「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(125ページ目) - Weblio英語例文検索

The electroforming mold 6 free from the residue in the opening part is formed with high precision by forming a first photoresist layer 2 having large absorption coefficient in a photosensitive wavelength on the surface of the conductive substrate 1 having the projecting and recessed parts on the surface and further forming a second photoresist layer 3 having smaller absorption coefficient is formed thereon and exposing and developing, thereby providing the electroforming component 8 faithfully transferred of the substrate surface shape.例文帳に追加

表面に凹凸を有する導電性を有する基板１の表面に、感光波長における吸収係数が大きな第１のフォトレジスト層２を形成し、さらにその上に、吸収係数が小さな第２のフォトレジスト層３を形成し、露光、現像することにより、精度が良く、かつ、開口部に残渣がない電鋳型６を作ることができるので、基板表面形状を忠実に転写した電鋳部品８を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of color filter comprises a photosensitive resin layer formation process of forming a photosensitive resin layer made of a photosensitive resin on a substrate; and a uniformizing function member formation process of exposing and developing a photosensitive resin layer, by using the gradation mask provided with a translucent film, having prescribed transmittance characteristics and forming at least two kinds of the uniformizing function members made of the photosensitive resin whose heights are adjusted.例文帳に追加

本発明は、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いて露光し、現像して、感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 - 特許庁

The method of producing the raw material powder is a method for producing the raw material powder for forming the oxygen ion conductor comprising a multicomponent metal oxide containing lanthanum or a lanthanide, and comprises the steps of calcining a mixed powder in which all elements constituting the multicomponent metal oxide are blended, exposing the powder subjected to calcining to a gas containing water or moisture in order to expand at least a portion of particles in the powder.例文帳に追加

本発明の原料粉体の製造方法は、ランタン又はランタニドを含む多成分系金属酸化物から成る酸素イオン伝導体を成形するための原料粉体を製造する方法であって、該多成分系金属酸化物を構成する元素が全て含まれるように配合された混合粉体を仮焼した後、該仮焼後の粉体を水又は水気を含む気体に晒して該粉体中の少なくとも一部の粒子を膨張させることを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a lithographic printing plate includes steps of: preparing a lithographic printing precursor having an image forming layer containing an IR absorbent, a polymerization initiator, an ethylenically unsaturated compound and a binder polymer on a hydrophilic support; imagewisely exposing the lithographic printing plate precursor; and processing the imagewisely exposed lithographic printing plate precursor with a processing liquid containing a carbonate ion, a hydrogen carbonate ion and a water-soluble polymer compound.例文帳に追加

赤外線吸収剤、重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、及び、バインダーポリマーを含有する画像形成層を親水性支持体上に有する平版印刷版原版を準備する工程、前記平版印刷版原版を画像露光する工程、並びに、画像露光された平版印刷版原版を、炭酸イオン、炭酸水素イオン及び水溶性高分子化合物を含有する処理液で処理する処理工程、を含むことを特徴とする、平版印刷版の製造方法。 - 特許庁

The aligner for exposing an object processed by irradiating the object with a beam emitted from a light source through an optical system separated by a plurality of continuous partition rooms comprises cases for regulating the partition rooms and storing at least one optical member, and a washing gas supply means stored in the case and capable of supplying washing gas for washing optical members to each of the partition rooms.例文帳に追加

光源から射出された光束を、連続する複数の分室で隔離された光学系を介して被処理体に照射して当該被処理体を露光する露光装置であって、前記分室を規定すると共に少なくとも一つの光学部材を収納する筐体と、前記筐体に設けられ、前記分室の各々に前記光学部材を洗浄するための洗浄ガスを供給する洗浄ガス供給手段とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

The method for treating acne and acne scar, by treating oil glands and its surrounding tissue with an exogenous chromophore composition and by exposing the target tissue to visible, infrared, or ultraviolet light to inhibit the activity of the oil gland and then eliminate acne bacteria, may be further augmented by enhancing the penetration of the topical composition into the oil gland and its surrounding tissue through the use of procedures including enzyme peeling, microdermabrasion, or ultrasound.例文帳に追加

