Exposingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6240件
The method of manufacturing the soft contact lens having a hydrophilic surface includes subjecting a copolymer consisting of the hydrogel having a contact lens shape and containing the silicone to low-temperature plasma treatment by using active gas and/or inert gas, exposing the copolymer under an oxygen atmosphere and subjecting the copolymer to immersion treatment into an aqueous hydrophilic monomer solution at ≥100°C.例文帳に追加
コンタクトレンズ形状を有し、かつシリコーンを含むハイドロゲルからなる共重合体を活性ガスおよび/または不活性ガスを用いて低温プラズマ処理し、酸素雰囲気下に曝し、かつ100℃以上の温度において親水性モノマー水溶液中に浸漬処理することを含む、親水化表面を有するソフトコンタクトレンズの製造方法。 - 特許庁
To provide a wafer for oil immersion lithography and the manufacturing method of the same, capable of effecting exposure process while preventing the outflow of liquid to the outside of the wafer upon exposing the neighborhood of outer peripheral part of the wafer, in the oil immersion lithography for effecting exposure treatment under a condition that a gap between the projection optical system of exposure device for manufacturing semiconductor and the wafer is filled with liquid.例文帳に追加
半導体製造用露光装置の投影光学系とウェハとの間を液体で満たした状態で露光処理する液浸リソグラフィにおいて、ウェハの外周部付近を露光する際にもウェハの外側へ液体が流出するのを防ぎつつ露光処理できる液浸リソグラフィ用ウェハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
An exposure apparatus has a measurement station for measuring a substrate and an exposure station for exposing the substrate while controlling the substrate based on the measurement results at the measurement station, wherein the exposure apparatus carries out exposure of an N-th substrate (where N is a natural number) at the exposure station and measurement of an N+1-th substrate at the measurement station in parallel.例文帳に追加
露光装置は、基板を計測する計測ステーションと、前記計測ステーションにおける計測の結果に基づいて基板を制御しながら該基板を露光する露光ステーションとを有し、前記露光ステーションにおけるN枚目(Nは自然数)の基板の露光と前記計測ステーションにおける(N+1)枚目の基板の計測とを並行して実行する。 - 特許庁
The laser abrasion type image forming material is set in a manner to keep the light transmitting supporting body side on a drum side, and by scanning and exposing a laser beam from the image forming layer side, a recorded image is obtained by this image forming method, and in such an image forming method, a laser beam diameter in a subsidiary scanning direction is larger than a dot arrangement pitch in the subsidiary scanning direction.例文帳に追加
上記レーザーアブレーション型画像形成材料を、光透過性支持体側をドラム側にしてセットし、画像形成層側からレーザー光を走査露光することにより記録画像を得る画像形成方法において、副走査方向のレーザービーム径が、副走査方向のドット配列ピッチよりも大きいことを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁
The immersion exposure process is characterized in that the resolution of the resist pattern is improved by exposing a resist film to light via the nonaqueous liquid of a certain thickness which has a refractive index higher than that of the air and is disposed at least on the resist film within the path where a lithography exposure light propagates through to the resist film.例文帳に追加
前記液浸露光プロセスが、リソグラフィー露光光がレジスト膜に到達するまでの経路の少なくとも前記レジスト膜上に、空気より屈折率が大きい所定厚さの前記非水性液体を介在させた状態で、前記レジスト膜を露光することによってレジストパターンの解像度を向上させる構成であることを特徴とする。 - 特許庁
This food processing method is characterized by heating the food by the condensing heat transfer of the water by continuously sticking the condensate to the food surface by exposing superheated steam to the food, and reducing the oxidation of the component in the food by setting the oxygen concentration of the atmosphere around the food to the oxygen concentration or less in the atmosphere.例文帳に追加
