「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(121ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for forming a thin film comprising a metal comprises: exposing a heated substrate alternately to the vapor of one or more volatile metals (I), (II) or (III) amidinate compounds or oligomers thereof, and then to a reducing gas, a nitrogen gas or an oxygen-containing gas or their vapor, to form a metal film, a metal nitride film or a metal oxide film on the surface of the substrate.例文帳に追加

加熱基板を、一種以上の揮発性金属（Ｉ）、（ＩＩ）あるいは（ＩＩＩ）アミジナート化合物又はそのオリゴマーの蒸気に、次いで、還元性ガス、窒素含有ガス又は酸素含有ガスあるいはそれらの蒸気に交互に暴露して、当該基板表面に金属皮膜、金属窒化物皮膜又は金属酸化物皮膜を形成させることを含んでなる、金属を含む薄膜の形成方法。 - 特許庁

The apparatus for the thermomechanical refining of wood chips contains a step to soften the wood chips by exposing the chips to steam atmosphere, press the softened chips to effect the disintegration, dehydration and softening to a solid consistency of ≥55% or thereabout, and dilute the disintegrated and dehydrated chips to a solid consistency of about 30-55% to prepare the chips for refining.例文帳に追加

木材チップのサーモメカニカルリファイニングを行う装置は、チップをスチームの雰囲気に曝してチップを柔軟化し、柔軟化されたチップを圧縮して破壊し脱水柔軟化して約５５％以上の固体コンシステンシーにし、そして破壊され脱水されたチップを希釈して約３０〜５５％の範囲の固体コンシステンシーにすることによってチップをリファイニング用に調製するステップを含む。 - 特許庁

The bio-substance detecting device has a laminated structure wherein laminated base materials 3a and 3b comprising a polyester sheet and having a plurality of holes for exposing fixed probes 6 using a porous film, which comprises a flexible polymeric resin and can fix a probe easily, as a support (filter 2).例文帳に追加

本発明は、柔軟性を有する高分子樹脂からなり、容易にプローブを固定できる多孔質フィルムを支持体（フィルタ２）として用いて、両側からポリエステルシートからなり、固定したプローブ６を露出するための複数の孔を設けたラミネート基材３ａ，３ｂを貼着したラミネート構造の生体物質検出デバイス及びその製造方法及びその生体物質検出デバイスを用いる反応装置である。 - 特許庁

To provide a laser engraving method in which image forming materials can be efficiently produced by drying only an applied photosensitive layer solution in a short time when forming a photosensitive layer on a support as a laser engraving method for producing the image forming materials with images formed thereon by exposing the images of the photosensitive layer applied and formed on the support by laser beams.例文帳に追加

支持体上に塗布形成した感光性層をレーザー光線によって画像露光させることにより、画像形成済みの画像形成材料を作製するレーザー製版方法であって、支持体上に感光性層を形成する際、塗布した感光性層溶液だけを短時間で乾燥させ、効率的に画像形成材料を作製できるレーザー製版方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a fluoride coated biomedical device, including a process of exposing the surface of a biomedical device to plasma in the presence of a solid supply source of fluorine, wherein the species of fluorine is generated from the solid supply source of fluorine to interact with the surface of the biomedical device, and the biomedical device.例文帳に追加

フッ化物被覆型の生物医学装置を製造するための方法であって、フッ素の固体供給源の存在下にプラズマに対して生物医学装置の表面を曝露する処理、を含み、この場合に、フッ素の種が前記フッ素の固体供給源から発生して、前記生物医学装置の表面に対して相互作用する、方法、およびその生物医学装置を提供する。 - 特許庁

The process for manufacturing a photoelectric converter comprises step A for providing a bank pattern having an opening for exposing a part of the surface of one of two electrodes, and a bank surrounding the opening on the surface of one conductive layer; and step B for laminating a plurality of semiconductor layers in the opening along the thickness direction of the bank pattern.例文帳に追加