外因性発色団組成物での脂腺および周辺組織の治療及び脂腺の活性を阻害し、続いて座瘡細菌を除去するための可視光線、赤外線、又は紫外線への標的組織の曝露による、座瘡及び座瘡瘢痕の治療方法であり、酵素ピーリング、マイクロダーマアブレイジョン、又は超音波を含む手順の使用により脂腺及び周辺組織への局所組成物の透過を増強することによってさらに補強することができる。 - 特許庁

The electrophotographic apparatus comprises such an electrophotographic photoreceptor 1; a charging device 3 for charging the electrophotographic photoreceptor; an exposure device 4 for exposing the electrophotographic photoreceptor charged by the charging device to form an electrostatic latent image; a developing device 5 for developing the electrostatic latent image formed on the electrophotographic photoreceptor with toner; and a transfer device 6 for transferring a toner image developed by the developing device onto a transfer member.例文帳に追加

電子写真感光体１と、前記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段３と、帯電手段により帯電された電子写真感光体に対し露光を行い、静電潜像を形成するための露光手段４と、静電潜像の形成された電子写真感光体にトナーを現像するための現像手段５と、現像手段により現像されたトナー像を転写部材上に転写するための転写手段６とを有する電子写真装置。 - 特許庁

This organic EL device includes an insulating substrate, a pixel electrode disposed above the insulating substrate, a barrier plate disposed around the pixel electrode, an interlayer insulating film extending from the barrier plate to the peripheral part of the pixel electrode and exposing the center part of the pixel electrode, and organic layer disposed on the interlayer insulating film and the center part of the pixel electrode, and a counter electrode disposed on the organic layer.例文帳に追加

絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に配置された画素電極と、前記画素電極の周囲に配置された隔壁と、前記隔壁から前記画素電極の周縁部に亘って延在するとともに前記画素電極の中央部を露出する層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜の上、及び、前記画素電極の中央部の上に配置された有機層と、前記有機層の上に配置された対向電極と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置。 - 特許庁

A method for producing a color filter has a photosensitive resin layer forming process for forming a photosensitive resin layer consisting of a photosensitive resin on a substrate and a same functional member forming process for exposing the photosensitive resin layer using a gradation mask comprising a semitransparent film having a predetermined transmittance characteristic followed by development to form two kinds or more of the same functional member consisting of a photosensitive resin and having an adjusted height.例文帳に追加

本発明は、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いて露光し、現像して、感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 - 特許庁

The method for forming the lithium-mixed metal compound comprises preparing a reactant mixture containing a metal compound, a lithium compound, and optionally a phosphate-containing compound, exposing the reactant mixture to an atmosphere containing suspended carbon particles, and performing a reduction reaction which decreases the oxidation state of at least one metal ion of the reactant mixture at a temperature high enough to form a reaction product containing lithium and reduced metal ions.例文帳に追加

リチウムが混合した金属化合物を生成する方法は、金属化合物と、リチウム化合物と、随意的にリン酸塩含有化合物と、を含む反応物質の混合物を用意し、浮遊炭素粒子の存在する雰囲気に当該反応物質の混合物を曝し、リチウムと還元された金属イオンとを含む反応生成物を形成するのに十分な温度で、反応物質の混合物の少なくとも１つの金属イオンの酸化状態を減じさせる還元を行うことを含む。 - 特許庁

In the aqueous ink jet recording sheet comprising an ink receptive layer 26 containing powder paint 23 fusion bonded to each other while having partial air gaps 24 therebetween on a base material 25, the powder paint 23 contains hydrophobic resin composition particles 21 contained in partial water soluble resin while exposing with its surface, and hydrophilic second inorganic fine particles 22 covering the surfaces of the composition particles.例文帳に追加

本発明によれば、粉体塗料２３がその間に部分的に空隙２４を有しつつ、相互に融着されてなるインク受容層２６を基材２５上に有する水性インクジェット記録シートにおいて、上記粉体塗料が、水溶性樹脂を一部、その表面に露出させつつ、含有している疎水性樹脂組成物粒子２１と、この疎水性樹脂組成物粒子の表面を被覆している親水性の第２の無機微粒子２２とからなる水性インクジェット記録シートが提供される。 - 特許庁