食品に過熱水蒸気を曝して該食品表面に凝縮水を連続的に付着させることにより、該食品を水の凝縮伝熱により加熱すると共に、前記食品周囲の雰囲気の酸素濃度を大気中の酸素濃度以下にして、該食品内の成分の酸化を低減することを特徴とする、食品加工方法。 - 特許庁
To solve the problem of causing breakage of a silicon-based material when a silicon nitride film deteriorates and expands, when manufacturing a microstructure having a hollow space, by processing a sample of exposing a silicon oxide film from an opening of the siliconbased material, covering the silicon oxide film with the siliconbased material, and forming the silicon oxide film on the silicon nitride film.例文帳に追加
シリコン窒化膜上にシリコン酸化膜が形成されており、そのシリコン酸化膜がシリコン系材料で覆われており、そのシリコン系材料の開口からシリコン酸化膜が露出している試料を加工して中空空間を有するマイクロ構造体を製造すると、シリコン窒化膜が変質膨張してシリコン系材料の破壊が生じる。 - 特許庁
The manufacturing method of a substrate with a transparent conductive film includes: a step of depositing an Sn-containing indium oxide film on a transparent substrate by a sputtering method; and a step of exposing the substrate having the Sn-containing indium oxide film in plasma generated from gaseous oxygen while the gas pressure of gaseous oxygen in a chamber is ≥300 Pa.例文帳に追加
透明基板上に、Sn含有酸化インジウム膜をスパッタリング法により形成する工程と、チャンバー中の酸素ガスのガス圧を300Pa以上とし、酸素ガスより生成したプラズマ中に、前記Sn含有酸化インジウム膜付き基板を曝露する工程とを、含むことを特徴とする透明導電膜付き基板の製造方法である。 - 特許庁
The actuator 50 comprises the output shaft 53 connected to a tilting supporting shaft 61 of the tilting member 60 in a coaxial and integrally rotatable manner for outputting rotating power generated by a rotating power generating part 51, and a case 54 covering the whole and having an opening for exposing one axial end of the output shaft 53 to the outside.例文帳に追加
アクチュエータ50は、回転動力発生部51で発生した回転動力を出力するとともに傾動部材60の傾動支軸61に同軸かつ一体回転可能に連結される出力軸53と、全体を覆うとともに出力軸53の軸方向一端側を外部に露呈させるための開口を有するケース54とを含む。 - 特許庁
The method includes in a first reaction chamber converting at least a part of the copper containing surface layer 4 into a copper halide surface layer 5 and in a second reaction chamber removing at least a part of the copper halide surface layer 5 by exposing it to a photon atmosphere 6, thereby initiating formation of volatile copper halide products 8.例文帳に追加
この方法は、第1反応チャンバ中で、銅含有表面層4の少なくとも一部を、ハロゲン化銅表面層5に変える工程と、第2反応チャンバ中で、光子含有雰囲気6に晒して、ハロゲン化銅表面層5の少なくとも一部を除去して、揮発性のハロゲン化銅生成物8の形成を始める工程とを含む。 - 特許庁
Since the light guide 31a and the light guide 31 are joined at a joining jig 38 into a light guide 35, each light from two light source units 40a and 40b being guided after all through the light guide 35 to a lens system 29 and cast to an edge part of a substrate (W) held by a spin chuck 13 to carry out an edge exposing process.例文帳に追加
ライトガイド31aとライトガイド31bとは合流用治具38においてライトガイド35に合流されるため、2つの光源ユニット40a,40bから出射されたそれぞれの光は結局ライトガイド35によってレンズ系29まで導かれ、スピンチャック13に保持された基板Wの端縁部に向けて出射されてエッジ露光処理が進行する。 - 特許庁
The method of manufacturing a conductive film includes a step of forming, on a support, a conductive metal portion containing a conductive material and a water-soluble binder; and a heat-moisture treatment step of exposing the support whereon the conductive metal portion is left in a moisture-controlled atmosphere at 40°C or above and a relative moisture of 5% or above.例文帳に追加
支持体上に導電性物質と水溶性バインダーとを含有する導電性金属部を形成する工程と、前記の導電性金属部が形成された支持体を、温度40℃以上、相対湿度5%以上の調湿条件下の雰囲気中に放置する湿熱処理工程とを有する、導電膜の製造方法。 - 特許庁
