「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(117ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming apparatus capable of achieving a processing of surely exposing a ground pattern by discriminating whether the ground pattern originally attached to an original is copied as it is or a device side newly attaches the ground pattern in the case of copying the original attached with the ground pattern and to provide an image processing method and a program for the image forming apparatus.例文帳に追加

地紋パターンが付加された原稿に対して複写する際に、元々原稿に付加された地紋パターンをそのまま複写するか、デバイス側で改めて地紋パターンを付加するかを判断し、確実に地紋パターンを浮かび上がらせる処理が実現可能な画像形成装置、画像形成装置における画像処理方法、プログラムを提供する。 - 特許庁

This controller is provided with an instrument case 1, an operation member 6 rockably formed integrally with the instrument case 1 through a twist deformable hinge shaft 9 in a state exposing upward the instrument case 1 and pressure sensitive sensors 8 arranged separately from and oppositely to both side parts of the operation member 6 and pressurized according to the rocking operation of the operation member 6 and detecting the pressurizing force.例文帳に追加

楽器ケース１と、この楽器ケース１の上方に露出した状態で楽器ケース１にねじれ変形可能なヒンジ軸９を介して揺動可能に一体に形成された操作部材６と、この操作部材６の両側部に離間対向して配設され、操作部材６の揺動操作に応じて押圧され、その押圧力を検出する感圧センサ８とを備えた。 - 特許庁

The electromagnetic wave shielding material is fabricated by carrying out a development processing after exposing a photographic sensitive material having at least a layer composed of photosensitive silver halide and binder on a support, wherein the photosensitive material contains at least one kind of conductive substance of which volume resistance value is more than 1.0×10^-5 Ωcm, and less than 10.0 Ωcm.例文帳に追加

支持体上に少なくとも感光性ハロゲン化銀及びバインダーからなる層を有する感光材料に、露光後、現像処理を行うことにより作製され、感光材料が、体積抵抗値１．０×１０^-5Ω・ｃｍ以上、１０．０Ω・ｃｍ以下の導電性物質を少なくとも１種類含有する電磁波遮断材料。 - 特許庁

Thus, in the case of use, the liquid crystal display part of the large screen can be used as a whole by exposing the operating buttons 5 on the surface by opening the panel 3, the bulk information of the Internet or the like can be displayed and the malfunctions of the buttons can be prevented by closing the panel 3.例文帳に追加

これにより、使用時に回動パネル３を展開して操作ボタン５を表面に露出させることによって大画面の液晶表示部全体を使用することができ、インターネット等の大容量の情報を表示させうことが出来ると共に、回動パネル３を閉じることによってボタン類の誤動作を防止することが出来るようにした。 - 特許庁

To provide a two-layer structured substrate for a stencil mask with a thin film being an independent film having a function as an etching stopper layer to a supporting substrate and with the stress of the thin film adjusted, in a method for manufacturing a stencil mask using a substrate having the thin film being the etching stopper layer, and to provide the stencil mask and a method for exposing using it.例文帳に追加

エッチングストッパー層となる薄膜を持つ基板を用いたステンシルマスクの製造において、自立メンブレンとなる薄膜が支持基板に対するエッチングストッパー層としての機能を兼ね備え、さらにその薄膜の応力が調整された２層構造を有するステンシルマスク用基板、ステンシルマスク及びそれを用いた露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This trim mounting structure, forming an opening 11 for exposing the adjusting mechanism of the seat belt anchor at a trim 10 while holding a sliding plate 3 inside a slotted hole 2 with an integrated locking claw 4 at a trim edge part 12 around the opening 11, is clamped between an adjusting cover 1 for covering the adjusting mechanism and inner panel P of a pillar.例文帳に追加

シートベルトアンカのアジャスト機構を露出させる開口１１をトリム１０に形成すると共に、開口１１周囲のトリム端部１２を、一体成形の係止爪４にて長孔２内側にスライドプレート３を保持しアジャスト機構を覆うアジャスタカバー１とピラーのインナパネルＰとにより挟持するようにしたトリムの取り付け構造とする。 - 特許庁