光電変換装置の製造方法が、２つの電極の一方の表面を部分的に露出する開口部と、前記開口部の周囲を囲むバンク部と、を有するバンクパターンを前記一方の電極の前記表面上に設ける工程Ａと、前記開口部内で前記複数の半導体層を前記バンクパターンの厚さの方向に沿って積層する工程Ｂと、を包含している。 - 特許庁

A method of manufacturing the magnetic recording medium includes steps of: forming a magnetic recording layer on a substrate; forming a protection overcoat layer on the magnetic recording layer; exposing the surface of the protection overcoat layer in an ambient atmosphere including perfluorocycloalkane and oxygen; and polymerizing the perfluorocycloalkane using a plasma enhanced chemical vapor deposition to deposit a layer including perfluoropolyether on the protection overcoat layer.例文帳に追加

基板上に磁気記録層を形成すること、該磁気記録層上に保護オーバーコート層を形成すること、該保護オーバーコート層の表面をパーフルオロシクロアルカン及び酸素を含む雰囲気に暴露すること、及び該パーフルオロシクロアルカンをプラズマ強化化学気相成長法を用いて重合して、該保護オーバーコート層上にパーフルオロポリエーテル含有層を堆積すること、を含む磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

A method, through which hemispherical grain silicons are formed, comprises these processes in which a film of polyslicon or amorphous silicon is formed, exposed to a vapor which contains halide-containing seeds for a time long enough to remove all oxides on it, and is then annealed at high temperature without exposing it to oxygen or an oxygen-containing gas, to be transformed into hemispherical grain silicons.例文帳に追加

ポリシリコンまたはアモルファスシリコン被膜を形成し；ハライド含有種を含む気相に該被膜を、その上の酸化物を全て除去するのに充分な時間暴露し；そして該被膜を酸素または酸素含有ガスに暴露することなく、該被膜を高温でアニーリングして、該ポリシリコンまたはアモルファスシリコンを半球形グレーンシリコンに変換する工程を含む半球形グレーンシリコンの形成方法。 - 特許庁

The method for forming the microparticle pattern includes patternwise exposing a substrate 1 having a layer 5 formed on an uppermost surface thereof and containing a silane coupling agent having a thiol, amino, hydroxyl, carboxyl or sulfo group protected by a photodegradable protective group, and immersing the substrate in a colloidal solution in which metal atom-containing microparticles are dispersed to selectively deposit metal atom-containing microparticles 3 on an exposed portion 4.例文帳に追加

光分解性保護基で保護されたチオール基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基またはスルホ基を有するシランカップリング剤を含有する層５が最上面に形成された基板１をパターン状に露光した後、該基板を金属原子含有微粒子が分散されたコロイド溶液に浸漬し、金属原子含有微粒子３を露光部４に選択的に付着させる微粒子パターン形成方法。 - 特許庁

This electroconductive conjugate fiber constituted by a non-electroconductive component consisting of the polylactic acid and an electroconductive component consisting of a polyester resin containing electroconductive particles and having a form of exposing at least a part of the electroconductive component on the surface of the fiber is provided by having 1×10^4 to 1×10^9Ω/cm electric resistance value.例文帳に追加

ポリ乳酸からなる非導電性成分と、導電性粒子を含有するポリエステル樹脂からなる導電性成分とで構成され、導電性成分の少なくとも一部が繊維表面に露出している形状を呈している導電性複合繊維であって、電気抵抗値が１×１０^４Ω〜１×１０^９Ω／ｃｍである導電性複合繊維。 - 特許庁

A semiconductor package substrate comprises a base substrate including a circuit having a connection pad 103 in an insulation layer 101, a protection layer 106 formed on the base substrate and including polyimide with an open part for exposing the connection pad 103, and a post bump 115 including a seed layer 110 and an electrolytic plating layer 114 formed on the connection pad at the open part of the protection layer 106.例文帳に追加

