「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(114ページ目) - Weblio英語例文検索

A forming method of a semiconductor layer has a process for forming a mask 3 with an opening part 2 for exposing the surface of a base layer 1 on the base layer 1 and a process for forming a semiconductor layer by performing selective crystal growth for a semiconductor 4 by a catalytic CVD method on the surface of the exposed base layer 1 inside the opening part 2 of the mask 3.例文帳に追加

基層１上に、基層１表面を露出させる開口部２を有したマスク３を形成する工程と、マスク３の開口部２内にて露出した基層１表面上に、触媒ＣＶＤ法により選択的に半導体４を結晶成長させて半導体層を形成する工程と、を備えた半導体層の形成方法。 - 特許庁

The photographic printing system includes a calibration processing part for performing processes of sequentially specifying the plurality of printing paper magazines by the selection of an overall calibration mode, cutting printing paper from the specified printing paper magazine into a print size, feeding it to an exposure unit, and exposing calibration data indicating a middle position for exposure in a main scanning direction, for all the printing paper magazines.例文帳に追加

全較正モードを選択することにより、複数の印画紙マガジンを順次指定し、指定した印画紙マガジンからの印画紙をプリントサイズに切断して露光ユニットに送り込み、主走査方向での露光中央位置を示す較正用データの露光を行う処理を複数の印画紙マガジンの全てについて連続的に行う較正処理部を備えた。 - 特許庁

To provide a garbage case capable of storing a plurality of garbage bags, effectively utilizing garbage classification bags, and easily performing garbage treatment in a garbage case, eliminating the needs of mounting a garbage storage device in a covered garbage and cutting in a garbage case body, and providing an excellent appearance without partly exposing the storage device and the garbage bag to the outside of the garbage case.例文帳に追加

ごみ箱内で、複数のごみ袋が収納でき、ごみの分別袋の有効利用と、ごみ処理が簡単にできる、また蓋付きごみ箱のごみ袋収納器具取り付け、ごみ箱本体への切り込み等を不要とし、ごみ箱の外側へ収納器具、ごみ袋の一部分が露出する事なく、外観がスッキリとしたごみ箱を提供する。 - 特許庁

In the forming method of the three dimensional body comprising plural cured layers bonded to each other by exposing a continuous material layer to a curing stimulating beam, the amount of the curing stimulating beam during a term not-exposed is reduced to not more than 50% of a level at an exposure by changing a wave length of a selected curing stimulating beam.例文帳に追加

連続する材料層を硬化刺激ビームに露出することにより複数の密着した硬化層から成る３次元物体を造形する方法において、選択した硬化刺激ビームの波長を変換することによりビームの量を変化させ、非露出中は硬化刺激ビームの量を露出時の水準の５０％以下に削減する。 - 特許庁

To provide a system for reading a radiation image conversion panel, the system free from cracks in a radiation image conversion panel and from peeling of a phosphor or image irregularities in the process of placing a radiation image conversion panel in a conveyable container, exposing the panel to X-rays and reading the panel by a reading system which bends and conveys the panel.例文帳に追加

放射線画像変換パネルを可搬性容器に配置し、Ｘ線を曝射し、放射線画像変換パネルを曲げて搬送する読み取りシステムにより読み取りを行った場合、放射線画像変換パネルの割れ、蛍光体の剥離或いは画像ムラの発生のない、放射線画像変換パネルの読み取りシステム及び放射線画像変換パネルを提供する。 - 特許庁

An electrically insulating substrate 10, a photosensitive layer 12 laminated on the surface of the substrate 10, a heat generating resistor 14 embedded in a linear groove part 13 formed by exposing the photosensitive layer 12, and a plurality of electrodes 15, 16 provided in contact with the heat generating resistor 14 on the photosensitive layer 12 surface in the heat generating resistor 14 elongation direction, are provided.例文帳に追加

電気絶縁性の基板10と、基板10の表面に積層された感光体層12と、感光体層12を露光することにより形成された線状溝部13に埋設された発熱抵抗体14と、感光体層12の表面に発熱抵抗体14と接触して発熱抵抗体14の延在方向に設けられた複数の電極15,16 とを有してなる。 - 特許庁