To provide an exposing device and a method thereof that are free of a deviation between a matching position and an exposure position along the height of a work, and eliminate the need for an operator for matching operation, require no metal frame surrounding a light transmission plate, and facilitate operation for an upper-side light transmission plate where a mask is installed.例文帳に追加

ワークに対して高さ方向における整合位置および露光位置が異なることがなく、また、整合作業を行なう場合に作業者が介在することがなく、さらに、透光板の周囲を囲む金属フレームを必要とせず、マスクが設置される上側透光板の操作が容易となる露光装置およびその方法を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing an electronic apparatus comprises the first step of forming the relief plate 20 having a convex 22, the second step of forming a liquid layer on the convex 22, the third step of exposing part of the upper surface of the convex 22 by removing part of the liquid layer, and the fourth step of transferring the liquid layer 30 to a substrate 40.例文帳に追加

本発明にかかる電子装置の製造方法は、凸部２２を有する版２０を形成する第１工程と、凸部２２の上に液体層を形成する第２工程と、液体層の一部を除去して凸部２２の上面の一部を露出させる第３工程と、液体層３０を基板４０に転写する第４工程と、を含む。 - 特許庁

The pet sheet-fixing auxiliary 13 is a sheet for covering the surface of a pet sheet 12 and comprises a cover part 31 for covering the pet sheet 12, plural openings 32 exposing spaces for passing urine through the surface of the pet sheet 12, and, on the periphery, a fixing part 33 for pushing the pet sheet to fix with a sheet-holding part.例文帳に追加

ペットシーツ１２の表面に被せるようにのせられるシート状で、ペットシーツ１２の表面に被さるカバー部３１と、ペットシーツ１２の表面を尿が通過する広さ露出する複数の隙間部３２とを有し、外周部には、ペットシーツを押え付けて固定するためのシーツ押え部材によって固定される固定部３３が形成されたペットシーツ固定補助具１３。 - 特許庁

A reflector 1 for an aligner is a layered body 50 wherein a periodic structure 100 is layered on a substrate 5 and, in the periodic structure 100, high-refraction layers 10 and low-refraction layers 11 are periodically and alternately arranged in layers, composed of mediums each presenting different refraction to different exposing lights.例文帳に追加

露光装置用反射鏡１は、周期構造体１００が基体５上に積層された積層体５０を有してなり、該周期構造体１００は、各々露光光に対して屈折率の違う媒質よりなる高屈折率層１０と低屈折率層１１とが交互に周期的に配列されるとともに積層されたものとされる。 - 特許庁

This nitride semiconductor device includes: a first nitride semiconductor layer 107 formed on a substrate 101; a defect introduction layer 108 formed on the first nitride semiconductor layer 107; and a second nitride semiconductor layer 109 formed in contact with a surface of the defect introduction layer 108 and having an opening for exposing the defect introduction layer 108.例文帳に追加

窒化物半導体装置は、基板１０１の上に形成された第１の窒化物半導体層１０７と、第１の窒化物半導体層１０７の上に形成された欠陥導入層１０８と、欠陥導入層１０８の上に接して形成され、欠陥導入層１０８を露出する開口部を有する第２の窒化物半導体層１０９とを備えている。 - 特許庁

In a maskless lithography system having a spatial light modulator (SLM), a method for generating a gray scale on an object comprises: forming a pattern by exposing the object to a light; and forming a gray scale region on the object by modulating an exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

An Ellipsometer is arranged in the orienter chamber 55 and by measuring the thickness of ion implemented region (amorphous layer) in a substrate or the thickness of the formed film without exposing a wafer to the atmosphere outside a manufacturing device until a series of processes such as film forming, annealing, and etching is completed, the management of the condition setting of the next process etc. is made possible.例文帳に追加

オリエンターチャンバ５５にエリプソメータが配設され、成膜，アニール，エッチング等の一連のプロセスが終了するまでウエハを製造装置外の大気にさらすことなく、基板内のイオン注入領域（アモルファス層）の厚みや、成膜した膜の厚みなどをエリプソメータにより測定することで、次の処理の条件設定などの管理が可能となる。 - 特許庁