A method of manufacturing an optical semiconductor device comprises the steps of: forming a semiconductor intermediate layer on a semiconductor substrate; forming a semiconductor stack including an optical waveguide layer above the semiconductor intermediate layer; forming trenches for exposing the semiconductor intermediate layer on their inner surfaces in the semiconductor stack; and forming a cavity by removing the semiconductor intermediate layer exposed on the inner surfaces of the trenches by using selective wet etching.例文帳に追加

光半導体素子の製造方法は、半導体基板上に、半導体中間層を形成する工程と、半導体中間層上に光導波層を含む半導体積層体を形成する工程と、その内面に半導体中間層が露出する溝を半導体積層体に形成する工程と、溝の内面に露出した半導体中間層を選択的ウェットエッチングによって除去することで、空隙を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Emission of a multibeam system exposing unit 3 emitting two laser beams is controlled such that the difference of surface potential of a photosensitive drum 1 when a 2 dot 2 space latent image is formed by emitting two laser beams simultaneously and when a 2 dot 2 space latent image is formed by emitting two laser beams independently will be lower than 20 V.例文帳に追加

露光装置３は２本のレーザービームを発光するマルチビーム方式の露光装置３であり、２本のレーザービームを同時に発光させて感光ドラム１上に、２ｄｏｔ ２ｓｐａｃｅ潜像を形成した場合の感光ドラム１上の表面電位と、２本のレーザービームを単独で発光させて感光ドラム１上に、２ｄｏｔ ２ｓｐａｃｅ潜像を形成した場合の感光ドラム１上の表面電位との差を２０Ｖ未満となるように、露光装置３における発光を制御する。 - 特許庁

The production method of semiconductor element comprises a step for performing exposure again using an exposing reticle having a pattern for passing UV-rays or infrared rays only partially before photoresist is developed with developer when a plurality of pellets 1, 2, 3, 4 are produced from a sheet of semiconductor wafer 5.例文帳に追加

一枚の半導体ウエーハ５からペレット１，２，３，４を複数個製造する場合、フォトレジストを現像液で現像する前に、一部分のみ紫外線や赤外線などの光線を透過するパターンを有する露光用のレテイクルを用いて再度露光する工程を含み、再度露光する時のマスクは、ペレット１個分の識別用パターン作成用の開口部のみ有し、再度露光する時の、Ｘ方向とＹ方向とにステップする時に、ペレットの寸法と異なるステップ幅でＸ，Ｙ方向に移動する。 - 特許庁

The color wheel unit comprises a color wheel 12 having a plurality of color filters that transmit or reflect different colored lights disposed circumferentially, a motor 11 that rotates the color wheel 12, and a color wheel case 13 that houses the color wheel 12 and has an opening part 14 for exposing a part of the color wheel 12.例文帳に追加

それぞれ異なる色光を透過あるいは反射する複数のカラーフィルタを円周状に配置したカラーホイール１２と、カラーホイール１２を回転駆動させるモータ１１と、カラーホイール１２を収納しその一部にカラーホイール１２の一部を露出させるための開口部１４が設けられたカラーホイールケース１３とから構成されるカラーホイールユニット１０であって、周壁１３ａの内面とカラーホイール１２の周面との間隙を１ｍｍ以下とし、前壁部１３ｂ及び後壁部１３ｃとの間隙を１ｍｍ以下とする。 - 特許庁

The electro-photographic imaging apparatus comprises, as an exposing unit 3 for writing optically on a photosensitive body 1, an LED array head comprising an LED array substrate 302 on which a large number of LED elements 301 are arranged in the main scanning direction oppositely to the photosensitive body 1, and a lens array 303 for focusing light from the LED elements 301.例文帳に追加

感光体１に光書き込みを行う露光装置３として、多数のＬＥＤ素子３０１が主走査方向に配列されて感光体１に対向配置されたＬＥＤアレイ基板３０２と、ＬＥＤ素子３０１による光を結像するレンズアレイ３０３とを有するＬＥＤアレイヘッドを備えた電子写真方式の画像形成装置において、入力画像に応じてＬＥＤアレイヘッドによるビームスポット径を可変とするビームスポット径可変機構( スプリング３０４、磁石３０６、電磁石３０７) を備えた。 - 特許庁

