「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(122ページ目) - Weblio英語例文検索

The exposure apparatus for exposing the patterns of the original plates on the substrate by double patterning includes a stage that moves with the original plate placed thereon, a holding means for holding the original plate to be exposed following the original plate placed on the stage, a heating means for heating the original plate held by the holding means, and a control means for controlling the heating means.例文帳に追加

ダブルパターニングにより複数の原版のパターンを基板に露光する露光装置において、 原版を搭載して移動するステージと、前記ステージに搭載されている原版の次に露光すべき原版を保持する保持手段と、前記保持手段により保持された原版を温調する温調手段と、前記温調手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the substrate 1 has an exposure step of exposing the substrate 31 having the photosensitive uncured resin layers 33 which are half-cured near the surface by exposure and made insoluble in the developer, a developing step of developing the substrate 31, a heating process step of heating the substrate 31 and a projecting part removing step for breaking off the projecting parts 37 by jetting liquid to the substrate 31.例文帳に追加

基板１の製造方法は、露光により表面近傍が半硬化し現像液に不溶となる感光性の未硬化樹脂層３３を有する基板３１を露光する露光工程と、基板３１を現像する現像工程と、基板３１を加熱する加熱工程と、基板３１に液体を噴射し突出部３７を折り取る突出部除去工程とを備える。 - 特許庁

In the semiconductor device to which a chip size package is applied, a plate 31 to be laminated on the rear surface of a semiconductor chip 1 is formed in shape for exposing at least a pair of corners of the semiconductor chip 1 to be extended from the plate 31, or more particularly, in shape smaller in plane than the semiconductor chip 1, or in shape removing at least the pair of the corners.例文帳に追加

チップサイズパッケージが適用される半導体装置において、半導体チップ１の裏面に張り合わされるプレート３１を、半導体チップ１の少なくとも一対の角部分がプレート３１からはみ出すように露出する形状、具体的には、半導体チップ１よりも平面的に小さい形状、あるいは少なくとも一対の角部分を切除した形状とする。 - 特許庁

In order to sell more in the Japanese market, start-ups that don’t have track records should, for instance, develop a brand strategy for exposing their products through exhibitions, seminars, and mass media, arrange an alliance with a large enterprise for achieving more confidence, form a partnership with other ventures and SMEs for offering more diverse and/or sophisticated products, and use technology assessment services for demonstrating the level of their technologies. 例文帳に追加

実績の乏しいベンチャー企業が、日本市場での販売拡大を図るためには、展示会やセミナー、マスコミへの露出などを通じたブランド戦略や、大企業とのアライアンスによる信頼感拡大、ベンチャー・中小企業同士の連携による提供商品の多様化・高度化、技術評価サービス利用による技術レベルの可視化などに努力していく必要がある。 - 経済産業省

The method for delivery of the biologically active drug to a specified tissue site includes a step for forming a solution of the microbubbles filled with an inert gas by capsulating a protein to bind the microbubbles with the biologically active drug, a step for administering the solution, and a step for exposing the tissue site to the ultrasound so that the biological drug may be released at the site.例文帳に追加

特定の組織部位に生物学的活性薬剤を送達する方法であって、タンパク質カプセル化し不溶性ガスを充填した微小気泡の溶液を形成する工程であって、該微小気泡が該生物学的薬剤に結合される、工程；該溶液を動物に投与する工程；および該生物学的薬剤が該部位に放出されるように、該組織部位を超音波に曝露する工程、を包含する方法。 - 特許庁

The method for producing the inorganic fiber sheet by spinning a spinning dope comprising an inorganic sol by a static spinning method includes feeding the spinning dope into the atmosphere having ≤40% humidity to form a gel fiber, exposing the formed gel fiber to high-humidity atmosphere having the humidity ≥10% higher than the humidity of the fed atmosphere, accumulating the fiber to form a fiber web, and firing the fiber web.例文帳に追加

前記製造方法は、無機系ゾルからなる紡糸原液を静電紡糸法により紡糸し、無機繊維シートを製造する方法であって、前記紡糸原液を湿度４０％以下の雰囲気に供給し、形成したゲル繊維を、前記供給雰囲気湿度よりも１０％以上高い高湿度雰囲気に曝した後に集積して繊維ウエブを形成し、その後、焼成することを特徴とする。 - 特許庁