Izo OKADA, Toranosuke SENYA, and Kinosuke IGARASHI from Tosa, and Chuzaburo TERAJIMA joined from Choshu, and they split up to take both of the men in and kill them, but they did not kill because of the pleas of their family to spare their lives, and because of their class as townsmen; the two men were put on public display alive, by being tied naked on to a stake which was used for exposing cotton on the riverside of Kamo-gawa River. 例文帳に追加

土佐からは岡田以蔵・千屋寅之助・五十嵐幾之助らが、長州からは寺島忠三郎らが加わり、手分けして両名を連行して殺害しようとしたが、家族の助命嘆願もあり町人でもあることから殺すことはせず、加茂川河岸の木綿を晒す杭に両名を裸にした上で縛り付け、生き晒しにした。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In a manufacturing method for a spread system metallic honeycomb, a release agent 1 to be applied while exposing textures 5 in striation shapes on a base material 2 is constituted by containing ceramics powder whose particle diameter is 5 μm or below, having a contend of 5-60 wt.%, binder and a solvent having a content of 30-94 wt.%.例文帳に追加

展張方式の金属ハニカムの製造方法において、母材２に条線状に地肌５を残しつつ塗布される離型剤１が、含有率５重量％以上で６０重量％以下の粒径５μｍ以下のセラミックス粉末と、バインダーと、含有率３０重量％以上で９４重量％以下の溶剤と、を含有してなる。 - 特許庁

The method for cleaning the plate surface of the planographic printing plate is characterized by using an emulsion type plate surface cleaner containing a soy polysaccharide for cleaning the plate surface of the planographic printing plate obtained by image exposing the positive-working infrared ray sensitive planographic printing plate having an image forming layer containing an infrared ray absorbing dye with an infrared ray and developing it.例文帳に追加

赤外線吸収染料を含有する画像形成層を有するポジ型赤外線感光性平版印刷版を赤外線画像露光し、現像した後、得られた平版印刷版の版面洗浄に、大豆多糖類を含有する乳化型版面洗浄剤を用いることを特徴とする平版印刷版の版面洗浄方法。 - 特許庁

Photographic processes are carried out by using a first mask (transfer photomask) 1 having a first pattern 2 for transfer, and a second mask (correction photomask) 3 having a second pattern 4 for correction to make the influence of local flare caused during exposure through the first mask uniform in the entire exposure region, and by exposing through the masks in a random order.例文帳に追加

転写用の第１のパターン２が形成されてなる第１のマスク（転写用フォトマスク）１と、第１のマスクにより露光する際に生じるローカルフレアの影響を、露光領域全体で均一化する補正用の第２のパターン４が形成されてなる第２のマスク（補正用フォトマスク）３とを用い、両者により順不同で露光し、フォトリソグラフィーを行う。 - 特許庁

The method for cleaning the plate surface of the planographic printing plate is characterized by using an emulsion type plate surface cleaner containing a soy polysaccharide for cleaning the plate surface of the planographic printing plate obtained by image exposing the negative-working infrared ray sensitive planographic printing plate having an image forming layer containing an infrared ray absorbing dye with an infrared ray and developing it.例文帳に追加

赤外線吸収染料を含有する画像形成層を有するネガ型赤外線感光性平版印刷版を赤外線画像露光し、現像した後、得られた平版印刷版の版面洗浄に、大豆多糖類を含有する乳化型版面洗浄剤を用いることを特徴とする平版印刷版の版面洗浄方法。 - 特許庁

The method includes steps of: forming a resist film (3) on a substrate (1) to be processed having a film to be processed; exposing the resist film with a desired pattern; developing the resist film to form a resist pattern; and heating the resist pattern at a temperature higher than the deprotection temperature and lower than the glass transition temperature Tg of the resist.例文帳に追加

被加工膜を有する被加工基板（１）上にレジスト膜（３）を形成する工程と、前記レジスト膜に所望のパターンを露光する工程と、前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンに対して該レジストの脱保護温度よりも高温かつガラス転移温度Ｔｇよりも低温にて加熱する工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a display device and a manufacturing method of a display device capable of omitting a high-vacuum process, after formation of an electron emission part by eliminating a process of exposing the electron emitting part in the atmosphere, capable of reducing the manufacturing cost, restraining to a minimum a volume of gas molecules desorbing from a substrate surface, and restraining degradation of the lifetime.例文帳に追加