絶縁層１０１に接続パッド１０３を含む回路が形成されたベース基板と、ベース基板上に形成され、接続パッド１０３を露出させるオープン部を有し、ポリイミドを含む保護層１０６と、保護層１０６のオープン部の接続パッド上に形成されたシード層１１０と電解メッキ層１１４からなるポストバンプ１１５とを含んでなる半導体パッケージ基板。 - 特許庁

The method comprises the steps of forming a resist film 2 on a semiconductor substrate, forming a resist pattern 2a by performing the exposure and developing processes to the resist film 2, selectively exposing the region for the resist pattern 2a and selectively changing size of the resist pattern 2a by generating thermal fluidity in the resist film in the outside of the exposure region through the heat treatment of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上にレジスト膜２を形成する工程と、レジスト膜２を露光現像処理することでレジストパターン２ａを形成する工程と、レジストパターン２ａに対して領域を選択して露光する工程と、半導体基板を加熱処理して、露光領域外のレジスト膜に熱流動を起こさせることにより、選択的にレジストパターン２ａの寸法を変化させる工程とを含む。 - 特許庁

A step for preparing the photomask provided with a first photomask pattern used for forming the protrusion and constituted of a pattern having a first shape consisting of a plurality of light shielding units and a second photomask pattern used for forming the spacer and constituted of a light shielding pattern having a second shape is performed and then a step for exposing and developing the photoresist layer using the photomask is performed.例文帳に追加

突起を形成するのに用いられ、複数の遮光ユニットからなる第１形状を有するパターンから構成される第１フォトマスクパターンと、スペーサを形成するのに用いられ、第２形状を有する遮光パターンから構成される第２フォトマスクパターンとを備えてなるフォトマスクを準備するステップを行った後、このフォトマスクを用いてフォトレジスト層に露光現像を施すステップを実行する。 - 特許庁

A formation method of a silicone oxide film comprises a step of depositing a polysilicon film on a substrate and a step of forming the silicon oxide film on the surface of the polysilicon film by exposing the surface of the polysilicon film to an atomic oxygen O* formed by exciting a plasma with a microwave to a mixed gas composed of a gas including oxygen and an inert gas mainly composed of a Kr gas.例文帳に追加

シリコン酸化膜の形成方法は、基板上にポリシリコン膜を堆積する工程と、 前記ポリシリコン膜の表面を、酸素を含むガスとＫｒガスを主体とする不活性ガスとよりなる混合ガスにマイクロ波によりプラズマを励起することで形成される原子状酸素Ｏ*に曝すことにより、前記ポリシリコン膜の表面にシリコン酸化膜を形成する工程とよりなる。 - 特許庁

When one layer of the three-dimensional object is formed by forming a medium layer on a previously solidified layer of the object and exposing the medium layer selectively to a solidifying stimulus, at least one part of at least one layer is exposed in a tile pattern in which each tile is separated by the interval of the unexposed medium between the tiles from any adjacent tile.例文帳に追加

三次元物体の先に固化された層上に媒質の層を施し、その層を固化する刺激に選択的に露出して三次元物体の１つの層を形成する際、各々のタイルが近隣のいずれのタイルからもタイルの間の露出されていない媒質の間隔だけ隔てられているタイルのパターン状に、少なくとも１つの層の少なくとも一部を露出する。 - 特許庁

The imaging apparatus has an imaging lens 11, an imaging unit for imaging an image of a subject by exposing the imaging lens 11, a lens barrel 16 for housing and covering the imaging lens 11, a zoom drive unit, and a CPU for performing a control to drive the zoom drive unit to house the lens barrel 16 and cover the imaging lens 11 after the imaging section images a predetermined number of images.例文帳に追加