The light exposing apparatus 62 which irradiates a photo-conductor 58 with a light to write a latent image, has an LED array 90 consisting of a plurality of LEDs 88 aligned and arranged, and an adjusting means 98 for adjusting the relative angle between the photo-conductor 58 and the LED array 90 in accordance with the length in the main scanning direction of this LED array 90.例文帳に追加
感光体58に光を照射して潜像を書き込む露光装置62であって、整列配置された複数のLED88からなるLEDアレイ90と、このLEDアレイ90の主走査方向の長さ変動に応じて感光体58とLEDアレイ90との相対角度を調整する調整手段98とを有する。 - 特許庁
In the thin film deposition method, discharge gas is introduced in a discharge space and excited under atmospheric pressure or the pressure close to atmospheric pressure, the excited discharge gas is mixed with thin film deposition gas containing a raw material outside the discharge space to form secondary excitation gas, and a thin film is deposited on a base material by exposing the secondary excitation gas to the base material.例文帳に追加
大気圧または大気圧近傍の圧力下で、放電ガスを放電空間に導入して励起し、該励起した放電ガスと、原料を含む薄膜形成ガスとを、放電空間外で混合させて二次励起ガスとし、該二次励起ガスを基材に晒すことにより、該基材上に薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。 - 特許庁
The mobile information terminal 1 includes: the terminal main body 2; the cover 3 movable between a first position for covering a first principal face of the terminal main body 2 and a second position for exposing the first primary face; and a slide mechanism 4 for fitting the cover 3 to the terminal main body 2 in a slidable way between the first and second positions.例文帳に追加
携帯情報端末装置1は、装置本体部2と、装置本体部2の第1の主面側を覆う第1の位置と該第1の主面を露出させる第2の位置の間で移動可能な蓋部3と、蓋部3を装置本体部2に対して前記第1の位置と第2の位置の間でスライド移動可能に取り付けているスライド機構4と、を備えている。 - 特許庁
A method for forming a Cu wiring film on a TiN film for diffusion barrier, after the TiN is formed, includes an annealing step of heating a base film to a temperature of 200-500°C in a vacuum state without exposing the base film to the atmosphere after a step of forming the base film between the steps of forming the TiN film and the Cu wiring film.例文帳に追加
このCu配線膜形成方法は、拡散バリア用TiN膜を成膜し、TiN膜の上にCu配線膜を成膜する方法であり、TiN膜の成膜工程とCu配線膜の成膜工程の間に下地膜の成膜工程後大気にさらすことなく真空一貫の状態で200〜500℃の温度で加熱するアニール工程を設ける。 - 特許庁
An A room 1 has an aligner for exposing a wafer W1 inside and is filled with a pressure-reduced atmosphere of expensive helium and when a gate valve 1a is opened in order to carry the wafer W1 in the A room 1, helium is introduced into a load lock room 3 from a helium source 7a after the load lock room 3 is evacuated through a 1st discharge line 4.例文帳に追加
A室1は、ウエハW_1 を露光するための露光装置を内蔵し、高価なヘリウムの減圧雰囲気によって満たされており、ウエハW_1 をA室1に搬入するためにゲートバルブ1aを開くときは、第1の排気ライン4によってロードロック室3を真空排気したうえで、ヘリウム源7aからロードロック室3にヘリウムを導入する。 - 特許庁
To provide a method for measuring the quantity of light of LEDs of an LED print head for exposing a photosensitive body mounted to an image forming device and capable of reducing exposure variations in the surface of the photosensitive body even when a set current value of each LED is regulated directly according to a measured value of the acquired quantity of light of each LED.例文帳に追加
画像形成装置に搭載される感光体露光用としてのLEDプリントヘッドのLEDについて、得られた各LED光量の測定値にそのまま従って、各LEDの設定電流値が調整されたとしても、感光体表面の露光量のばらつきの低減が可能な光量測定方法を提供する。 - 特許庁
The method is characterized in that after the photo-polymerizable ink composition comprising a polymerization initiating system with a molar absorptivity coefficient of ≥1,000 M^-1cm^-1 in a light wave region of 400 nm-700 nm and a polymerization initiator is delivered on a substrate, the delivered ink is polymerized and cured by light-exposing by a light source of ≤1,000 W.例文帳に追加