電子放出部を大気に晒す工程をなくすことで、電子放出部形成後の高真空工程を省略でき、製造コストを低減できるとともにガス分子が基板表面から脱離する量を最小限に抑え、寿命劣化を抑制することが可能となる表示装置及び表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises exposing only the desired aluminum electrode by using a positive-type photosensitive polyimide resin as a photoresist (step 1), generating a zinc film on the exposed surface of the aluminum electrode, with zincating treatment (step 2), electroless plating the desired aluminum electrode with nickel, while starting with a displacement reaction of nickel with the zinc film (step 3), and finally removing the photoresist (step 4).例文帳に追加

ポジ型感光性ポリイミドをフォトレジストとして、所望のアルミ電極のみを露出させ（工程１）、ジンケート処理で露出しているアルミ電極の表面に亜鉛膜を生成し（工程２）、この亜鉛膜との置換反応を初期反応としてニッケル膜を所望のアルミ電極上に無電解めっきし（工程３）、最後に、フォトレジストを除去する（工程４）。 - 特許庁

The optical pattern etching method includes steps of: forming a photosensitive hydrofluoric acid etching material on a semiconductor or quartz glass substrate; exposing the substrate along a pattern; heating the substrate; subjecting the substrate to development by using an alkali developing solution; and subjecting the substrate to hydrofluoric acid etching by using a solution having ≥30% to ≤50% concentration of hydrofluoric acid.例文帳に追加

光パターンエッチング方法は、半導体または石英ガラスからなる基板上に感光性フッ酸エッチング材料を形成する工程と、基板をパターン露光する工程と、基板を加熱する工程と、基板にアルカリ現像液を用いて現像を施す工程と、基板にフッ酸濃度30％以上50％以下の溶液を用いてフッ酸エッチングを行う工程とを備える。 - 特許庁

To provide an organic photoconductor being suitable for an image forming method for forming electrostatic latent images having high density on the organic photoconductor by exposing the images to the light of a semiconductor laser having oscillation wavelength of 350-500 nm or a light-emitting diode and having high photosensitivity and excellent repetition characteristics and reproducibility of dot image, and to provide the image forming method and device using the same.例文帳に追加

発振波長が３５０〜５００ｎｍの半導体レーザ又は発光ダイオードの像露光を用いて有機感光体上に高密度の静電潜像を形成する画像形成方に適し、感度が高くかつ繰り返し特性およびドット画像の再現性に優れる有機感光体、それを用いた画像形成方法および画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silver halide photographic sensitive material for making a lithographic printing plate by exposing a photographic sensitive material having a silver halide emulsion, subjecting the material to development (other than silver complex salt diffusion transfer development) and subjecting it to lipophilizing processing, whereby an undeveloped silver halide image area is selectively lipophilized to impart ink receptivity.例文帳に追加

本発明はハロゲン化銀乳剤を有する写真感光材料を露光し、現像処理（銀錯塩拡散転写現像を含まない）後、親油化処理を施し、未現像のハロゲン化銀像部を選択的に親油化しインキ受容性にした平版印刷版とするためのハロゲン化銀写真感光材料の製造方法に関する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the processes of forming a mark made of a non-single-crystalline reformed layer inside a back surface of a semiconductor wafer by irradiating the semiconductor wafer with laser light from the back surface; and exposing the reformed layer by subjecting the back surface of the semiconductor wafer to polishing or grinding processing after the process of forming the mark.例文帳に追加

半導体ウェーハの背面からレーザ光を照射して、前記半導体ウェーハの背面より内部に非単結晶質の改質層からなるマークを形成する工程と、前記マークを形成する工程の後に、前記半導体ウェーハの背面を研磨或いは研削処理して前記改質層を表出させる工程を設ける。 - 特許庁

The method for removing the photoresist and the postetched residue comprises the steps of (a.) disposing a substrate having the photoresist and the postetched residue on the substrate, (b.) forming a reactive chemical species by adding a plasma gas composition containing a CHF3 as its one component, and (c.) exposing a surface of the substrate in a reaction chamber with its reactive chemical species.例文帳に追加

ａ．フォトレジストおよびポスト・エッチ残留物をその上に有する基板を反応チャンバ中に配置し、 ｂ．ＣＨＦ_3をその一成分として含むプラズマガス組成物を添加することによって反応性化学種を形成し、 ｃ．その反応性化学種に、反応チャンバ中の基板の表面を暴露して、フォトレジストおよびポスト・エッチ残留物を除去する 方法。 - 特許庁