The film deposition layer structure is provided with: a board provided with a level difference having a bottom surface and a side surface; a first layer formed to cover over the bottom surface and the side surface of the level difference; and a second layer selectively formed on the first layer, and exposing parts of the first layer on the bottom surface and the side surface of the level difference, respectively.例文帳に追加

底面と側面とを有する段差が設けられた基体と、前記段差の前記底面と前記側面とを覆うように設けられた第１の層と、前記第１の層の上に選択的に形成され、前記段差の前記底面及び前記側面の上において前記第１の層の一部をそれぞれ露出させる第２の層と、を備えたことを特徴とする成膜層構造体が提供される。 - 特許庁

The method for recycling a powder coating waste comprises steps of putting the powder coating waste in a container, rotating the container on a rotary shaft tilted at an angle in a range from 20 degrees to 70 degrees to the horizontal direction, and exposing the rotated powder coating waste until the fine particle with a size in a range from 1 mm to 3 cm to heat.例文帳に追加

容器中に粉末塗料廃棄物を配置する工程と、水平に対して２０度から７０度の角度で傾斜される回転軸の周囲でその容器を回転する工程と、１ｍｍから３ｃｍの範囲内のサイズを有する微粒子が形成されるまで回転する粉末塗料廃棄物を熱にさらす工程とを含むことを特徴とする粉末塗料廃棄物のリサイクルのための方法。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes: laying on a substrate a film comprising materials containing an alkali-soluble polyimide (A) having a siloxane structure and a photosensitive agent (B) having a quinonediazide structure; exposing and developing the film to form a resist layer having a predetermined pattern on the substrate; bringing an acidic chemical solution into contact with the resist layer; and curing the resist layer.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法においては、シロキサン構造を有するアルカリ溶解性ポリイミド（Ａ）及びキノンジアジド構造を有する感光剤（Ｂ）を含む材料で構成されたフィルムを基板上に積層し、前記フィルムに対して露光・現像することにより前記基板上に所定のパターンを有するレジスト層を形成し、前記レジスト層に酸性の薬液に接触させた後に前記レジスト層を硬化させる。 - 特許庁

A process includes: a step of contacting at least one aliphatic cyclic ester with at least one catalyst in a supercritical fluid to from at least one polyester; a step of exposing at least a portion of a substrate material to the supercritical fluid possessing the at least one polyester; and a step of grafting the at least one polyester onto or within the substrate material.例文帳に追加

少なくとも１つの脂肪族環状エステルを、超臨界流体中で少なくとも１つの触媒に接触させて、少なくとも１つのポリエステルを形成する工程；基材物質の少なくとも一部を、該少なくとも１つのポリエステルを有する該超臨界流体に曝す工程；および該少なくとも１つのポリエステルを該基材物質の上または該基材物質内にグラフトする工程を含む、プロセス。 - 特許庁

The exposure unit E scans and exposes with a laser beam reflected with a polygon mirror 36 rotating around a vertical axis, the exposure unit E is supported by frames 46 via a plurality of vibration proof bodies 47, and the the reflecting face 36m of the polygon mirror 36 is located on a hypothetical plane S which connects the connecting points of the plurality of vibration proof bodies 47 and the exposing unit E.例文帳に追加

レーザビームを縦向き姿勢の軸芯周りで回転するポリゴンミラー３６で反射させて走査露光を行う露光ユニットＥを備えると共に、この露光ユニットＥがフレーム４６に対して複数の防振体４７を介して支持されると共に、この複数の防振体４７と露光ユニットＥとの連結位置を結ぶ仮想平面Ｓ上に前記ポリゴンミラー３６の反射面３６ｍを設定した。 - 特許庁

In this manufacturing method, when a group of resist patterns are formed, a first photo mask 1 composed of a phase shift mask is used for exposure by circular illumination, and a second photo mask 6 composed of a chrome mask is used for exposing by oblique incidence deformation illumination, thus allowing accurate transfer in both the patterns to be transferred by the first and second photo masks 1 and 6.例文帳に追加