In the method for making a lithographic printing plate by exposing and developing a photographic material having a silver halide emulsion layer and selectively modifying the undeveloped silver halide image part into oleophilic and ink receptive, the photographic material after development is treated with a treating liquid containing a solvent for the silver halide, an organic compound having one mercapto group in the molecule and an organic compound having two or more mercapto groups in the molecule.例文帳に追加

ハロゲン化銀乳剤層を有する写真材料を露光し、現像処理後、未現像のハロゲン化銀像部を選択的に親油化し、インキ受容性にする平版印刷版の作成に於いて、該写真材料の現像処理後、ハロゲン化銀溶剤、分子中に一つのメルカプト基を有する有機化合物及び分子中に二つ以上のメルカプト基を有する有機化合物を含有する処理液で処理することを特徴とする平版印刷版の作成方法。 - 特許庁

A separation wall is formed by coincidentally removing a photosensitive paste film and a transparent film by development after a process of forming the photosensitive paste film composed of organic component and inorganic particles and curing them, a process of forming the transparent film on the photosensitive paste film, and a process of exposing the photosensitive paste film through the transparent film by using a mask having a prescribed aperture pattern.例文帳に追加

基板上に有機成分と無機粒子とからなる感光性ペースト塗膜を形成した後キュアする工程と前記塗膜上に透明塗膜を形成する工程と、所定の開口パターンを有するマスクを用いて前記感光性ペースト塗膜を前記透明塗膜上から露光する工程を経た後に、前記感光性ペースト塗膜と前記透明塗膜を同時に現像によって除去することにより隔壁を形成することを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法である。 - 特許庁

In a preferable mode, SRSV contained in sewage discharge water thinly is decomposed and disinfected by preparing an ultraviolet ray emitting device using a medium pressure mercury lamp as an ultraviolet ray source and a photocatalyst for generating radicals upon the reception of the irradiation with ultraviolet rays and exposing SRSV to both of ultraviolet rays emitted from the ultraviolet ray emitting device and radicals generated from the photocatalyst to decompose the virus.例文帳に追加

好ましい態様においては、下水放流水中に希薄に含まれるＳＲＳＶの分解消毒方法であって、以下のステップ：中圧水銀ランプを紫外線源とする紫外線発生装置、及び上記紫外線の照射を受けてラジカルを発生する光触媒を用意し；上記水を上記紫外線発生装置から発生した紫外線と上記光触媒から発生したラジカルの両者に暴露して、上記ウイルスを分解する、を含む前記方法を、提供する。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 0.93-1.0, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が０．９３を越え１．０以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

This method comprises the steps of forming a thinner antireflection film 5 than 150 nm on a semiconductor substrate 1, coating a resist 6 on the antireflection film 5, exposing the resist 6 by the use of radiation rays, developing the resist 6 exposed, injecting impurities into the semiconductor substrate 1 through the antireflection film 5 using the developed resist 6 as a mask, and eliminating the resist 6 and antireflection film 5 with the same etchant.例文帳に追加

１５０ｎｍよりも薄い反射防止膜５を半導体基板１の上に形成する工程と、前記反射防止膜５の上にレジスト６を塗布する工程と、放射線を使用して前記レジスト６を露光する工程と、露光された前記レジスト６を現像する工程と、現像された前記レジスト６をマスクに使用して前記反射防止膜５を通して前記半導体基板１に不純物を注入する工程と、前記レジスト６と反射防止膜５を同じエッチャントによって除去する工程とを含む。 - 特許庁

The display includes an insulation substrate, a source electrode 50 and a drain electrode 60 disposed on the insulation substrate and distanced from each other and including a channel area interposed therebetween, a wall exposing portions of the source electrode and the drain electrode, and defining an opening area surrounding the channel area, and an organic semiconductor layer covering the channel area, and comprising a first sub layer and a second sub layer having different grain sizes.例文帳に追加