The method for producing the β-type copper phthalocyanine pigment comprises a first step of dry pulverizing a crude copper phthalocyanine and providing an α-type crystal-containing pulverized material and a second step of exposing the pulverized material to water or water containing rosins added thereto at 120-200°C, especially 150-200°C and providing the β-type copper phthalocyanine pigment.例文帳に追加

粗製銅フタロシアニンを乾式粉砕してα型結晶含有粉砕物を得る第１工程、１２０〜２００℃、中でも１５０〜２００℃の水あるいはロジン類が添加された水にこの粉砕物を曝してβ型銅フタロシアニン顔料を得る第２工程からなることを特徴とする、β型銅フタロシアニン顔料の製造方法。 - 特許庁

Joint characteristics are improved by exposing the fiber of a connecting part by dissolving the base material by incinerating, melting the material at a melting point or higher, dissolving the material in an organic solvent or mechanically removing the material, entangling the fibers with each other, then impregnating the material, again complexing the material and forming the joint.例文帳に追加

上記課題を解決するため、本発明では、母材を焼却あるいは融点以上で融解させるか有機溶媒で溶解させるか機械的の除去することによって接合部分の繊維を露出させ、これらの繊維を互いに絡めあわせた後に母材を含浸させて再度複合化させて継手を作成することで継手特性の向上を図る。 - 特許庁

In a process for patternwise exposing a negative resist for an ink jet process of the pattern forming method, a pattern is formed by irradiation with an energy beam in an environmental atmosphere in which the contact angle between a negative resist surface which becomes developer-insoluble by an energy beam and ink becomes larger than the contact angle between an unirradiated developer-soluble surface part and the ink.例文帳に追加

インクジェット法のための、ネガ型レジストのパターン露光法において、エネルギー線により現像液不溶性となるネガ型レジスト表面のインクに対する接触角が、未照射部の現像液可溶性表面部のインクに対する接触角よりも大きくなる環境雰囲気中でエネルギー線を照射しパターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The multilayer electronic component 1 comprises an inner electrode 5 formed in a function material layer 3, and another function material layer 3 laid thereon wherein heat dissipation layers 10 and 11 exposing the end to the surface of the component body 2 are formed on the same plane as the inner electrode 5 of the function material layer 3 on the outside thereof.例文帳に追加

機能材料層３の内方に内部電極５を形成し、これに別の機能材料層３を積層した積層電子部品１において、前記機能材料層３の内部電極５と同一面上で内部電極５の外方に部品本体２の表面に端部を露出する放熱層１０，１１を形成した積層電子部品を提供する。 - 特許庁

The optical head 1 has an objective lens drive 2 driving an objective lens 12, a housing 3 supporting the objective lens drive 2 and a cover 4 having an aperture part 4a for exposing the objective lens 12 and a yoke 14 positioned in the vicinity of the objective lens 12 in a state in which the objective lens drive 2 is supported by the housing 3.例文帳に追加

開示される光ヘッド１は、対物レンズ１２を駆動する対物レンズ駆動装置２と、対物レンズ駆動装置２を支持するハウジング３と、対物レンズ駆動装置２がハウジング３に支持された状態において、対物レンズ１２及び対物レンズ１２近傍に位置するヨーク１４を露出させるための開口部４ａが形成されたカバー４とを有している。 - 特許庁

The apparatus for capturing the mollusks is used by making the mollusks ingest the attractant arranged in the apparatus for capturing or exposing the mollusks to a fragrance of the attractant collected in a fragrance storage part 8 so as to deteriorate a risk avoiding ability and make the avoidance of a substance causing a humor secretory reaction fail by paralyzing sense organs of the mollusks or using both in combination.例文帳に追加

軟体動物の感覚器を麻痺させることで危険回避能力を低下させて体液分泌反応を生じる物質の回避を失敗させるために、捕獲器内に配置した誘引剤を軟体動物に摂取させるか、芳香貯留部８に溜まった誘引剤の芳香を暴露させるか、もしくは併用する軟体動物の捕獲器である。 - 特許庁

A method comprises the steps of: forming an insulating film by applying CVD treatment on a base substance to be treated whose main component is single crystal silicon; and exposing the base substance to be treated to plasma generated by irradiating treatment gas with microwave via a flat surface antenna member (SPA) having a plurality of slots, and reforming the insulating film using plasma.例文帳に追加