撮像レンズ１１を有し、当該撮像レンズ１１を露出させて被写体を撮像する撮像部と、撮像レンズ１１を収納して被覆するレンズ鏡筒１６及びズーム駆動部と、撮像部により所定枚数撮像された後、ズーム駆動部を駆動させてレンズ鏡筒１６を収納し撮像レンズ１１を被覆した状態とする制御を行うＣＰＵとを備える。 - 特許庁

To deposit a film substantially on the same level from an imaging section to a peripheral circuit by reducing stepped portions on a boundary of the imaging section and the peripheral circuit, even if a wiring layer in the peripheral circuit of a solid-state imaging device is multilayered, and to prevent a dielectric breakdown without exposing a wiring pattern during the etch-back of an upper layer film to improve sensitivity characteristics.例文帳に追加

固体撮像素子の周辺回路部における配線層が多層化した場合でも、撮像部と周辺回路部との境界部分における上層膜の段差をなくすことで、上層膜を撮像部から周辺回路部に亘って略同じ高さに成膜し、また、上層膜のエッチバック時に配線パターンを露出せずに絶縁破壊を防止し、感度特性を良好にすること。 - 特許庁

As a result, even when water is made to pass through the inside the pipe 11, the inside surface of the portion 7 of the faucet 6 exposing to the outdoor air can be sterilized since the ultraviolet rays reflected on the surface 15 can be transmitted through the pipe 11 and the inside surface of the portion 7 of the faucet 6 can be irradiated with the transmitted ultraviolet rays.例文帳に追加

これにより、蛇口６の先端部からの水を連通管１１内を通過させてランプ１６に水がかからないようにしながら直接紫外線が届かない蛇口６の出口部分７の内面に反射面１５で反射した紫外線を連通管１１を透過させて照射でき、外気に触れる蛇口６の出口部分７の内面をも殺菌することができるようにしている。 - 特許庁

The plate making method includes imagewise exposing and developing a lithographic printing forme original plate having a photosensitive recording layer on one side of an aluminum support and a back coat layer containing an organic polymer compound on the other side of the aluminum support, and then carrying out treatment with a plate surface protective liquid containing a copolymer represented by a general formula (1).例文帳に追加

アルミニウム支持体の片面に感光性記録層を有し、感光性記録層を有する面に対して反対面のアルミニウム支持体上に有機高分子化合物を含有するバックコート層を有する平版印刷版原版を、画像様に露光し、現像処理した後に、下記一般式（１）で示される共重合体を含む版面保護液で処理する製版方法。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of exactly writing an electrostatic latent image on a photoreceptor drum by exposure by surely preventing the intrusion of toner into an exposure unit and also surely preventing the soiling by the toner on the optical path of exposing light and the interruption of the exposure by cleaning action in the case of writing the electrostatic latent image on the photoreceptor drum by the exposure.例文帳に追加

静電潜像を露光により感光体ドラム上に書き込む際に露光ユニットへのトナーの侵入を確実に防止するとともに、露光される光の光路上でのトナーによる汚染や清掃動作による露光の遮断を確実に防止して静電潜像を露光により感光体ドラム上に正確に書き込むことができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the color image forming method of electrifying an image formation body 10, exposing the image formation body 10 to an image from the reverse side, and repeating reversal development to put toner images one over another, exposure of two colors when a secondary color having maximum density is carried out almost equal to a potential contrast by exposure when a primary color having maximum density is formed.例文帳に追加

像形成体１０に帯電し、当該像形成体１０の裏面から像露光し、反転現像を繰り返してトナー像を重ね合わせて形成するカラー画像形成方法で、最大濃度を有する二次色を形成する際の２色の露光は最大濃度を有する一次色を形成する際の露光による電位コントラストと略等しくなるように行う。 - 特許庁

A process of manufacturing a semiconductor device having the gate electrode made of metal silicide which is a metal-containing material or metal alone includes steps of: etching the gate electrode 14G, thereafter oxidizing a surface of a gate part; and trimming the gate electrode 14G by exposing the gate part to a gaseous substance containing organic acid and heating it to volatilize a reaction product of the metal and the organic acid.例文帳に追加