一群のレジストパターンを形成する際、まず、位相シフトマスクで構成される第１のフォトマスク１を用いて円形照明により露光し、次いでクロムマスクで構成される第２のフォトマスク６を用いて斜入射変形照明により露光することにより、第１のフォトマスク１で転写されるパターンおよび第２のフォトマスク６で転写されるパターンの両者において高精度な転写が可能となる。 - 特許庁

The graft polymer pattern forming method includes: (a) a step of forming a photocurable resin composition layer on a substrate; (b) a step of forming a photoreactive layer containing a compound having a polymerizable double bond on the photocurable resin composition layer; and (c) a step of patternwise exposing the photoreactive layer to produce a graft polymer in the exposed area, whereby a graft polymer pattern is formed.例文帳に追加

（ａ）基材上に光硬化性樹脂組成物層を形成する工程、（ｂ）該光硬化性樹脂組成物層上に、重合性の二重結合を有する化合物を含有する光反応性層を形成する工程、及び、（ｃ）該光反応性層をパターン状に露光して、露光した領域にグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーパターンを形成する工程を有することを特徴とするグラフトポリマーパターン形成方法。 - 特許庁

The plate making system includes: an ink jet drawing device 1 for drawing a predetermined image with an ultraviolet absorbing ink on a surface of a transparent plastic film, wherein the surface has at least hydrophilicity and ink absorbency; an exposure device 6 for exposing a photoreceptor 5 with ultraviolet radiation through the drawn transparent plastic film as a photomask; and a developing device 7 for developing the exposed photoreceptor to make a printing plate.例文帳に追加

製版システムは、少なくとも表面が親水性、インク吸収性の透明プラスチックフィルムの表面に所定の画像を紫外線吸収性インクを用いて描画するためのインクジェット描画手段１、描画された前記透明プラスチックフィルムをフォトマスクとして感光体５に紫外線を露光する露光手段６、および露光された前記感光体を現像して印刷版とする現像手段７を具備する。 - 特許庁

A method for mechanically stimulating tissue forming cells so as to be applied to tissue engineering and regeneration by exposing cells in mechanical stress generated by a magnetic body generating force in response to applied magnetic field and transmitting the force to the cells, is provided, wherein the mechanical stress to be added is produced by linear translation motion of the magnetic body in the added magnetic field.例文帳に追加

印加される磁場に応答して力を発生し、組織形成細胞にその力を伝達することができる磁性体が発生する機械的応力に該細胞を暴露しながら、組織工学および再生に適用するために該細胞を機械的に刺激する方法であって、印加される該機械的応力が、印加される該磁場中での該磁性体の直線的な並進運動から引き起こされる方法。 - 特許庁

The method for making a phase modulation type hologram not substantially accompanied by a surface relief image due to irregularity includes (1) a step of computing a variation pattern of light transmittance as a mask pattern through a computer generated hologram, (2) a step of making a photomask from the computed mask pattern, and (3) a step of exposing an index modulation type photopolymer with light passed through the photomask.例文帳に追加

（１）マスクパターンとして計算機合成ホログラムにより光線透過率の変化パターンを計算する工程、（２）計算されたマスクパターンからフォトマスクを作製する工程、および（３）当該フォトマスクを通過した光により屈折率変調型フォトポリマーを露光する工程とを含むことを特徴とする、実質的に凹凸による表面レリーフイメージを伴わない位相変調型ホログラムの作製方法。 - 特許庁

From a structure formed of a micro-material or member in a micrometer order easy to be subjected to thermal-chemical influence together with the other material, for exposing the desired micro-material or member by mechanical machining, using an ultrashort pulse laser with an oscillation pulse width of ≤1 picosecond, first, machining is performed with power higher than an abrasion threshold value from the circumference of the object sealed into a solid material.例文帳に追加

熱的、化学的影響を受けやすいマイクロメートルオーダーの微小な物質又は、部材が他の物質と共に形成している構造物から、所望の微小な物質又は、部材を機械的な加工で露出させるために、発振パルス幅が１ピコ秒以下である超短パルスレーザーを用いて、第１に固体材料内部に封じ込められた目標物の周囲からアブレーションしきい値よりも高いパワーで加工する。 - 特許庁