The pattern forming method includes a stage of forming an oxygen blocking film 120 on a photosensitive resin film 110, a stage of exposing the photosensitive resin film 110 where the oxygen blocking film 120 is formed to a light pattern, and a stage of developing the exposed photosensitive resin film 110, wherein the oxygen blocking film is 0.01 to <0.1 μm in thickness.例文帳に追加

感光性樹脂膜１１０上に酸素遮断膜１２０を形成する工程と、酸素遮断膜１２０が形成された感光性樹脂膜１１０に対して光パターンを露光する工程と、露光された感光性樹脂膜１１０を現像する工程と、を備え、酸素遮断膜の膜厚が０．０１μｍ以上０．１μｍ未満である。 - 特許庁

This method of manufacturing a lithographic printing plate includes: exposing, into an image-like manner, a lithographic printing plate precursor including a support, a photosensitive layer containing a binder polymer and a radical polymerizable compound having a viscosity at 25°C of 9000 mPa s, and a protective layer in this order; and developing the exposed lithographic printing plate precursor with a developer without performing heating processing.例文帳に追加

支持体、バインダーポリマーと２５℃における粘度が９０００ｍＰａ・ｓ以下であるラジカル重合性化合物とを含有する感光層、及び、保護層をこの順で有する平版印刷版原版を、画像様に露光し、露光した平版印刷版原版を、加熱処理を経ることなく、現像液により現像する平版印刷版の作製方法。 - 特許庁

The exposing optical systems 12a and 12b are almost symmetrically arranged with reference to the image forming/supporting surface 120a passing through the center axis of the photoreceptor drum 10, and also, a laser light source constituting the systems 12a and 12b, a polygon mirror 121A, f-θ lenses 123a and 123b are arranged near the image forming/supporting surface 120a.例文帳に追加

感光体ドラム１０の中心軸を通る像形成支持面１２０ａに対し、ほぼ対称に露光光学系１２ａ、１２ｂを配すると共に、像形成支持面１２０ａの近傍に露光光学系１２ａ、１２ｂを構成するレーザ光源、ポリゴンミラー１２１Ａ、ｆ−θレンズ１２３ａ、１２３ｂを配設したことを特徴とする。 - 特許庁

Provided is a method including a step 312 for exposing a waveguide 14 to a Bragg diffraction grating write beam, a step 314 for measuring characteristics of the Bragg diffraction grating 16 written to the waveguide 14, a step 324 for correcting an error by finding parameters of the write beam, and a step 326 for correcting the error by changing parameters of the write beam.例文帳に追加

ブラッグ回折格子書込みビームに導波管１４を曝すステップ３１２と、導波管１４に書込まれたブラッグ回折格子１６の特性を測定するステップ３１４と、前記書込みビームのパラメータを求めて、誤差を補正するステップ３２４と、前記書込みビームのパラメータを変更して、前記誤差を補正するステップ３２６とを含んでなる方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of a TFT has a process for forming semiconductor films 3a, 3b on a substrate 1 and has a process for implanting conductive impurities into the semiconductor films, by exposing the substrate to a plasma atmosphere 30 containing the conductive impurities for the semiconductor films in the state wherein at least a channel region of the semiconductor films is exposed to the plasma atmosphere.例文帳に追加

本ＴＦＴの製造方法は、基板１上に半導体膜３ａ，３ｂを形成する工程と、半導体膜の少なくともチャネル領域が露出した状態で、当該半導体膜に対する導電性不純物を含むプラズマ雰囲気３０中に基板を暴露して、導電性不純物を半導体膜に注入する工程を備える。 - 特許庁

A photoresist pattern 35 is formed so that an aperture width of an aperture 35K is gradually narrowed as the aperture approaches a seed layer 12 by exposing a photoresist film to light while a reflection suppressing layer 31 is formed in an area F1 to perform patterning and then a precursor magnetic pole partial layer 13AZ is formed in the aperture 35K of the photoresist pattern 35.例文帳に追加

領域Ｆ１に反射抑制層３１を形成した状態においてフォトレジスト膜を露光してパターニングすることにより、開口３５Ｋの開口幅がシード層１２に近づくにしたがって次第に狭まるようにフォトレジストパターン３５を形成したのち、そのフォトレジストパターン３５の開口３５Ｋに前駆磁極部分層１３ＡＺを形成する。 - 特許庁