金属を含む材料である金属シリサイド或いは金属単体から成るゲート電極をもつ半導体装置を作製する工程に於いて、ゲート電極１４Ｇのエッチング後にゲート部の表面を酸化させ、ゲート部を有機酸を含むガス状物質に曝露すると共に加熱して金属と有機酸との反応生成物を揮発させてゲート電極１４Ｇのトリミングを行う。 - 特許庁

To provide a repairing device and a repairing construction method using this repairing device, capable of surely repairing a connecting part, after cutting an invert, for exposing a lower half part of a connecting place buried in the invert by the repairing device, even when a connecting part lower half part of a manhole peripheral wall and a pipe is buried in the invert.例文帳に追加

本発明は、マンホール周壁と管との接続部下半分がインバートに埋もれているような場合にあっても、補修装置によって、インバートに埋もれている接続箇所の下半分を露出させるために、インバートを切削でき、その後確実に接続部の補修が出来る補修装置及び該補修装置を使用した補修工法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

A method of manufacturing a conductive film includes: a development step of forming a metal silver portion by exposing and developing a photosensitive film having a silver salt emulsion layer on a support; a reduction treatment step of contacting a reducing agent to a surface of the metal silver portion; and a smoothing treatment step of smoothing the photosensitive film that has been subjected to the reduction treatment.例文帳に追加

支持体上に銀塩乳剤層を有する感光フィルムを露光して現像処理することにより金属銀部を形成する現像工程と、金属銀部の表面に還元剤を接触させる還元処理工程と、還元処理が施された感光フィルムを平滑化する平滑化処理工程と、を有することを特徴とする導電性膜の製造方法。 - 特許庁

This attachment 10 being detachably installed on a head section of an ultrasonic probe 20 includes: a flat body abutment face 13; an opening provided in the body abutment face 13, allowing the insertion of the head section of the ultrasonic probe 20 and exposing its ultrasonic radiation face 21; and locking means 12 for locking the head section of the ultrasonic probe 20.例文帳に追加

平面状の身体当接面１３と、前記身体当接面１３に設けられ超音波プローブ２０のヘッド部を挿通させてその超音波放射面２１を露出させるための開口と、前記超音波プローブ２０のヘッド部を係止する係止手段１２とを備え、超音波プローブ２０のヘッド部分に着脱自在に装着することのできるアタッチメント１０を構成する。 - 特許庁

The catheter introducing implement has a catheter 310 to be dwelled inside a blood vessel, a catheter hub 330 to which the catheter is fixed and an inner needle 310 capable of being inserted into the catheter and the catheter hub and removed, and is provided with a needle guide 380 capable of changing from the first state of covering the root part of the catheter and the second state of exposing the covered part.例文帳に追加

血管内に留置されるカテーテル３１０と、カテーテルが固定されているカテーテルハブ３３０と、カテーテルおよびカテーテルハブ内に挿入され抜去可能な内針３１０とを有し、前記カテーテルの根元部分を、カバーする第１の状態から、カバーされた部分が露出した第２の状態へと変化させることが可能なニードルガイド３８０を有するカテーテル導入用具。 - 特許庁

A tape 10 is set in an exposure machine so that a wiring pattern 5 formed by exposing and etching one face turn downside: a registration position of its downside wiring pattern 5 is read by a photosensor 16, and the tape 10 is registered so that the read position agree with a predetermined target position for pattern exposure of the top face coated and prebaked with a photoresist 6 or 8.例文帳に追加

片面を露光・エッチングして形成した配線パターン５を下面側になるように露光機にセットし、その下面側の配線パターン５の合わせ位置を光センサ１６で読み取り、その読み取った位置が所定の目標位置に合致するようにテープ１０の位置決めを行い、予めフォトレジスト６又は８をコートしプリベークしてある上面に対するパターン露光を行う。 - 特許庁