支持体上に、400nm〜700nmの光波長領域におけるモル吸光係数が、1000M^−1cm^−1以上の重合開始系及び重合開始剤を含有する光重合型インク組成物を打滴した後、1000W以下の光源で露光により打滴されたインクを重合、硬化することを特徴とする。 - 特許庁
This fraudulent unlocking operation preventive metal fitting 1 to a thumb-turn 7 of a door 6, is composed of a plate part 11 having a property of not easily opening a hole by a boring tool such as a drill, and forming a thumb-turn exposing hole part 13, and a rising wall-shaped thumb-turn surrounding part 12 continuously formed in the plate part.例文帳に追加
ドア6のサムターン7に対する不正開錠操作防止用金具1を、ドリルなどの穴あけ工具では簡単に穴が開けられることのない性状を有してサムターン露出用の穴部13を形成したプレート部11、および当該プレート部に連続して形成された起立壁状のサムターン囲み部12などで構成する。 - 特許庁
This structure is characterized by fitting a hose H exposing a conductive wire 3 to the surface of the hose H into a grounded metallic pipe 17, fitting a ring-shaped metallic grounding member 18 into a connecting part of the metallic pipe 17 and the hose H and bringing the grounding member 18 into contact with the metallic pipe 17 and the conductive wire 3 on the surface of the hose H.例文帳に追加
ホース表面に導電線3を露出させたホースHを、アースされている金属パイプ17にはめ込むとともに、これら金属パイプ17とホースHとの接続部分にリング状にした金属製のアース部材18をはめて、このアース部材18を金属パイプ17とホースH表面の導電線3とに接触させたことを特徴とする。 - 特許庁
In this case, the semiconductor layer, the data line and the drain electrode or the pixel electrode are patterned using a photosensitive film pattern obtained by exposing and developing a photosensitive film in the exposure process of a photoetching step as a mask, and a boundary line of the gate electrode overlapping with the drain electrode is arranged to be perpendicular to the scanning direction of exposure for the photosensitive film in the exposure process.例文帳に追加
この時、半導体層、データ線及びドレイン電極又は画素電極は、フォトエッチング工程の露光工程で感光膜を露光及び現像した感光膜パターンをエッチングマスクにしてパターニングし、ドレイン電極と重畳するゲート電極の境界線を、露光工程で感光膜を露光するスキャニング方向に対して直交して配置する。 - 特許庁
The resin letterpress plate is obtained by forming a relief by exposing and developing a photosensitive resin layer (30) stacked on a substrate (1), wherein the photosensitive resin layer (30) consists of two layers (31, 32) different in light scattering property and the layer (32) closer to the substrate has higher light scattering property than the layer (31) closer to a surface layer.例文帳に追加
基材(1)の上に積層された感光性樹脂層(30)を露光して現像することでレリーフを形成した樹脂凸版であって、前記感光性樹脂層(30)が光散乱性の異なる2層(31、32)から成り、基材に近い側の層(32)が表層に近い側の層(31)よりも光散乱性の高い層であることを特徴とする樹脂凸版。 - 特許庁
The in-line optical component comprises: a ferrule having a through hole in the center and an inclined groove parting the through hole; optical fibers inserted and fixed to each of the parted through holes; and two optical elements tightly adhered to the inclined end faces to cover the respective optical fiber end faces exposing in the inclined groove.例文帳に追加
中央に貫通孔を有するとともに該貫通孔を分断する傾斜溝を備えたフェルールと、上記分断された双方の貫通孔に挿入固定された光ファイバと、上記傾斜溝に露出した各光ファイバ端面を覆うように傾斜端面に密着させた2個の光学素子とからインライン型光部品を構成する。 - 特許庁
This storage cabinet has a first encapsulating body, an atmosphere control means which controls the atmosphere in the encapsulating body to a first atmosphere, and a transporting means which delivers or receives a stored object to or from the exposure system without exposing the object to the outside atmosphere of the encapsulating body and stores at least one object in the encapsulating body.例文帳に追加
第1封入体と、第1封入体の内部雰囲気を第1雰囲気となるように制御する雰囲気制御手段と、第1封入体の外部雰囲気に曝されることなく、被保管物を露光装置に受け渡す、または、露光装置から受け取る搬送手段を有し、被保管物を少なくとも1つ第1封入体の内部に保管する。 - 特許庁