To provide an optical system manufacturing method by which high optical performance is secured without restraining the accuracy of individual parts or assembling accuracy very strictly, a projection optical device whose extant aberration is easily adjusted and which realizes high optical performance and an aligner capable of excellently projecting and exposing the image of the pattern of a mask on a substrate.例文帳に追加

個々の部品の精度や組立の精度を非常に厳しく抑えることなく，高い光学性能を確保可能な光学系の製造方法，および残存する収差の調整が容易に可能であり，高い光学性能を達成可能な投影光学装置，ならびにマスクのパターンの像を基板に良好に投影露光し得る露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a glass substrate, and a proximity scan exposure apparatus, and a proximity scan exposure method, with which high precision panels are efficiently formed by continuously conveying a large-sized glass substrate with black matrix layers of a plurality of panels formed thereon and exposing and transferring mask patterns when positions of the black matrix layers and those of mask patterns on the panel coincide with each other.例文帳に追加

複数のパネルのブラックマトリクス層が形成された大型ガラス基板を連続搬送しながら、該パネルのブラックマトリクス層とマスクのパターンとの位置が一致したときマスクパターンを露光転写し、高精度のパネルを効率的に形成することができるガラス基板および近接スキャン露光装置並びに近接スキャン露光方法を提供する。 - 特許庁

A method for characterizing the exposure level in a platesetter comprises steps of exposing regions of a plate in different exposure levels by modulating the output of an exposure beam, and then analyzing the plate after be in development, to determine a desired exposure level of the plate on the platesetter, by referring to the regions receiving different exposure levels.例文帳に追加

露出ビームの出力を変調することにより異なる露出レベルで版面の領域を露出する段階と、次に、異なる露出レベルを受ける領域を基準として、版面セッタ上の版面の所望露出レベルを決定すべく、現像後に版面を分析する段階とを有する、版面セッタの露出レベルを特徴付ける方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a metal photograph includes steps of preparing a substrate, applying a photoresist film thereon, exposing and developing the film by using a patterned film as a mask to pattern the photoresist film to form a photoresist pattern having a pattern corresponding to the film, forming a seed film on the substrate and the photoresist pattern, and producing a metal film on the seed film by LIGA techniques.例文帳に追加

金属写真の製作方法は、基板を提供して、それにフォトレジスト膜を塗布し、パターンを有するフィルムをマスクとして露光現像工程を行って、フォトレジスト膜をパターン化して、フィルムに対応するパターンのあるフォトレジストパターンを形成し、基板とフォトレジストパターンにシード膜を形成し、ＬＩＧＡ技術でシード膜に金属膜を形成するステップを含む。 - 特許庁

The master disk for the optical recording medium is manufacturing by exposing and developing a photoresist 11 on a substrate 11 to form rugged patterns 12 and 13, regulating the photoresist 11 to a glass transition point or above by performing post baking and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the rugged patterns 13 of the photoresist 11 with the laser beam in the post baking process step.例文帳に追加

基板１０上のフォトレジスト１１を露光現像して凹凸パターン１２，１３を形成し、ポストベークを行ってフォトレジスト１１をガラス転移点以上とし、ポストベーク工程において、フォトレジスト１１の凹凸パターン１３にレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。 - 特許庁

The analog elapsed time indicator includes: a fixed display plate 1 on which multiple indexes 2 are annularly arranged; a rotating plate 5 which is provided so that a window part 6 for exposing one of the indexes 2 passes through the indexes 2 and which rotates concentrically with the indexes 2; and an analog timepiece movement 3 for rotating the rotating plate 5 in predetermined time.例文帳に追加

アナログ式経過時間表示装置は、複数個の指標２を円環状に配列した固定表示板１と、指標２の一つを露出させる窓部６が指標２を通過するように設けられると共に指標２と同心円に回転する回転板５と、この回転板５を所定時間で回転させるアナログ時計ムーブメント３とを備えている。 - 特許庁