The vacuum deposition system is provided with: an evaporation source; a substrate holder oppositely arranged in the upper part of the evaporation source, and provided so as to support a semiconductor substrate and be step-movable in a plane; and a sticking prevention mask fixedly arranged between the substrate holder and the evaporation source and exposing a part of the semiconductor supported by the substrate to the evaporation source.例文帳に追加

蒸発源と、この蒸発源の上方に対向配置され、半導体基板を支持して、平面内でステップ移動可能に設けられた基板ホルダと、この基板ホルダおよび前記蒸発源間に固定配置され、前記基板ホルダに支持される半導体基板の一部を前記蒸発源に露出する開口部を有する防着マスクとを備えた真空蒸着装置。 - 特許庁

The process for fabricating a semiconductor device comprises a step for forming a wiring structure of a conductive material being buried in a first insulator, a step for exposing the wiring structure by removing the first insulator, and a step for forming a second insulator to bury the wiring structure.例文帳に追加

第１の絶縁層に埋設される、導電材料よりなる配線構造を形成する配線構造形成工程と、前記第１の絶縁層を除去して前記配線構造を露出させる絶縁層除去工程と、 前記配線構造を埋めるように第２の絶縁層を形成する絶縁層埋設工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The color filter comprises a polymeric film formed in steps of exposing a photosensitive resin composition containing at least a binder resin, a monomer and a photopolymerization initiator to UV rays and then heating.例文帳に追加

少なくともバインダー樹脂とモノマーと光重合開始剤とを含む感光性樹脂組成物を紫外線露光し加熱工程を経てポリマー膜としたカラーフィルタであって、前記カラーフィルタの前記ポリマー膜に含まれる未反応光重合開始剤の前記ポリマーに対する残留比Ｘと、未反応モノマーの前記ポリマーに対する残留比Ｙが、下記の式（１）および式（２）を満たすことを特徴とする。 - 特許庁

The exposing means restarts the exposure of the sample to the pattern from an unexposed subfield based on the return signal.例文帳に追加

請求項１の荷電粒子線露光装置は、複数のサブフィールドが設けられた試料に、パターンを露光する露光手段と、外部磁界の変動が予め定められた値より小さくなる場合に、復帰信号を出力する復帰信号出力手段とを有する荷電粒子線露光装置であって、前記露光手段は、前記復帰信号に基づいて、未露光の前記サブフィールドから前記パターンの露光を再開することを特徴とする。 - 特許庁

In the method for making a lithographic printing plate by exposing and developing a photographic material having a silver halide emulsion layer and then subjecting the material to the treatment to impart oleophilic property to selectively change the undeveloped silver halide image part into oleophilic and ink receptive, the plate after the development and before the oleophilic treatment is treated with a treating liquid containing a dimercapto compound and triazinetrithiol.例文帳に追加

ハロゲン化銀乳剤層を有する写真材料を露光、現像処理後、親油化処理を施し、未現像のハロゲン化銀像部を選択的に親油化し、インキ受容性にする平版印刷版の作成方法において、現像処理後、親油化処理前にジメルカプト化合物とトリアジントリチオールを含有する処理液で処理することを特徴とする平版印刷版の作成方法。 - 特許庁

The field effect transistor includes: a first semiconductor layer 14 made of a first group III-V nitride; a second semiconductor layer 15 formed on the first semiconductor layer 14, made of a second group III-V nitride and having a gate recess 16 for exposing the first semiconductor layer 14; and a gate electrode 18 formed on the gate recess 16 in the first semiconductor layer 14.例文帳に追加

電界効果トランジスタは、第１のIII−Ｖ族窒化物からなる第１の半導体層１４と、第１の半導体層１４の上に形成された第２のIII−Ｖ族窒化物からなり、第１の半導体層１４を露出するゲートリセス部１６を有する第２の半導体層１５と、第１の半導体層１４におけるゲートリセス部１６の上に形成されたゲート電極１８とを備えている。 - 特許庁