A method for direct- to-plate lithographic printing comprises the steps of manufacturing the precursor by the above-described method, exposing the image recording layer as a thermal or optical image, processing the image recording layer in some cases thereby obtaining a printing master, applying an ink and/or dampening water to the master, and supplying a cleaning liquid to the lithographic base to remove the ink accepting zone from the lithographic base.例文帳に追加

上記方法により印刷版前駆体を製造し、像記録層を熱又は光に像通りに露出させ、そして場合により像記録層を処理し、それにより印刷マスターを得、インキ及び／又は湿し水を印刷マスターに適用し、平版基材にクリーニング液を供給することにより平版基材からインキ受容区域を除去する段階を含んでなるダイレクト−ツー−プレート平版印刷方法。 - 特許庁

A two-step method of making of a security printed image is disclosed and includes coating of the surface of a substrate with a predetermined image shape with an ink containing flaked magnetic pigment in a predetermined concentration, exposing a wet printed image to a magnetic field to align magnetic particles in a predetermined manner, allowing the ink to cure, and coating the substrate with a second printed image on the top of the first image.例文帳に追加

セキュリティ印刷されたイメージを作成する２工程方法が、開示され、所定の濃度でフレーク入りの磁性顔料を含むインクで、所定のイメージを有する基板の表面をコーティングすること、未乾燥の印刷イメージを、所定の形で磁性粒子を整列させるように磁界にさらすこと、インクが硬化するのを可能にすること、および第１のイメージの上の第２の印刷イメージで基板をコーティングすることを含む。 - 特許庁

The image exposure device for exposing photosensitive material to the light obtained by modulating illuminating light emitted from a light source in accordance with the spectral sensitivity of the photosensitive material by the two-dimensional spatial optical modulation element is equipped with an optical system for preventing the two-dimensional spatial optical modulation element from being irradiated with the illuminating light in the non image- exposure time.例文帳に追加

感光材料の分光感度に応じた光源から射出された照明光を二次元空間光変調素子で変調した光によって感光材料を露光する画像露光装置であって、非画像露光時に前記照明光が前記二次元空間光変調素子を照射しないようにする光学系を備えたことを特徴とする画像露光装置を提供することにより前記課題を解決する。 - 特許庁

The semiconductor device manufacturing method comprises a process for forming a photosensitive film by applying a solution of a photosensitive material, a process for baking the photosensitive film, a process for determining an exposure condition by using time from the baking of the photosensitive film up to the exposure of the photosensitive film, and a process for exposing the photosensitive film with a pattern under the determined exposure condition.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、感光性材料の溶液を塗布することにより感光性膜を形成する工程と、前記感光性膜をベークする工程と、前記感光性膜をベークしてから前記感光性膜を露光するまでの時間を用いて、露光条件を定める工程と、前記定められた露光条件で、前記感光性膜にパターンを露光する工程とを具備する。 - 特許庁

The method includes a step of filling a wiring groove or a contact hole, by stacking a wiring metal in the wiring groove or the contact hole formed on the insulation film on a semiconductor substrate, a step for exposing the insulating film by polishing the wiring metal, a step of cleaning the semiconductor substrate, and a step for recess etching the surface of the wiring metal embedded in the wiring groove or the contact hole.例文帳に追加

半導体基板上の絶縁膜に形成された配線溝又はコンタクト孔に配線金属を堆積して前記配線溝又はコンタクト孔に充填する工程と、前記配線金属を研磨して前記絶縁膜を露出する工程と、前記半導体基板を洗浄する工程と、前記配線溝又はコンタクト孔に埋め込まれた前記配線金属表面をリセスエッチングする工程を有している。 - 特許庁

The boundary contact comprises a first conductivity type first region and a second conductivity type second region formed adjacently to each other on a semiconductor substrate, a silicide abutting on the first and second regions, an insulation layer covering a part of the silicide, a contact formed to penetrate the insulation layer thus exposing a part of the silicide, and a metal layer filling the contact and being concatenated with the silicide.例文帳に追加