本発明による表示装置は、絶縁基板と、前記絶縁基板上に形成されておりチャンネル領域を介して離隔配置されているソース電極およびドレイン電極と；前記ソース電極および前記ドレイン電極を少なくとも一部分露出させながら、前記チャンネル領域を囲んでいる開口領域を定義する隔壁と、前記チャンネル領域を覆っており、結晶粒の大きさが互いに異なる第１サブ層と第２サブ層を有する有機半導体層と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This aligner for exposing a semiconductor wafer 11 in contact by moving the semiconductor wafer 11 after aligning the semiconductor wafer 11 and a photomask 13 registers as images the positional relation between the semiconductor wafer 11 and photomask 13 when aligned and the positional relation at exposure and recognizes the respective images to put the semiconductor wafer 11 back into a state of alignment, when a misalignment is detected, so as to correct the position.例文帳に追加

本発明は、半導体ウェハー１１とフォトマスク１３を位置合わせした後、半導体ウェハーを動かすことによって密着させて露光する露光装置において、位置合わせ時における半導体ウェハーとフォトマスクとの位置関係と、露光時における同位置関係をあらかじめ画像登録しておき、露光時、上記各画像を認識することによって位置ズレが検出されたときに、ステージ１２上で半導体ウェハーを位置合わせ時における状態に復元させることによって位置補正を行う。 - 特許庁

The platemaking method for a photosensitive planographic printing plate is carried out by imagewise exposing a photosensitive planographic printing plate material, having a photopolymerizable photosensitive layer containing (A) a photopolymerization initiator, (B) a polymer binder and (C) a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond on an aluminum support body, and then developing the plate material.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に、（Ａ）光重合開始剤、（Ｂ）高分子結合材及び（Ｃ）重合可能な、エチレン性不飽和結合含有化合物を含有する光重合性感光性層を有する感光性平版印刷版材料を画像露光した後、現像処理する感光性平版印刷版の製版方法において、該現像処理に用いられる現像液が下記一般式Ａで表される化合物及び一般式Ｂで表される化合物を含む水溶液であることを特徴とする感光性平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

In the flexible board, at least one of the plurality of conductor patterns 15b is a ground pattern 15b2, and the first insulator 15a and/or second insulator 15c has an exposure portion 15e for exposing only the ground pattern 15b2 among the plurality of conductor patterns 15b.例文帳に追加

電気絶縁性を有するフィルム状の第一絶縁体１５ａと、第一絶縁体１５ａに形成された金属からなる複数の導体パターン１５ｂと、複数の導体パターン１５ｂを被覆する第二絶縁体１５ｃとを備えるフレキシブル基板１５において、複数の導体パターン１５ｂのうち少なくとも一つがグランドパターン１５ｂ２であり、第一絶縁体１５ａ及び／又は第二絶縁体１５ｃに複数の導体パターン１５ｂのうちグランドパターン１５ｂ２のみを露出させる露出部１５ｅを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The image forming method is composed of; an electrifying process electrifying an image carrier surface, an exposure process exposing an image carrier and forming an electrostatic latent image, a developing process forming a toner image by having toner transit to the electrostatic latent image, a transfer process transferring the toner image to a recording medium, and a cleaning process cleaning the image carrier surface with a blade.例文帳に追加

像保持体表面を帯電する帯電工程と、像保持体を露光し静電潜像を形成する露光工程と、静電潜像にトナーを転移させトナー像を形成する現像工程と、トナー像を記録媒体に転写する転写工程と、像保持体表面をブレードによりクリーニングするクリーニング工程と、を有し、前記像保持体表面の摩擦係数が０．６〜１．４であり、ブレードの材料が下式（１）〜（３）を満たし、像保持体とクリーニングブレードとの接触部に研磨剤を供給する画像形成方法。 - 特許庁

The method also includes a step of exposing the resist film at an upward angle of 50°-70° from the mask and developing the exposed resist film, a step of etching the exposed part of the metallic film after development, and a step of removing the resist film left on the metallic film.例文帳に追加

圧電素子の導電膜が均一の膜厚であり、且つ導電膜の構造中に接合部分がなく一体形成である圧電素子上の導電膜であり、その製造方法は、圧電素子全面に金属膜を均一な膜厚で形成する工程と、この金属膜上にレジスト膜を均一な膜厚で形成する工程と、レジスト膜の主面上に、マスクを配置する工程と、マスクに対し上方５０°〜７０°の角度で露光し現像する工程と、現像後に露出した部分の金属膜をエッチングする工程と、残った金属膜上のレジスト膜を除去する工程からなる。 - 特許庁