When the door of the truck is opened, an opening part exposing the nearly whole height of the bag is formed on the truck.例文帳に追加

発酵処理槽で生成された処理物の排出口と、前記処理物を前記排出口より排出する攪拌手段とを有する処理装置に於いて、前記排出口より排出された処理物を着脱可能な袋に直接排出すると共に、前記袋を移動可能な台車に着脱可能に設置し、前記台車の扉を開した時、前記袋のほぼ全高が露出する開口部を前記台車に形成する。 - 特許庁

Next, a first metal layer 112 is formed in an N-channel MOSFET forming region 106 and the P-channel MOSFET forming region 107 and the first metal layer 112 and the first mask 111 are removed from the P-channel MOSFET forming region 107, thereby exposing the gate insulating film 110B formed in the P-channel MOSFET forming region 107.例文帳に追加

次に、ＮチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域１０６およびＰチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域１０７に第一金属層１１２を形成し、ＰチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域１０７から第一金属層１１２および第一マスク１１１を除去することにより、ＰチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域１０７に形成されたゲート絶縁膜１１０Ｂを露出させる。 - 特許庁

The resin opening method includes in this order: a step of laminating a photosensitive resin layer on a substrate having an opening; a step of totally exposing the photosensitive resin layer on condition that a contrast forming substance that affects photosensitivity of the photosensitive resin layer is present inside the opening; and a step of removing the photosensitive resin layer of the opening by wet treatment.例文帳に追加

開口部を有する基材に感光性樹脂層をラミネートするラミネート工程、開口部内に感光性樹脂層の感光性に影響を与えるコントラスト形成物質が存在する状況で感光性樹脂層を全面露光する全面露光工程、湿式処理により開口部の感光性樹脂層の除去を行う感光性樹脂層除去工程をこの順で含む樹脂開口方法。 - 特許庁

The method comprises a step for protecting functional groups present on polymerizable monomers with photoactive groups to form protected monomers, a step for polymerizing the protected monomers to form a protected polymer and a step for exposing the protected polymer to an ultraviolet light of wavelength that removes the photoactive groups from the functional groups, thereby forming the functionalized latex particles.例文帳に追加

当該方法は、光活性基により重合性モノマー上の官能基を保護し保護されたモノマーを形成するステップと、前記保護されたモノマーを重合させて保護されたポリマーを形成するステップと、官能基から光活性基を脱離させる紫外波長光に前記保護されたポリマーさらし、それによって官能基化されたラテックス粒子を形成するステップとを包含する。 - 特許庁

This liquid immersion exposure device 1 contains an immersion liquid L between a wafer W with a photosensitizing agent applied and an exposure lens 10 and has a preprocessor 30 for immersing a surface of the wafer W in ozone water or exposing it to ozone irradiation or ultraviolet ray before containing the immersion liquid L between the wafer W and the exposure lens 10.例文帳に追加

本発明は、感光剤の塗布されたウェハＷと露光用のレンズ１０との間に液侵液Ｌを介在させて露光を行う液侵露光装置１において、ウェハＷとレンズ１０との間に液侵液Ｌを介在させる前に、ウェハＷの表面にオゾン水を浸す、もしくはオゾンを照射する、もしくは紫外線を照射する前処理部３０を備えているものである。 - 特許庁

The electrostatic discharge protection device comprises a low-temperature co-fire ceramic film including a first patterned conductor electrode material layer, a second patterned conductor electrode material layer, and at least one via hole for exposing both a part of the first patterned conductor electrode material layer and a part of the second patterned conductor electrode material.例文帳に追加