The second operation member has a cover portion 100c coaxially disposed with the first operation member and cylindrically covering and partially exposing the periphery of the first operation member, and the second female screw portion engaged with the second male screw portion to longitudinally be moved by a relative rotation with the cylindrical member, and contacts with the drag mechanism 60 to adjust the dragging force.例文帳に追加
第2操作体は、第1操作体と同芯に配置され、第1操作体の周囲を筒状に覆いかつ部分的に露出させるカバー部100c、及び筒状体との相対回転により前後移動するように第2雄ねじ部に係合する第2雌ねじ部を有し、ドラグ機構0に接触してドラグ力を調整するためのものである。 - 特許庁
This optical disk master disk exposing device controls the driving of the spindle motor and a slider in every rotation of the spindle with a spindle rotation command pulse train and a slider movement command pulse train generated by dividing a pulse train of basic clocks whose number is proportional to ideal line length determined by the start radius position of a spiral, the number of tracks, and spiral track pitch.例文帳に追加
本発明の光ディスク原盤露光装置は、スピンドル1回転毎に、スパイラルの開始半径位置、トラック数及びスパイラルトラックピッチにより定まる理想的線路長に比例した数の基本クロックのパルス列を分周して生成したスピンドル回転指令パルス列及びスライダ移動指令パルス列によりスピンドルモータ及びスライダの駆動を制御する。 - 特許庁
The plate 51 has opening parts 81A-86A each exposing at least a part of each of the keys 81-86 when placed on the touch screen 20, and expresses information showing contents equivalent to the key information near each of the opening parts 81A-86A by tactile sense information 81B-86B composed of a recessed part or a projecting part.例文帳に追加
プレート51は、タッチスクリーン20上に載置されたときキー81〜86のそれぞれの少なくとも一部を露出させる開口部81A〜86Aを有するとともに、開口部81A〜86Aのそれぞれの近傍にキー情報と同等の内容を示す情報を凹部又は凸部からなる触覚情報81B〜86Bで表している。 - 特許庁
Processing such as printing, exposing, washing or sticking is applied to a film substrate 1 while using a film substrate holder 20A composed of a frame-shaped body 21 a little larger than the area of the film substrate 1 cut into prescribed dimension, an arm 31 for fixing at least four corners of the film substrate 1 on both terminal parts on a diagonal and a clip 35.例文帳に追加
所定寸法にカットされたフィルム基板1の面積よりも若干大きい額縁状の枠体21と、対角線上の両端部でフィルム基板1の少なくとも4隅を固定するためのアーム31とクリップ35とからなるフィルム基板保持具20Aを用いてフィルム基板1に対する印刷、露光、洗浄、貼り合わせ等の処理を施す。 - 特許庁
The aligner EX includes the light source A, an aligner body B for exposing a photosensitive substrate P with illuminating light from the source A, a controller CONT for controlling the exposure operation of the body B, and a communication apparatus 50 for communicating with the controller CONT for information relating to the operating state of the source A.例文帳に追加
露光装置EXは、光源装置Aと、光源装置Aからの照明光により感光基板Pを露光処理する露光装置本体Bと、露光装置本体Bの露光動作を制御する制御装置CONTと、光源装置Aの動作状況に関する情報を制御装置CONTに通信する通信装置50とを備えている。 - 特許庁
A detection sensor 23 is arranged on the most downstream side in the advancing direction of the intermediate transfer belt 8, and the rotational speed of a driving roller 11 is varied, based on variation of a time difference between the output signal from the sensor and an exposure signal for exposing photoreceptor drums 1a to 1d, whereby the surface speed of the intermediate transfer belt 8 is corrected.例文帳に追加
中間転写ベルト8の進行方向において最下流側には検知センサ23が配置され、当該センサの出力信号と、感光体ドラム1a〜1d上へ露光するための露光信号と、の時間差の変化量に基づいて、駆動ローラ11の回転速度を変動させることによって、中間転写ベルト8の表面速度を補正する。 - 特許庁