The method has an advantageous effect capable of selectively forming conductor films only on the resin patterns obtained by exposing and developing the photosensitive resin composition by incorporating the catalyst element having the metal precipitation catalyst activity in electroless metal plating treatment into the photosensitive resin composition.例文帳に追加

本発明の方法によると、本発明は、感光性樹脂組成物中に、無電解金属めっき処理における金属析出触媒活性を有する触媒元素を、触媒前駆体として含有させることにより、該感光性樹脂組成物を露光、現像して得られる樹脂パターン上だけに導体被膜を選択的に形成できるという有利な効果を有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display element to simplify processes and to improve productivity by selectively exposing amorphous indium tin oxide to light to convert into polycrystalline or crystalline indium tin oxide and selectively etching residual amorphous indium tin oxide to form a pixel electrode.例文帳に追加

前記非晶質インジウム−スズ酸化物を選択的に光で露光して、多結晶質または結晶質インジウム−スズ酸化物に変換させ、残りの前記非晶質インジウム−スズ酸化物を選択的にエッチングして画素電極を形成することにより、工程を単純化させて生産性を向上させ得る液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a photosetting electrically conductive composition capable of simultaneously satisfying sufficient electric conductivity and blackness after firing without impairing superior adhesion to a substrate, superior resolution and suitability to firing in drying, exposing, developing and firing steps and to obtain a plasma display panel(PDP) with a lower layer (black layer) electrode circuit formed using the composition.例文帳に追加

乾燥、露光、現像、焼成の各工程において基板に対する優れた密着性、解像製、焼成性を損なうことなく、焼成後において充分な導電性と黒さを同時に満足し得る、光硬化型導電性組成物及びそれを用いて下層（黒層）電極回路を形成したプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を提供する。 - 特許庁

This image forming apparatus 10 is equipped with a conveying means 16a of conveying the film F and an exposure means of forming an image in an image formation area Fc by exposing the film by a laser, and the conveying means conveys the film in contact with the film except in the image formation area to prevent a flaw from being caused in the image formation area.例文帳に追加

この画像形成装置１０は、フィルムＦを搬送する搬送手段１６ａと、フィルムにレーザ露光を行い画像形成領域Ｆｃに画像を形成する露光手段とを備え、搬送手段がフィルムを画像形成領域以外の部分でフィルムと接触して搬送し、画像形成領域における傷の発生を防止する。 - 特許庁

The method for cooking the food includes putting a liquid food or a food within the range of from about 1/4 inch to about 20 feet from a container containing the liquid, exposing the liquid food or the food with the acoustic waves having the frequency of preferably from about 1 Hz. to about 1,000 Hz., optimally 600 Hz. for about 1 min to 24 hr, optimally for 30 min.例文帳に追加

流動食又は食物を、液体を含む容器から約１／４インチから２０フィートまでの範囲内に置き、さらに流動食又は食物に、好ましくは約１ヘルツから約１０００ヘルツの周波数範囲の音波、最良には６００ヘルツの音波にさらし、また、約１分から約２４時間、最良には３０分間音波にさらす方法である。 - 特許庁

The image recorder comprises a section 12 for loading a cartridge 13 performing image recording by carrying and exposing a recording sheet and containing a recording sheet, and a regulation member 31 for loading the cartridge horizontally with respect to the loading section wherein the regulation member can be taken out when the cartridge is loaded at the loading section.例文帳に追加

この画像記録装置は、記録紙を搬送し露光することで画像記録を行い、記録紙を収容したカートリッジ１３を装填する装填部１２と、カートリッジを装填部に対し水平方向に装填させるために設けられた規制部材３１と、を備え、カートリッジが装填部に装填されているときに規制部材を取り外しできるように構成した。 - 特許庁

This digital exposure apparatus for exposing an image in such a manner that an exposure engine exposes photographic paper on image data, is provided with an image processing substrate for performing coordinate transformation processing of the image data, a printer control part for controlling the image processing substrate, and an input part for inputting instruction contents to the printer control part.例文帳に追加