半導体基板上に形成されて相互に隣接する第１導電形態の第１領域と第２導電形態の第２領域と、第１及び第２領域に接触するシリサイドと、シリサイドの一部を被覆する絶縁層と、絶縁層内に形成されて絶縁層を貫通し、シリサイドの一部を露出させるコンタクトと、コンタクト内に充填されてシリサイドに連接する充填金属層と、を具えている。 - 特許庁

This exposure device for exposing a substrate to a pattern formed on an original plate using extreme ultraviolet light is characterized by comprising the optical element on which the extreme ultraviolet light is incident, a body tube for supporting the optical element, a chamber for housing the body tube, and partition walls provided in the body tube to surround the optical path of the extreme ultraviolet light without preventing the optical path of the extreme ultraviolet light.例文帳に追加

極端紫外光を用いて原版に形成されたパターンを基板上に露光する露光装置において、前記極端紫外光が入射する光学素子と、該光学素子を支持する鏡筒と、該鏡筒が収納されるチャンバーと、前記極端紫外光の光路を妨げず、且つその光路を囲むように前記鏡筒内部に設けられた隔壁とを有することを特徴とする。 - 特許庁

In the method for manufacturing at least one three-dimensional object 9 via a step of coagulating an optically polymerizable material 3 by exposing the inside of a building flat surface to electromagnetic radiation at the same time or almost at the same time, the three-dimensional object 9 is coagulated to the amount exceeding a designated curing depth at that point in the building direction without interrupting the supply of the electromagnetic energy during the radiation time.例文帳に追加

構築平面内を電磁照射によって一斉に又はほぼ一斉に露光することにより、光重合性材料３を凝固させるステップを介して少なくとも１つの３次元物体９を製造する方法であって、３次元物体９が、照射時間中に電磁エネルギーの供給が中断されることなく、主構築方向にその時点の指定の硬化深さを超える量まで凝固される。 - 特許庁

The box cover 3 is formed to reciprocate along the opening surface of a wiring box 2 between a state for closing the engaging opening 4 of an engaging portion 10 and an engaged portion 12 and a state for exposing the opening 4, and to be removed from the wiring box 2, in a state where the engaging portion 10 and the engaged portion 12 are disengaged through movement.例文帳に追加

ボックスカバー３は、係合部１０と被係合部１２とが係合する開口４を閉塞する状態と開口４が露出する状態との間において配線用ボックス２の開口面に沿って往復運動可能に形成されているとともに、前記移動によって係合部１０と被係合部１２との係合が解除された状態で前記配線用ボックス２から取外し可能に形成されてなる。 - 特許庁

The method for producing an electrical conductor on a substrate comprises the steps of: applying a conductive blend composed of at least one component selected from the group consisting of a metallic particle, a metal precursor and a mixture thereof on the substrate; and sintering the conductive blend while exposing the conductive blend to a negatively charged ionic reducing gas to change the component into a metal and consequently produce the electrical conductor.例文帳に追加

基材上に導電体を作製する方法であって、金属粒子、金属前駆体及びそれらの混合物からなる群から選択された少なくとも１種の成分で構成された導体配合物を基材上に塗布する工程、該導体配合物を負に帯電したイオン性の還元性ガスに曝露しながら、焼結により該成分を金属に変えそして導電体を作製する工程、を含む。 - 特許庁

In the method for making a lithographic printing plate by exposing a photographic material having a silver halide emulsion layer, developing (not including silver complex salt diffusion transfer development), and then processing with a processing liquid containing a silver halide solvent and an organic compound having a mercapto group in the molecule, the photographic material contains a compound having two or more propylenoxy groups in the molecule.例文帳に追加

ハロゲン化銀乳剤層を有する写真材料を露光し、現像処理（銀錯塩拡散転写現像を含まない）後、ハロゲン化銀溶剤と分子中にメルカプト基を有する有機化合物を含有する処理液で処理する平版印刷版の作成方法に於いて、前記写真材料が分子中にプロピレンノキシ基を２個以上有する化合物を含有する事を特徴とする平版印刷版の作成方法。 - 特許庁

In the circuit board including pads for the mounting ball grid array and wiring, in the mounting structure of the ball grid array, in the electro-optical device and in the electronic apparatus; the circuit board includes the pads for mounting the ball grid array, includes the wiring for connecting the pads and external terminals, and includes a solder resist which has an aperture part for collectively exposing the pads and the wiring.例文帳に追加