単結晶シリコンを主成分とする被処理基体上にＣＶＤ処理を施して絶縁膜を形成する工程と、前記被処理基体を、複数のスロットを有する平面アンテナ部材（ＳＰＡ）を介して処理ガスにマイクロ波を照射することにより生成したプラズマに晒し、このプラズマを用いて前記絶縁膜を改質する工程と、を含む。 - 特許庁

In this plasma processing method, after the film containing the magnetic material (magnetized free layer 33) is subjected to the etching process, processing is carried out for exposing the film containing the magnetic material (magnetized free layer 33) subjected to the etching process into the plasma atmosphere of a gas mixture having a gas containing hydrogen gas or at least hydrogen atoms and also having oxygen gas or nitrogen gas.例文帳に追加

磁性体材料を含む膜（磁化自由層３３）をエッチング加工した後、水素ガスもしくは少なくとも水素原子を含むガスを有するとともに酸素ガスもしくは窒素ガスを有する混合ガスのプラズマ雰囲気中にエッチング加工した磁性体材料を含む膜（磁化自由層３３）をさらす処理を行うプラズマ処理方法である。 - 特許庁

In the exhaust emission control device injecting liquid reducing agent from a nozzle 4 into exhaust gas before the catalyst, a pressurizing means 20 exposing liquid reducing agent sent from a tank 10 to gas of higher pressure than atmospheric pressure before an injection quantity control valve 5 adjusting injection quantity from the nozzle 4.例文帳に追加

ノズル４から触媒前の排気中に液体還元剤を噴射するようにした排気浄化装置において、ノズル４からの噴射量を調整する噴射量制御弁５の前に、タンク１０から送られてきた液体還元剤を大気圧よりも高い圧力の高圧気体中に晒す加圧手段２０を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

The paper sheet separating member using polyurethane as the base material is characterized by dispersing granular polyolefin wax such as polyethylene wax and polypropylene wax in a molten state at least partially on a boundary face with the polyurethane in the base material and by exposing at least a part of the polyolefin wax on a surface of the member.例文帳に追加

基材としてポリウレタンを用いた紙葉類分離部材において、基材中に、ポリエチレンワックスやポリプロピレンワックスなどの粒状のポリオレフィンワックスがポリウレタンとの界面において少なくとも部分的に溶融状態で分散されており、少なくともその１部が部材表面に露出する状態で存在することを特徴とする紙葉類分離部材。 - 特許庁

Since the suction holes 300 are provided at a central part side of the surface plate 110 of the vertical suction grooves 302 and the radial suction grooves 304, curled photopolymer plate 102 can be closely adhered on an upper surface of the surface plate 110 successively from its central part toward an outer peripheral part and thereby image inferiority such as out of focus at the time of exposing the image can be prevented.例文帳に追加

吸引孔３００を縦吸引溝３０２、放射状吸引溝３０４の定盤１１０中央部側に設けたため、カールしたフォトポリマー版１０２をその中央部から外周部へ向けて順次定盤１１０上面に密着させることができ、画像を露光する際のピントボケ等の画像不良を防止できる。 - 特許庁

To provide a treatment method for a planographic printing plate constituted so as to use a washing agent containing at least one kind of a chelating agent to wash the surface of the planographic printing plate manufactured by imagewise exposing and developing the original plate of the planographic printing plate wherein an image forming layer is provided on a support having a hydrophilic surface in which a hydrophilic graft polymer chain is present.例文帳に追加

親水性グラフトポリマー鎖が存在する親水性表面を有する支持体上に、画像形成層を有する平版印刷版用原版を、画像露光及び現像して平版印刷版を作製し、少なくとも一種のキレート剤を含有する洗浄剤を用いて版面洗浄処理を行うことを含む平版印刷版の処理方法。 - 特許庁

In the target design data 101, the multiply-exposing mask patterns are formed by carrying out a process of disposing auxiliary patterns 105 virtually connecting the tips 103a, 104a of a pair of the line design patterns 103, 104 facing each other with a predetermined space in between at the tips 103a, 104a in the design data.例文帳に追加