画像データに基づいて、露光エンジンが印画紙を露光することにより、画像の焼き付けを行うデジタル露光装置において、上記画像データに対して座標変換処理を行う画像処理基板と、上記画像処理基板を制御するプリンタ制御部と、オペレータが、上記プリンタ制御部への指示内容を入力する入力部とを備えた構成とする。 - 特許庁

The element is provided with: plural conductor patterns 12 formed along the transparent electrodes 18 at a predetermined interval; and an insulation 14 covering the conductor patterns 12 to insulate them from the transparent electrodes 18, and having opening parts 16 for exposing the conductor patterns 12 at a predetermined interval to connect the transparent electrodes 18 to the conductor patterns 12.例文帳に追加

透明電極１８に沿って所定の間隔で複数本設けられた導体パターン１２と、この導体パターン１２を覆い透明電極１８との間の絶縁を図るとともに、所定ピッチで導体パターン１２を露出させ透明電極１８と導体パターン１２を接続させる開口部１６を有した絶縁体１４とを備える。 - 特許庁

To flatten an insulating resin film layer and a wiring layer to have a uniform thickness thereof in a step of exposing the wiring layer by grinding the insulating resin film layer and the wiring layer in a method of manufacturing the wiring circuit board having the insulating resin film layer and the wiring layer on a substrate.例文帳に追加

基板上に絶縁樹脂膜層と配線層とが形成された配線基板の製造方法であって、前記絶縁樹脂膜層と前記配線層とを研削して前記配線層を露出させる工程において、絶縁樹脂膜層及び配線層の膜厚が均一になるように平坦化を図ることができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma cleaning apparatus which can reduce the charge-up damage added to a semiconductor element and which does not damage a material to be treated by arc discharge without generating the arc discharge to the material to be treated exposing a metal portion on the surface, in the course of plasma cleaning.例文帳に追加

プラズマ洗浄時の半導体素子に加わるチャージアップダメージを低減することができ、しかも、表面に金属部分が露出している被処理物に対してアーク放電が発生することがなく、被処理物にアーク放電による損傷を与えないようにすることができるプラズマ洗浄装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a door handle and its mounting structure presenting excellent appearance, preventing the detachment of a handle body and dissolving the looseness of a turning core material and the handle body by fixing the turning core material and the handle body by attaching screws screwed toward the door side without exposing the heads of the attaching screws to the outside.例文帳に追加

ドア側に向かって螺合する取付ねじで回動芯材とハンドル本体とを固定し、前記取付ねじの頭部を外側に露出させないようにして、回動芯材とハンドル本体とのガタつきを解消するとともに、外観が良好で、ハンドル本体が取り外されるのを防止できるドア用ハンドルとその取り付け構造を得られるようにする。 - 特許庁

This method for forming an electrode of a PDP is conducted wherein a photosensitive emulsion is coated on a substrate 1 to form a photosensitive film 50, a metal paste embedded mold is formed by exposing and developing an electrode pattern on the photosensitive film 50, a metal paste is embedded in the metal paste embedded mold and then the metal paste embedded mold is dissolved and removed.例文帳に追加

基板１上に感光乳剤を塗布して感光膜５０を形成し、前記感光膜５０上に電極パターンを露光して、これを現像することにより金属ペースト埋め込み型を形成し、前記金属ペースト埋め込み型に金属ペーストを埋め込んだのち、前記金属ペースト埋め込み型を溶解除去するＰＤＰの電極形成方法とする。 - 特許庁

The aligner for filling at least a part of the projecting optical system and the substrate P with liquid and exposing the substrate P by projecting a pattern image to the surface of the substrate P by the projecting optical system and the liquid is provided with a bubble detector 20 for detecting bubbles in the liquid filled between the projecting optical system and the substrate P.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系と基板Ｐとの間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影することによって基板Ｐを露光するものであって、投影光学系と基板Ｐとの間の液体中の気泡を検出する気泡検出器２０を備えている。 - 特許庁

To provide a rainwater-bathtub water reusing device capable of recovering bathtub water, and capable of replenishing clean water by detecting a water level only by the pipe connection by separating a storage tank and a unit including a water level detecting part without exposing electric wiring becoming the cause of failure while enhancing a degree of freedom of a shape of the storage tank.例文帳に追加