ボール・グリッド・アレイを実装するためのパッドおよび配線を含む回路基板、ボール・グリッド・アレイの実装構造、及び電気光学装置、並びに電子機器において、回路基板が、ボール・グリッド・アレイを実装するためのパッドと、当該パッドおよび外部端子を接続するための配線と、ソルダーレジストと、を含み、当該ソルダーレジストが、パッドおよび配線を一括的に露出させるための開口部を有している。 - 特許庁

A method of manufacturing a lithographic printing plate comprises: preparing a lithographic printing plate precursor comprising: i) a grained and anodized aluminum substrate where the anodic weight is between 6.0 and 20 g/m^2, having coated thereon; ii) a metallic layer; and image-wise exposing the precursor on an external drum thermal imaging device.例文帳に追加

ｉ）酸化アルミニウムフイルムの陽極重量が６．０〜２０ｇ／ｍ^^2である陽極酸化アルミニウムフイルムを含んでなる研磨されそして陽極酸化されたアルミニウム基材であって、その上に ｉｉ）金属層、をコーティングされているアルミニウム基材を含んでなる平版印刷版前駆体を用意し、そして該前駆体を外部ドラム熱的像形成装置において像通りに露出する、ことを含んでなる平版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

The master disk for the optical recording medium is manufactured by exposing and developing the photoresist on the substrate to form the first rugged patterns, subjecting the substrate to dry etching using the photoresist as a mask to form the second rugged patterns, removing the photoresist remaining on the substrate and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the second rugged patterns of the substrate with the laser beam in the dry etching process step.例文帳に追加

また、基板上のフォトレジストを露光現像して第１の凹凸パターンを形成し、フォトレジストをマスクとして基板に対してドライエッチングを行って第２の凹凸パターンを形成して、基板上に残ったフォトレジストを除去し、ドライエッチング工程において、基板の第２の凹凸パターンにレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。 - 特許庁

The first metal separator 14 is provided with an insulating member 33a covering at least parts of both separator metal surfaces from an inner surface 32a formed with a coolant supply communication hole 20a, and provided with metal exposed surfaces 32b, 32c at the periphery of the insulating member 33a exposing the separator metal surfaces around the coolant supply communication hole 20a.例文帳に追加

第１金属セパレータ１４は、冷却媒体供給連通孔２０ａを形成する内周面３２ａから両方のセパレータ金属面の少なくとも一部を被覆して絶縁部材３３ａを設けるとともに、前記絶縁部材３３ａの外周には、前記冷却媒体供給連通孔２０ａを周回し前記セパレータ金属面を露出させて金属露出面３２ｂ、３２ｃが設けられる。 - 特許庁

A spiral type inductor 10 includes a spiral coil 30 formed in spiral on a semiconductor substrate 20, a pair of terminals that are formed on the semiconductor substrate 20 and connected electrically to both ends of the spiral coil 30, and a shield layer 40 which covers the entire surface of a protection layer 36 of the spiral coil 30 by exposing the pair of terminals on the semiconductor substrate 20.例文帳に追加

本発明のスパイラル型のインダクタ１０は、半導体基板２０上に螺旋状に形成したスパイラルコイル３０と、前記半導体基板２０上に形成し、前記スパイラルコイル３０の両端と電気的に接続する一対の端子と、前記半導体基板２０上の前記一対の端子を露出させて、前記スパイラルコイル３０の保護層３６上の全面を覆う遮蔽層４０と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The method includes steps of: forming a first film by coupling a first compound having an acid dissociable group to a substrate; forming a second film by using the composition; exposing the second film to remove a protective group from the first film corresponding to an exposed portion; removing the second film; and coupling a second compound to the portion in the first film where the protective group is removed.例文帳に追加

本方法は、酸解離性基を有する第１化合物を基板に結合して第１膜を形成する工程、第１膜上に、組成物を用いて第２膜を形成する工程、第２膜を露光して、露光された部分に対応する第１膜から保護基を除去する工程、第２膜を除去する工程、第１膜のうち保護基が除去された部位に第２化合物を結合する工程、を備える。 - 特許庁