目的となる設計データ１０１において、先端部分１０３ａ,１０４ａで所定の離間距離をおいて対向する一対の線状設計パタン１０３，１０４について、設計データ上で仮想的に先端部分１０３ａ,１０４ａ間を接続する補助パタン１０５を配する処理を行い多重露光用マスクパタンを生成する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus having a stage in a split state that facilitates working and transportation and capable of enhancing the connection strength of the stage upon assembling, to provide an exposure apparatus that can be easily assembled and easily adjusted in an assembled portion from the split state even after being assembled, and to provide a method of exposing liquid crystal.例文帳に追加

加工と輸送が容易な分割状態のステージであって、ステージの組立てでの接続強度を強くすることができる露光装置を提供及び容易に組立てができ、あるいは組立て後であっても分割状態から組立てた部位を容易に調整することができる露光装置または液晶露光方法を提供することにある。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor in the image forming method for forming multiple sheets of actual images by repetitively subjecting the surface of the electrophotographic photoreceptor to at least electrostatic charging, image exposing, developing, transferring and cleaning stages is an organic electrophotographic photoreceptor and the brightness change rate of the organic electrophotographic photoreceptor is ≤10%.例文帳に追加

電子写真感光体上に少なくとも、帯電、像露光、現像、転写、及びクリーニング工程を繰り返し、多数枚の実画像を形成する画像形成方法において、該電子写真感光体が有機電子写真感光体であり、該有機電子写真感光体の光沢度変化量が１０％以下であることを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

The sun visor 101 for the vehicle relating to the present invention has the sun visor body 103; the plurality of kinds of mirrors 121, 123 arranged in a plane direction of the sun visor body in the parallel form in the sun visor body 103; and an opening 129 formed on the sun visor body 103 and exposing one mirror of the plurality of kinds of mirrors 121, 123.例文帳に追加

本発明に係る車両用サンバイザ１０１は、サンバイザ本体１０３と、サンバイザ本体１０３内に当該サンバイザ本体の面方向に並列状に配置された複数種類の鏡１２１，１２３と、サンバイザ本体１０３に形成され、複数種類の鏡１２１，１２３のうちの一の鏡を露出させる開口１２９と、を有する。 - 特許庁

In the image recorder which forms electrostatic latent images by image exposing a surface of an image carrier 1 by a spot light, at the image exposure time, the spot light is passed through a nonlinear optical means 16 having nonlinear optical characteristics of absorbing a part of a small quantity of light of the spot light and suddenly passing the light when the light exceeds a predetermined threshold.例文帳に追加

像担持体１表面をスポット光により像露光して静電潜像を形成する画像記録装置において、像露光する際に、スポット光の少ない光量部分を吸収して所定の閾値を越えたところで急激に光を透過させる非線形光学特性を有する非線形光学手段１６を通過させることを特徴とする。 - 特許庁

Furthermore, a sealing method includes a step of exposing the plurality of cable strands 12 by stripping the insulator 14 from an end of the cable 10, and a step of applying the sealant 18 to the cable strands 12 so that the sealant 18 is drawn under the insulator 14 and fills in gaps 16 between the cable strands 12 by capillary action.例文帳に追加

更に、方法は、絶縁材１４をケーブル１０の端部から剥ぎ取って、複数のケーブル撚り線１２を露出させる段階と、シール剤１８をケーブル撚り線１２に塗布して、シール剤１８が、毛管現象によって、絶縁材１４の下に吸い込まれ、ケーブル撚り線１２の間の隙間１６を埋めるようにする段階と、を含んでいる。 - 特許庁

It is possible to effectively use a carbonized waste as a fuel or to other purposes, by exposing while stirring wastes comprising one or more of garbage, waste wood, paper diapers, and waste plastics to high temp. steam in an oxygenless condition and carbonizing, and safely and effectively decreasing the volume of the wastes without the fear of generating noxious substances, such as dioxins.例文帳に追加

生ごみ、廃木材、紙おむつ、廃プラスチックの１又は２以上を主体とする廃棄物を攪拌しながら無酸素状態で高温蒸気に曝し、炭化させることにより、ダイオキシン等の有害物質を発生させる恐れがなく、安全かつ効率的に廃棄物を減量して、しかも炭化させた廃棄物を燃料等の用途に有効活用することができる。 - 特許庁

To provide an image transfer unit which can be made small-sized and lightweight more than a conventional unit and can obtain a high-definition image of high sharpness by using a liquid crystal display having a high-definition screen of a high pixel density as an image transfer unit which transfers an image by exposing a photosensitive recording medium to projection light carrying the image.例文帳に追加