本発明は貯留槽の形状の自由度を上げしかも故障の原因となる電気配線を露出させないため、貯留槽と水位検知部を含むユニットを別々とし、配管接続のみで水位検知を行い、浴槽水の回収や上水の補給を行うことが可能な雨水、浴槽水再利用装置を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device comprises the steps of: (1) exposing the silicon layer by eliminating the upper portion of the protrusion of the silicon layer out of an insulating layer overlying the silicon layer having the protrusion; and (2) chemically and mechanically polishing the silicon layer exposed by slurry for polishing silicon while protecting the silicon layer by a remaining portion of the insulating layer.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、（１）凸部を有するシリコン層を覆う絶縁層のうちシリコン層の凸部の上方部分を除去することにより、シリコン層を露出させる工程と、（２）前記絶縁層の残部でシリコン層を保護しながら、シリコン研磨用スラリーで露出したシリコン層を化学機械研磨する工程とを含む。 - 特許庁

In the image forming method for obtaining image by recording the digital image information on the silver salt color film, after color change processing is applied to the digital image information, this processed image information is recorded on the silver salt color film by scanning and exposing, and an image is obtained by applying developing processing to the exposed color film with the developer containing CD-3.例文帳に追加

デジタル画像情報を銀塩カラーフィルム上に記録して画像を得る画像形成方法において、該デジタル画像情報に色彩変更処理を加えたのち、該処理を加えた画像情報を銀塩カラーフィルム上に走査露光によって記録し、露光された該カラーフィルムをＣＤ−３含有現像液により現像処理して画像を得る画像形成方法。 - 特許庁

After forming a resist film 101 comprising a chemical amplifying type resist material, a pattern exposure is conducted by selectively irradiating an exposing light 104 to a resist film 102 with a solution 103 supplied on the resist film 102 with its per fluoro polyether added by water and temporarily retained in a solution retaining part as circulating.例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１０１を形成した後、パーフルオロポリエーテルに水が添加されており且つ循環しながら溶液貯留部に一時的に貯留されている溶液１０３をレジスト膜１０２の上に供給した状態で、露光光１０４をレジスト膜１０２に選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

An air cleaning equipment 1 comprises the ultraviolet lamp 2, a filter part member 4 that covers the ozone generating part 10 from outside and is formed by the second material, and a displacement means 3 for selectively exposing the ozone generating part 10 by displacing the filter part member 4 or the ultraviolet lamp 2.例文帳に追加

また本発明に係る空気浄化装置１は、上記紫外線ランプ２と、上記第二の材料で形成され上記オゾン発生部１０を外側から覆うフィルタ部材４と、フィルタ部材４又は上記紫外線ランプ２を移動させて上記オゾン発生部１０を選択的に露出させるための移動手段３とを備えたものである。 - 特許庁

The semiconductor layer, which is constituted of the semiconductor having the hexagonal crystal structure and has (11-22) or (10-13) plane direction, is grown on the (1-100) plane of a substrate constituted of a material having the hexagonal crystal structure while exposing (1-100) plane facet, (0001) plane facet, and (10-13) plane facet.例文帳に追加

六方晶系の結晶構造を有する物質からなる基板の（１−１００）面上に、六方晶系の結晶構造を有する半導体からなり、（１１−２２）面方位または（１０−１３）面方位を有する半導体層を（１−１００）面ファセット、（０００１）面ファセットおよび（１０−１３）面ファセットを出しながら成長させる。 - 特許庁

Also, in the case of using a laser as the high energy light source, since the exposure process is performed by exposing a laser light source to the photosensitive material of an area where the microlens is scheduled to be formed and irradiating it with a laser beam, the exposed photosensitive material surface is fused by the heat treatment and the microlens is formed, a mask can be omitted at the time of the exposure process.例文帳に追加

また、高エネルギー光源としてレーザーを使用する場合、マイクロレンズが形成される予定領域の感光材にレーザー光源を当ててレーザービームを照射することにより露光工程を行い、熱処理で露光された感光材表面を溶融させてマイクロレンズを形成できるので、露光工程時にマスクを省略できる。 - 特許庁