 5b of the door body 18.例文帳に追加

これにより扉本体１８の模様露呈開口５ｂから装飾パネル１９の模様２１が露呈される。 - 特許庁

POLARIZATION BEAM SPLITTER, OPTICAL SEPARATOR, EXPOSING DEVICE, LASER SYSTEM, MASK INSPECTING INSTRUMENT, AND PROCESSING SYSTEM OF MACROMOLECULE CRYSTAL例文帳に追加

偏光ビームスプリッタ、光分離装置、露光装置、レーザ装置、マスク検査装置、及び高分子結晶の加工装置 - 特許庁

To provide a method of patterning a member in a substrate layer by exposing a photoresist layer more than twice.例文帳に追加

２回以上フォトレジスト層を露光することによって、基板層における部材をパターニングする方法を提供する。 - 特許庁

Preferably, a protective cloth piece covering teeth 82 is provided inwardly along the teeth for not exposing the teeth.例文帳に追加

内側に務歯８２が露出しないように務歯に沿って務歯を覆う保護布片を設けるのが好ましい。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of accurately carrying out exposing processing and measuring processing based on an immersion method.例文帳に追加

液浸法に基づく露光処理及び計測処理を精度良く行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

A chuck moves between an exposure position for exposing substrates 1a, 1b and a transfer position for transferring the substrate.例文帳に追加

チャックは、基板１ａ，１ｂの露光を行う露光位置と、基板の受け渡しを行う受け渡し位置とを移動する。 - 特許庁

The exposing equipment includes a fluorescent dot array head, having three-primary color light-emitting units UR, UB and UG.例文帳に追加

三原色の各発光ユニットＵＲ・ＵＢ・ＵＧを有する蛍光型のドットアレイヘッドを備えた露光装置である。 - 特許庁

After adhered fine particles or the like are removed by the reticle cleaning device 132, the reticle is disposed in a position for exposing.例文帳に追加

そして、レチクル洗浄装置１３２で付着微粒子等を除去された後、露光時の位置に配置される。 - 特許庁

MARK DETECTING METHOD AND APPARATUS, POSITION CONTROLLING METHOD AND APPARATUS, EXPOSING METHOD AND APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マーク検出方法及び装置、位置制御方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

Each of central electrodes 21-23 is formed by applying, exposing and burning photosensitive conductive paste.例文帳に追加

中心電極２１〜２３は、感光性導電ペースト材を塗布、露光、焼成することによって形成されている。 - 特許庁

Thereafter, the light receiving openings exposing light receiving areas are formed by removing the sacrificial layer patterns 6.例文帳に追加

その後、犠牲層パターン６を除去することにより受光領域を露出させた受光開口を形成する。 - 特許庁

REFLECTIVE MASK FOR EXPOSURE AND METHOD OF PRODUCTION, EXPOSING APPARATUS AND METHOD FOR FABRICATING DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光用反射型マスクとその製造方法、並びに露光装置とデバイス製造方法、並びに半導体デバイス - 特許庁

To provide a trunk tag not exposing easily a personal information description surface, to thereby be able to protect personal information.例文帳に追加

個人情報記載面が簡単に露出せず、個人情報の保護が可能なトランクタグを提供することにある。 - 特許庁

The pad aperture is larger than the bottom aperture exposing the source/drain area and positioned on the bottom aperture.例文帳に追加

パッド開口は、ソース／ドレイン領域を露出している底部開口より大きく且つ底部開口の上に配置される。 - 特許庁

An adhesive pattern is formed on the conductor pattern by exposing and developing the adhesive layer precursor.例文帳に追加

接着剤層前駆体を露光および現像することにより、導体パターン上に接着剤パターンを形成する。 - 特許庁

An undercoat 11 and a semiconductor film 12 are formed on a quartz substrate 10 successively without exposing then the air.例文帳に追加

石英基板１０上に下地膜１１と半導体膜１２を大気解放しないで連続成膜する。 - 特許庁

To provide a frame body structure for an electric stove not exposing a fixing structure such as a fixing screw in a frame body surface.例文帳に追加

枠体表面に固定ねじなどの固定構造が露出しない電気ストーブの枠体構造に関する。 - 特許庁

To provide a substrate treating device that can appropriately perform a half-exposing process and a chemical dissolving and reflowing process.例文帳に追加

ハーフ露光プロセス、薬液溶解リフロープロセスを好適に行うことが可能な基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a proximity exposure device capable of proximity-exposing various substrates differing in size with high precision.例文帳に追加

大きさの異なる種々の基板を高精度に近接露光することのできる近接露光装置を提供する。 - 特許庁

Impurities generated by exposing the surface to the oxygen plasma for cleaning are discharged.例文帳に追加

被形成面の表面を清浄にするために、酸素プラズマに曝すことにより生じた不純物を排出する。 - 特許庁

A liquid crystal cell 27 is held inside a bezel 25 while exposing the liquid crystal cell 27 from a display window 26.例文帳に追加

表示窓２６から液晶セル２７を露出しつつベゼル２５の内側に液晶セル２７を収容する。 - 特許庁

EXPOSING METHOD IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

荷電粒子線露光装置における露光方法、半導体デバイスの製造方法及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁

To form a groove or a pit by eliminating the discentering of a grooved resist master disk and exposing the center of the inside of a groove.例文帳に追加

溝付きレジスト原盤の偏芯を除去して溝内部の中央を露光し溝またはピットを形成する。 - 特許庁

When the image is developed after exposing the resist 2, the sections not exposed are eliminated, and a state shown in (c) is presented.例文帳に追加

レジスト２を露光した後現像すると、露光されなかった部分が無くなり、（ｃ）に示すような状態となる。 - 特許庁

The probe housing container is used to supply a probe to a prober without exposing it in an atmosphere.例文帳に追加

本発明は、大気暴露することなく、プローバ装置に探針を供給できる探針収納容器に関する。 - 特許庁

The photopolymerization method is carried out, by exposing this polymerizable composition to laser light at ≤450 nm wavelengths.例文帳に追加

本発明の光重合方法は、該重合性組成物を４５０ｎｍ以下の波長を有するレーザ光で露光する。 - 特許庁

MASK-HOUSING UNIT, METHOD FOR CONVEYING PHOTOMASK SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK PRODUCT AND METHOD FOR EXPOSING/TRANSFERRING PHOTOMASK例文帳に追加

マスク収容ユニット、フォトマスク基板の搬送方法、フォトマスク製品の製造方法及びフォトマスクの露光・転写方法。 - 特許庁

However, at exposing of a wafer 6, the film 13 is taken up around the column 12a so as not to shield the optical path.例文帳に追加

但し、ウェハ６を露光する際には光路を遮らないようにフィルム１３は円柱１２ａに巻き取られる。 - 特許庁