To provide a dispenser device uniformly injectable of agents simultaneously mixed with at least two or more contents, and controlling injection direction easily and accurately by turning, without exposing the contents in air while having high power with a high product yield, easiness of assembly, reduced manufacture cost, and convenient maintenance.例文帳に追加

本発明は、同時に少なくとも二種類以上の内容物を含む混合剤を均等に注射することができ、しかも、前記内容物を空気にさらすことがなく、回転させることで簡単に注射方向を高精度に制御することが可能であり、大きいパワーをもち、製品の歩留まりが高い、組み立てが簡単、生産コストが低い、製品のメンテナンスが便利といった特性をもつ注射装置を提供する。 - 特許庁

This semiconductor device includes: rewiring 19 formed on the upper surface of a semiconductor device wafer 10; columnar electrodes 21 formed on lands of the rewiring 19; first thermoplastic resin layer 41 covering the rewiring 19; and a filler-containing thermoplastic resin layer 42 covering the first thermoplastic resin layer, covering upper side faces of the columnar electrodes 21, and exposing the upper surfaces of the columnar electrodes 21.例文帳に追加

半導体デバイスウエハ１０の上面に形成された再配線１９と、再配線１９のランドに形成された柱状電極２１と、再配線１９を被覆する第１の熱可塑性樹脂層４１と、第１の熱可塑性樹脂層を被覆すると共に、柱状電極２１の上部側面を被覆し且つ柱状電極２１の上面を露出させるフィラー含有熱硬化性樹脂層４２と、を備える。 - 特許庁

The method for forming the organic film includes a pre-processing step which includes a plasma treatment step for carrying out plasma treatment to a surface of the base material 100, and an exposure processing step for exposing the surface of the base material 100 passed through the plasma treatment in an atmosphere which includes at least the water; and an organic film formation step for forming the organic film 110 by a silane coupling agent on the surface of the base material 100.例文帳に追加

基材１００の表面にプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、プラズマ処理した基材１００の表面を、少なくとも水を含む雰囲気下に暴露する暴露処理工程と、を含む前処理工程と、基材１００の表面上にシランカップリング剤により有機膜１１０を形成する有機膜形成工程と、を有することを特徴とする有機膜の形成方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing a metal silver part includes exposing a silver salt-containing layer containing a silver halide as an optical sensor disposed on a substrate and carrying out a developing treatment thereby forming a light transmissive part and a mesh metal silver part, in which the width of a line constituting the mesh is 3 to 18 μm, and an intersection growing rate in intersections of the lines constituting the mesh is >1 and ≤1.5.例文帳に追加

支持体上に設けられた光センサとしてハロゲン化銀を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより光透過性部とともにメッシュ状の金属銀部を形成し、前記メッシュを構成する線の線幅が３〜１８μｍであり、かつ、前記メッシュを構成する線の交点における交点太り率が１を超え１．５以下であることを特徴とする、金属銀部の製造方法。 - 特許庁

The semiconductor device includes an electrode pad 4 formed on a substrate 5, a first protective film 3 formed on the substrate 5 and electrode pad 4 and having a first opening for exposing the electrode pad 4, the under barrier metal 2 formed on the electrode pad 4 so as to cover a peripheral edge of the first opening of the first protective film 3, and the bump 6 formed on the under barrier metal 2.例文帳に追加

半導体デバイスは、基板５の上に形成された電極パッド４と、基板５及び電極パッド４の上に形成され、電極パッド４を露出する第１の開口部を有する第１の保護膜３と、電極パッド４の上に、第１の保護膜３における第１の開口部の周縁部を覆うように形成されたアンダーバリアメタル２と、アンダーバリアメタル２の上に形成されたバンプ６とを備えている。 - 特許庁

The discharge device includes: a first electrode (210); a second electrode (220) separately arranged so as to face the first electrode; an insulation member (320) covering at least a discharge face of the first electrode that faces the second electrode and having an opening (310) partially exposing the first electrode at the discharge face; and a voltage application means (100) applying voltage to the first and second electrodes.例文帳に追加