The mask formed by forming phase shift patterns on the flat main surface of a transparent plate and coating the ends of the phase shift patterns with light shielding film patterns of a dielectric substance, high resistor or organic material having the reflectivity smaller than the reflectivity of a metallic film of Cr, etc., is used and the mask patterns are transferred by projection exposing to a photosensitive material formed on the surface of a work piece.例文帳に追加
透明板の平坦な主表面に位相シフトパターンを形成し、この位相シフトパターンの端部をCr等の金属膜よりも反射率の小さい誘電体、高抵抗体、又は有機体の遮光膜パターンで被覆したマスクを用いて、被加工物の表面に形成された感光性膜に対してこのマスクパターンを投影露光して転写する。 - 特許庁
The outer package frame 1 has an opening part 4 exposing a first flat surface 2A and a second flat surface 2B, and is formed by integrally molding with plastic a side frame 6 covering a first side surface 2E and a second side surface 2F of the thin battery 2, a terminal frame 7 covering a terminal surface 2C and a bottom frame 8 covering an end surface.例文帳に追加
外装枠1は、薄型電池2の第1の平坦面2Aと第2の平坦面2Bを表出させる開口部4を有し、かつ薄型電池2の第1の側面2E及び第2の側面2Fを覆う側枠6と、端子面2Cを覆う端子枠7と、端面2Dを覆う底枠8とをプラスチックで一体成形している。 - 特許庁
The method of manufacturing the semiconductor device includes a step of forming the first metal wiring 12 having the partial film thickness of the entire film thickness of the metal wiring, a step of forming an interlayer dielectric 14 covering the entire upper surface of an underlying insulating film 10 and the first metal wiring, and a step of then exposing the surface of the first metal wring while flattening the surface by cutting the first interlayer dielectric.例文帳に追加
下地絶縁膜10の上に、メタル配線の全膜厚の一部の膜厚を有する第1メタル配線12を形成し、下地絶縁膜および第1メタル配線の上全面を覆う第1層間絶縁膜14を形成した後、第1層間絶縁膜を削ってその表面を平坦化しつつ、第1メタル配線の表面を露出する。 - 特許庁
This drying method is an IPA(isopropyl alcohol) drying method for exposing only the object to be processed or the object to be processed and a dummy member in the saturated vapor of an organic solvent, and the exposure time in the saturated vapor is constituted of the recovery time of the saturated steam and the additional time and is fixed, regardless of the fluctuations in the capacity of the object to be processed.例文帳に追加
(1)被処理物のみ、または被処理物およびダミー部材を有機溶剤の飽和蒸気中に曝すIPA乾燥法であって、飽和蒸気中の暴露時間が飽和蒸気のリカバリータイムとその付加時間とで構成され、かつ被処理物の容量の変動に拘わらず一定であることを特徴とする半導体基板の乾燥方法。 - 特許庁
To provide a method for exposing a flexographic plate material in which the top face of the water-developable synthetic rubber-base photosensitive resin layer of the flexographic plate material comprising a substrate and the photosensitive resin layer is coated with a plastic transparent film having 1-50 μm thickness and ≥9.8 MPa modulus of elasticity in tension and the plate material is imagewise exposed from the top face of the transparent film.例文帳に追加
本発明は、基体と水現像可能な合成ゴム系感光性樹脂層を有するフレキソ版材の該感光性樹脂層の上面に、厚さ1〜50μmで透明かつ引張弾性係数が9.8MPa以上であるプラスチック透明フィルムを被覆せしめ、この透明フィルムの上から画像露光することを特徴とするフレキソ版材の露光方法。 - 特許庁
The method for producing a heat-shrinkable oxygen-absorbing film comprises a series of processes of (i) a process for forming an oxygen absorbing composition to start oxygen absorption by exposure to radiation to a sheet, (ii) a process for exposing the sheet to at least 2 kilogray radiation and (iii) a process for stretching and processing the sheet obtained by the process (ii) to form a film.例文帳に追加
(i)放射線に暴露することにより酸素吸収を開始する酸素吸収性組成物をシート状に成形する工程、(ii)上記シートを少なくとも2キログレイの放射線に曝す工程、(iii)上記(ii)の工程を経たシートを延伸加工することにより、フィルム状に成形する工程、の順に一連の工程を行う。 - 特許庁