217.3. Any person who at the time when copyright subsists in a work has in his possession an article which he knows, or ought to know, to be an infringing copy of the work for the purpose of: (a) Selling, letting for hire, or by way of trade, offering or exposing for sale, or hire, the article; (b) Distributing the article for purpose of trade, or for any other purpose to an extent that will prejudice the rights of the copyright owner in the work; or (c) Trade exhibit of the article in public, shall be guilty of an offense and shall be liable on conviction to imprisonment and fine as above mentioned.例文帳に追加

217.3著作権の存続中に，自己の所有する物品が次の行為のために著作物を侵害する複製物であることを知り又は当然知るべきである者は，有罪判決に基づいて，217.1にいう懲役及び罰金に処せられる。 (a)当該物品を，販売し，賃貸し，若しくは取引により提供し，又は販売若しくは賃貸のために陳列すること (b)当該物品を，取引のため又はその他の目的のために，当該著作物の著作権者の権利を害する程度に頒布すること (c)当該物品を取引のために公に展示すること - 特許庁

For the purposes of this section a person uses a sign if, in particular, he-- (a) applies it to goods or their packaging; (b) offers or exposes goods for sale under the sign; (c) puts goods on the market under the sign; (d) stocks goods under the sign for the purpose of offering or exposing them for sale or of putting them on the market; (e) offers or supplies services under the sign; (f) imports or exports goods under the sign; or (g) uses the sign on business papers or in advertising. 例文帳に追加

本条の適用上，何人も，特に次の場合は，標識を使用することになる。 (a) 標識を商品又は包装に適用する場合 (b) 標識の下で販売のために商品を提供又は展示する場合 (c) 標識の下で商品を市場に出す場合 (d) 販売のために商品を提供又は展示する目的，又は商品を市場に出す目的で，標識の下で商品を在庫する場合 (e) 標識の下でサービスを提供又は供与する場合 (f) 標識の下で商品を輸入又は輸出する場合，又は(g) 標識を商業文書又は広告に使用する場合 - 特許庁

The platemaking method for a photosensitive lithographic printing plate material includes a step of exposing a photosensitive lithographic printing plate material having a photosensitive layer containing (A) a photopolymerization initiator, (B) a polymer binder, (C) a polymerizable compound containing an ethylenically unsaturated bond and (D) a sensitizing dye on a support, and then a step of developing the material.例文帳に追加

支持体上に、（Ａ）光重合開始剤、（Ｂ）高分子結合材、（Ｃ）重合可能な、エチレン性不飽和結合含有化合物および（Ｄ）増感色素を含有する感光性層を有する感光性平版印刷版材料を画像露光した後、現像処理する感光性平版印刷版材料の製版方法において、該（Ａ）光重合開始剤がビイミダゾール化合物であり、該現像処理に用いられる現像液が下記一般式（１）で表される化合物を含有するｐＨ８．５〜１２．０のアルカリ性水溶液であることを特徴とする感光性平版印刷版材料の製版方法。 - 特許庁

This manufacturing method is provided with an anisotropic etching process for performing anisotropic etching of the active layer and exposing a sacrificial layer, and an isotropic etching process for performing isotropic etching of the sacrificial layer from the exposed range and isolating the active layer for forming beams and the weight section from the base layer.例文帳に追加

活性層を異方性エッチングして犠牲層を露出させる異方性エッチング工程と、露出した範囲から犠牲層を等方性エッチングして梁と錘部を形成する活性層をベース層から遊離させる等方性エッチング工程を備えており、異方性エッチング工程でエッチングする個々の孤立範囲の最小径をｘ（μｍ）とし、周囲を孤立範囲で取り囲まれている領域の中心点から孤立範囲までの最短距離をＧ（μｍ）とし、犠牲層の厚さをｈ（μｍ）としたときに、下記式（１）と（２）を同時に満足する関係で孤立範囲群を分散して形成する。 - 特許庁