画像を担持する投影光を感光性記録媒体に露光することによって画像を転写する画像転写装置において、従来の転写装置に比べ、小型軽量化を可能とし、画素密度の高い高精細画面を持つ液晶ディスプレイを用いて鮮明度の高い高精細な画像を得ることのできる画像転写装置を提供する。 - 特許庁

Further the method for manufacturing the module comprises steps of: polishing the insulating layer 5 formed on the substrate 2; flatening the upper surface 51 of the insulating layer 5 and exposing the upper surface 42 of the conductive material 4; and forming the conductive film 6 on the upper surface 51 of the insulating layer 5 and the upper surface 42 of the exposed conductive material 4.例文帳に追加

さらに、モジュールの製造方法は、基板２上に形成された絶縁層５を研磨して、絶縁層５の上面５１を平面状に形成するとともに導電体４の上面４２を露出させる工程と、絶縁層５の上面５１と、露出した導電体４の上面４２とに導電膜６を形成する工程とを備える。 - 特許庁

When a semiconductor manufacturing system, having a loader chamber 101, an unloader chamber 102, and a plurality of processing chambers 103-106 for depositing a film, and the like, disposed around a carrying chamber 107 is used, a TFT can be processed without being exposing to the atmosphere between each processing step, and each coating interface constituting the TFT can be kept in clean state.例文帳に追加

搬送室１０７を中心にローダ室１０１、アンローダ室１０２、成膜等の複数の処理室１０３〜１０６を有する半導体作製装置を用いることにより各処理工程の間をクリーンルーム大気に曝すことなく処理することができ、ＴＦＴを構成する各被膜界面を清浄に保つことが可能となる。 - 特許庁

When the calculated time ΔTA is longer than an exposing time ΔTE, an image pickup signal VA1 to be obtained by exposure in the vertical scanning period T1, and to be outputted in the next vertical scanning period T2 is validated, and image pickup data VD1 outputted from an A/D converter for a camera are fetched in a memory for a camera signal.例文帳に追加

算出された時間ΔＴＡが露光時間ΔＴＥよりも長い場合には、当該垂直走査期間Ｔ１での露光により得られかつ次の垂直走査期間Ｔ２で出力される撮像信号ＶＡ１が有効になり、カメラ用Ａ／Ｄコンバータから出力される撮像データＶＤ１をカメラ信号用メモリに取り込む。 - 特許庁

The field electron emitting element is manufactured by forming a cathode electrode 5, an insulation layer 6 and a gate electrode 7 on a substrate 4, forming the carbon film 8 on whole surface, forming a resist film 24, exposing and developing the resist film 24 in a prescribed pattern by using a mask, etching the carbon film 8 by using the resist film 24, and by removing the resist film 24.例文帳に追加

基板４上にカソード電極５、絶縁層６およびゲート電極７を形成し、炭素膜８を全面に形成し、レジスト膜２４を形成し、マスク２５を用いてレジスト膜２４を所定のパターンに露光、現像し、現像後のレジスト膜２４をマスクとして炭素膜８をエッチングし、レジスト膜２４を除去して電界電子放出素子を製造している。 - 特許庁

The method for manufacturing the electronic device includes steps of: forming a resist film of a negative type photoresist composition on the substrate; obtaining the substrate having the resist pattern by exposing the resist film in the pattern and developing it; forming the metal film on the substrate having the resist pattern; and removing the resist pattern from the substrate using the removing agent composition.例文帳に追加

また、基板上にネガ型フォトレジスト組成物をのレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜をパターン状に露光し、現像してレジストパターンを有する基板を得る工程と、レジストパターンを有する基板の上に金属膜を形成する工程と、上記除去剤組成物を用いてレジストパターンを基板から除去する工程とを有する電子デバイスの製造方法。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device includes: a step of forming a resist layer on a semiconductor substrate; a step of exposing the resist layer with a grating mask; a step of developing the exposed resist layer to form a resist mask having a gradient; and a step of forming an impurity region by implanting ions in the semiconductor substrate via the resist mask.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体基板上にレジスト層を形成する工程と、グレーティングマスクを用いてレジスト層を露光する工程と、 露光されたレジスト層を現像し、勾配を有するレジストマスクを形成する工程と、レジストマスクを介して、半導体基板にイオンを注入することで不純物領域を形成する工程と、を具備する。 - 特許庁