The writing-in connector 440 (external equipment connection terminal) for rewriting the setting of a control circuit mounted while being connected to the external equipment is arranged in the main circuit substrate 400 and the opening 22c for the connector for exposing the writing-in connector 440 in the accommodating part 21 is formed in the partitioning wall 22 of the accommodating part 21 for accommodating the battery 330.例文帳に追加
主回路基板400には、外部機器を接続して搭載された制御回路の設定を書き換えるための書き込みコネクタ(外部機器接続端子)440が設けられ、バッテリー330を収納する収容部21の隔壁22には、書き込みコネクタ440を収容部21内で露出させるためのコネクタ用開口22cが形成されている。 - 特許庁
The end of the terminal 11 on the battery 4 side is exposed from the housing 12, and configures an extension 14 extending to exceed an end 21 of the housing 12 in a direction substantially perpendicular to the exposing direction, and a battery connection 15 which comes into contact with the battery 4 is formed at a part of the extension 14 exceeding the end 21 of the housing 12.例文帳に追加
端子11のバッテリ4側の端部は、ハウジング12から露出し、当該露出方向に対して略直角方向にハウジング12の端部21を超えるように延出する延出部14を構成し、当該延出部14のハウジング12の端部21を超える部分に、バッテリ4と接触するバッテリ接続部15が形成されている。 - 特許庁
The antenna 11 is formed of an internal conductor 12, an insulating body 13 provided at the outer periphery of the body 13, an external conductor 14 provided at the outer periphery of the body 13 and having plural annular projections 14a consecutive in a longitudinal direction, and plural slots 15 formed at the projections 14a and exposing the body 13 from the conductor 14, which is smooth and cylindrical.例文帳に追加
内部導体12と、内部導体12の外周に設けられた絶縁体13と、絶縁体13の外周に設けられ、長さ方向に連続する複数の環状突起14aを有する外部導体14と、環状突起14aに形成され、外部導体14から絶縁体13が露出する複数のスロット15とを備えたアンテナ11とする。 - 特許庁
The miniaturization of the radiator is realized by making the effective diffusion of the Joule's heat be possible by using a heat slinger exposing inside a suction air stream by utilizing a suction air of the internal combustion engine as a forced cooling air blow, further, the wires are shortened by making the electronic device be possible to be mounted at the surroundings of the internal combustion engine which radiates heat around it.例文帳に追加
内燃機関の吸入空気を強制冷却風として利用し、吸入空気流中に露出する放熱板により効率的なジュール熱の放散を可能とすることにより放熱器の小型化を実現し、かつ、周囲に熱を発散する内燃機関の近傍への電子装置の設置を可能として諸配線を短縮する。 - 特許庁
The control board 8 equipped with an electronic component controlling a game, a board side connector 82 to which an outer connector is connected, and a printed wiring 83 is housed in a board case comprising a case body 12 and a case lid body 13 closing the case body 12, and an opening portion 131 exposing the board side connector 82 is formed in the case lid body 13.例文帳に追加
遊技を制御する電子部品、外部コネクタが接続される基板側コネクタ82及びプリント配線83を設けた制御基板8を、ケース本体12とケース本体12を閉塞するケース蓋体13とから成る基板ケース内に収容するとともに、ケース蓋体13に、基板側コネクタ82を露出させる開口部131を設ける。 - 特許庁
A lower electrode 31 and the piezoelectric layer (PZT thin film) 32 are formed on the entire surface of one surface side of a support substrate (single-crystal MgO substrate) 1 before patterning, and an opening 4a partially exposing the piezoelectric layer 32 and an insulating layer 4 including an etching hole 5 are formed at one surface side of the support substrate 1, and then an upper electrode 33 is formed.例文帳に追加
支持基板(単結晶MgO基板)1の一表面側の全面に下部電極31、圧電層(PZT薄膜)32を形成した後にそれぞれをパターニングし、支持基板1の上記一表面側に圧電層32の一部を露出させる開孔部4aおよびエッチングホール5を有する絶縁層4を形成してから、上部電極33を形成する。 - 特許庁
The cover 27 includes a cover body 41 surrounding the rotary body 25 and the tip structure 26 and having an opening part 51 of exposing the tip structure 26 to an external part of the cover 27 in an area opposed to the tip structure 26, and a cover 52 detachably installed on the cover body 41 and covering the opening part 51.例文帳に追加