上記静電放電保護装置は、第１のパターン化された導体電極材料層と、第２のパターン化された導体電極材料層と、上記第１のパターン化された導体電極材料層の一部及び上記第２のパターン化された導体電極材料層の一部をともに露出させる少なくとも一つのビアホールとを有する低温共焼結セラミックフィルムを備えている。 - 特許庁

The semiconductor device and its manufacturing method are provided with an accurate positioning mark by having a semiconductor board 4 providing a circuit element, an insulation layer 1 provided on the semiconductor board 4 and having an opening part 2, and positioning marks 3, 5 provided in the insulation layer 1, exposing the upper face on the opening part 2 and covered by the insulation layer other than the upper face.例文帳に追加

回路素子が設けられた半導体基板４と、前記半導体基板４上に設けられ、開口部２を有する絶縁層１と、前記絶縁層１中に設けられ、前記開口部２にその上面が露出し、上面以外は前記絶縁層で被覆された位置合わせマーク３，５とを有することで、高精度な位置合わせマークを備えた半導体装置及びその製造方法。 - 特許庁

In the method of suppressing the production of the alkali gas in the concrete by neutralizing the surface layer part of the concrete after the concrete is placed in the indoor, a neutralization means includes at least: a step of filling a concrete neutralizing gas in a space in contact with the surface layer part of the concrete; and a step of exposing the surface layer part to the filled concrete neutralizing gas.例文帳に追加

屋内でコンクリートが打設された後に当該コンクリートの表層部分を中性化することで、コンクリート内のアルカリガスの発生を抑制する方法であって、中性化の手段として、少なくとも、コンクリートの表層部分に接する空間にコンクリート中性化ガスを充填する行程と、その表層部分を、充填したコンクリート中性化ガスに暴露する行程とを含む - 特許庁

In a maskless lithographic system having a space light modulator (SLM), the method of forming the gray scale comprises the processes of: forming a pattern by exposing the above-mentioned object with light; and forming the region of the gray scale level on the object, by modulating the exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

This card peripheral device consists of a circuit board 12, a connector 14 having plural contacts for connecting the circuit board 12 with another device, and a hollow card box 16 with an opening 30 for exposing the contact point 18 against another device which can house and fix the circuit board 12 together with a connector 14 to slide.例文帳に追加

回路基板１２と、装着対象機器に回路基板１２を接続するための複数のコンタクトを備えたコネクタ部１４と、各コンタクトの装着対象機器側接点１８を露出するための開口部３０を有し、且つ回路基板１２を固定して収容すると共にコネクタ部１４を摺動可能に収容する中空カード形の筐体１６とを備えて成るカード形周辺装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method comprises the steps of machining the {0001} plane of silicon carbide, etching the surface of the silicon carbide by plasma of a material containing at least a halogen after the machining step, and exposing the surface of the silicon carbide to a plasma of a material not containing a halogen and containing at least oxygen after the etching step.例文帳に追加

炭化珪素の｛０００１｝面を、機械加工する機械加工工程と、前記機械加工工程後に、前記炭化珪素の表面を、少なくともハロゲンを含有する物質のプラズマによりエッチングする工程と、前記エッチング工程後に、前記炭化珪素の表面を、ハロゲンを含有せず、なおかつ少なくとも酸素を含有する物質のプラズマに曝露する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

An exposing device carries out exposure where a photoreceptor belt is wound around an accurately positioned driving roller to prevent the exposure position on the photoreceptor belt from vibrating, and a one-sidedness correcting means for the photoreceptor belt is provided nearby a driven roller shaft on a slaking side of the photoreceptor belt to reduce the rotational load on the photoreceptor belt.例文帳に追加

位置決めが正確になされている駆動ローラに感光体ベルトが捲き掛かっている位置で露光装置から露光される構成とすることで、感光体ベルト上の露光位置の振動等を防止し、さらに、感光体ベルトの緩み側となる従動ローラ軸付近に感光体ベルトの片寄り矯正手段を設けることで、感光体ベルトの回転負荷を低減する。 - 特許庁