放電装置は、第１電極（２１０）と、第１電極と対向するように離間して配置される第２電極（２２０）と、第１電極の少なくとも第２電極と対向する放電面を覆うと共に、放電面において第１電極を部分的に露出させる開口部（３１０）を有する絶縁体（３２０）と、第１電極及び第２電極間に電圧を印加する電圧印加手段（１００）とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing a photographic image transfer object includes: a step of exposing at least a part of the photosensitive material obtained by coating photographic emulsion containing a silver halide particle and gelatin on a combustible base material; a step of depositing metal microparticles on the exposed portion of the photosensitive material; a step of sticking the photosensitive material to a heat resistant substrate; and a step of combusting and removing the photosensitive material.例文帳に追加

写真画像転写物の作製方法において、ハロゲン化銀粒子とゼラチンを含む写真乳剤を可燃性の基材上に塗布した写真感光材料の少なくとも一部に露光する工程、写真感光材料の露光された部分に貴金属微粒子を析出させる工程、耐熱性基板に前記写真感光材料を貼り付ける工程、写真感光材料を燃焼除去する工程、を有する。 - 特許庁

The resist film 28 patterned and formed on an overcoat layer 12, formed on a thin-film transistor and an upper layer side of a pixel electrode, as a mask for exposing at least a part of a pixel electrode from the overcoat film 12 is removed using a mixed gas of one of COF_2 and F_2 and an oxygen gas, after at least the part of the pixel electrode is exposed from the overcoat layer 12.例文帳に追加

薄膜トランジスタ及び画素電極の上層側に成膜されたオーバーコート膜１２から前記画素電極の少なくとも一部を露出させる際のマスクとして前記オーバーコート層１２上にパターニングして形成されたレジスト膜２８を、前記オーバーコート層１２から前記画素電極の少なくとも一部を露出させた後にＣＯＦ_２またはＦ_２のいずれか一方と酸素ガスとを含む混合ガスを用いて除去する。 - 特許庁

The information processing terminal includes a first cover part having a cutout for exposing an inlet, a locking pin displaceably locking to a body cover, a second cover part provided in a position opposite to the first cover part across the locking pin, and a covering member displaced to expose one of the inlet and at least one locking member, which should be removed to take the body cover out of the body, while covering the other.例文帳に追加

インレットを露出させるための切り欠きを備える第１の被覆部と、本体カバーに変位可能に係止する係止ピンと、係止ピンを挟んで第１の被覆部と対向する位置に設けられる第２の被覆部と、を有し、本体カバーを外すために外す必要がある少なくとも一つの係止部材とインレットのうちいずれか一方を露出し、他方を被覆するように変位する被覆部材を備える。 - 特許庁

To provide an optical element inspection method which enables an optical lens from a storage case in which optical lens are stored in an array to move to an inspection tool without exposing it to the open air and inspects the optical lens and an optical element inspection tool which can put in an take out an optical lens easily, take out an optional optical lens easily, make few handling errors, and is simple in structure to be manufactured easily.例文帳に追加

列状に収納された収納ケースから、光学レンズを外気に触れない状態で検査治具に光学レンズを移動させて、光学レンズを検査する光学素子検査方法、及び、容易に光学レンズの出し入れができ、任意の光学レンズも簡単に取り出すことができ、また、ハンドリングミスも少なく、単純な構造で容易に製造することのできる光学素子検査用治具を提供する。 - 特許庁

In a method of manufacturing the field emission type electron source equipped with the cold cathode which discharges electrons by being applied with an electric field, by exposing the carbon material 10 to be a material of the cold cathode to a combustion flame 11 of a mixture of hydrogen and oxygen, an etching treatment to form a nanometer structure of carbon on a surface of the carbon material 10 is performed, and the cold cathode is formed of the obtained carbon material 10.例文帳に追加

電界が印加されることにより電子を放出する冷陰極を備えた電界放出型電子源の製造方法であって、冷陰極の素材となる炭素材１０を水素酸素混合ガスの燃焼炎１１に暴露することで、該炭素材１０の表面に炭素のナノメートル構造を形成するエッチング処理を行い、得られた炭素材１０で冷陰極を形成する。 - 特許庁