カバー27は、回転体25および先端構造物26を取り囲むとともに、先端構造物26に対向する領域に先端構造物26を当該カバー27の外部に露出させる開口部51を備えたカバー本体41と、カバー本体41に脱着自在に取り付けられて開口部51を覆う蓋52とを備える。 - 特許庁
A method for manufacturing a semiconductor device comprises the steps of forming an antireflection film made of a two-layer film of a lower layer as a reflection film and an upper layer as an interference film to an exposure light on the substrate, emitting a pattern inspecting light via the antireflection film in the case of exposing a desired pattern on a photosensitive thin film coating the antireflection film, thereby aligning a photomask with the substrate.例文帳に追加
露光光に対して下層は反射膜であり、上層は干渉膜である二層膜からなる反射防止膜を基板上に形成し、その反射防止膜上に塗布した感光性薄膜に所望のパターンを露光する際に、反射防止膜を介してパターン検出光を照射することにより、ホトマスクと基板とのアライメントを行う。 - 特許庁
To realize an exposure device whose structure is simple and which is inexpensive by constituting a device for exposing a digital signal on a photosensitive material, of a light source part at which plural sets of LEDs are arrayed by setting three colors of the LEDs as one set, and an exposure head executing straight motion and a driving mechanism thereof and an optical fiber connected between the exposure head and a light source.例文帳に追加
デジタル信号を感光材料上に露光する装置を、三色のLEDを1組としてそれを複数組配列した光源部と、直動運動を行なう露光ヘッドおよびその駆動機構と、露光ヘッドと光源との間に接続された光学繊維とによって構成することにより、簡単な構造で安価な露光装置を実現する。 - 特許庁
The PPP method includes steps of: maintaining reviews for commodities received from users in association with a commodity ledger; exposing the commodity ledger as advertisement along with the reviews when the reviews are exposed; and providing the user with a predetermined compensation when a commodity is purchased through the commodity ledger.例文帳に追加
本発明に係るPPP方法は、ユーザから受信した商品に対するレビューを商品の商品原簿と関連して維持するステップと、レビューが露出される場合に、商品原簿を広告としてレビューとともに露出するステップと、商品原簿を介して商品の購買が発生する場合に、ユーザに所定の補償を提供するステップとを含む。 - 特許庁
The pixel patterns and/or the black matrix is formed by forming a photosensitive resin layer on the substrate, exposing and developing the photosensitive resin layer.例文帳に追加
前記画素パターンおよび/またはブラックマトリックスは、前記基板上に感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層を露光および現像することによって形成され、前記感光性樹脂層の形成は、前記感光性樹脂転写材料からカバーフィルムを剥離し、該剥離により露出した面と前記基板とを密着させた後に支持体を除去することによって行われる。 - 特許庁
This treatment method comprises generating water-insoluble photosensitive silver chloride in dioxins-containing water, exposing the silver chloride having adsorbed the dioxins to light, e.g. ultraviolet rays, to improve the agglomeration properties of the silver chloride, and separating the light- exposed silver chloride from water by a separation means.例文帳に追加
ダイオキシン類を含有するダイオキシン類含有水中に、水に不溶性で且つ感光性の塩化銀を生成し、前記ダイオキシン類を吸着した塩化銀の凝集性をを向上すべく、前記塩化銀に紫外光等の光を照射して感光した後、感光した前記塩化銀と水とを分離手段により分離することを特徴とする。 - 特許庁
The method includes emitting extreme-ultraviolet and/or vacuum-ultraviolet photons, having energy sufficiently high to initiate photodegradation of water molecules absorbed in a material, exposing the surface to the noble-gas plasma capable of emitting radicals of oxygen, hydrogen, and/or hydroxyl groups, and removing the radicals from the reaction chamber.例文帳に追加
該方法は、材料に吸収された水分子の光分解を引き起こすのに充分なエネルギーを有する、極端紫外及び/又は真空紫外のフォトンを放射して、酸素、水素及び/又は水酸基のラジカルを放出させることが可能である希ガスプラズマに対して該表面を露出することと、反応チャンバからラジカルを除去することとを含む。 - 特許庁
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