Also, the method of making the planographic printing plate consists of image exposing of a photosensitive planographic printing plate, developing and subsequently burning treating and includes treating of the plate surface with the burning pretreatment liquid prior to the burning treatment.例文帳に追加

下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とするバーニング前処理液（式（Ｉ）中、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｒ_３は炭素原子数１〜８のアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、ｍは１〜３の整数を表し、ａは０又は１〜５０の整数を表し、ｂは０又は１〜５０の整数を表し、但しａとｂとは同時に０にならない。）；感光性平版印刷版を画像露光し、現像処理した後、バーニング処理することを含む平版印刷版の製版方法であって、該バーニング処理前に上記バーニング前処理液で版面を処理することを含む平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The design is not to be treated, for the purposes of this Act, as being other than new and distinctive, or as having been published, by reason only of any use previously made of the artistic work, unless: the previous use consisted of, or included, the sale, letting for hire or exposing for sale or hire of products to which the design had been applied industrially, other than products specified in regulations for the purposes of paragraph 43(1)(a); and the previous use was by, or with the consent of, the owner of the copyright in the artistic work. 例文帳に追加

当該意匠は，本法の適用上，その美術的著作物について先にされた使用のみを理由として，新規性及び識別性を有さないもの，又は公開されていたものとして，取り扱ってはならない。ただし，その使用が次の場合に該当していたときは，この限りでない。先の使用が，その意匠が産業上利用された製品であって，第43条(1)(a)の適用上，規則に指定されているもの以外の製品に係わる販売，賃貸，又は販売若しくは賃貸のための展示からなるか，又はこれを含んでいた場合，及び先の使用が，その美術的著作物の著作権所有者により又はその同意を得てなされたものである場合 - 特許庁

The analyte measuring method includes exposing the sensor to the analyte, and measuring an imaginary number part of impedance of the conductive polymer at a frequency corresponding to a peak in a relationship between the frequency on the conductive polymer and analyte and the change of the imaginary number of impedance, to measure the capacitive change in the electrical properties of the conductive polymer.例文帳に追加

アナライトと相互作用でき導電性ポリマーと組み合わせた固定化親和性要素であり、親和性要素とアナライトの相互作用が導電性ポリマーの配向の変化をもたらし導電性ポリマーの電気的特性の容量性変化を誘導する親和性要素、導電性ポリマーにＡＣ信号を適用する手段、及び信号に対する導電性ポリマーの応答を検知し誘導した変化を検知する手段を有するセンサーを用いるアナライト測定方法であり、センサーをアナライトに曝し、導電性ポリマーとアナライトについての周波数とインピーダンスの虚数部の変化との関係におけるピークに対応する周波数で導電性ポリマーのインピーダンスの虚数部を測定し、導電性ポリマーの電気的特性の容量性変化を測定するアナライト測定方法。 - 特許庁

a resolution framework and other measures to ensure that all financial institutions can be resolved safely, quickly and without destabilizing the financial system and exposing the taxpayers to the risk of loss; a requirement that SIFIs and initially in particular financial institutions that are globally systemic (G-SIFIs) should have higher loss absorbency capacity to reflect the greater risk that the failure of these firms poses to the global financial system;more intensive supervisory oversight; robust core financial market infrastructure to reduce contagion risk from individual failures; and other supplementary prudential and other requirements as determined by the national authorities which may include, in some circumstances, liquidity surcharges, tighter large exposure restrictions, levies and structural measures. 例文帳に追加

すなわち，すべての金融機関が，金融システムを不安定にせず，納税者に損失のリスクを負わせることなく，安全かつ速やかに処理され得ることを確保するための破たん処理の枠組みやその他施策/SIFIs，及び当初は特にグローバルなシステム上の重要性を有する金融機関（G-SIFIs）について，その破たんがグローバルな金融システムにもたらすリスクがより大きいことを反映してより高い損失吸収力を有するよう求めること/より密度の高い監督・監視/個別金融機関の破たんの伝染リスクを軽減するための強固な中核的金融市場インフラ/追加的な流動性規制，より厳しい大口信用供与規制，負担金，構造に関する措置を状況によっては含み得る，各国当局が定める他の補完的な健全性要件及びその他の要件である。 - 財務省