「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(115ページ目) - Weblio英語例文検索

The coating of an organic metal oxide compound is applied to the end part of the optical element, the organic metal oxide compound is changed into a corresponding metal oxide by exposing the organic metal oxide compound to ultraviolet rays and thus an adhesive material used for having the coating hold the optical element at a prescribed position is protected from degradation induced by the light.例文帳に追加

有機金属酸化物化合物の被覆を光学素子の端部に適用し、かつ有機金属酸化物化合物を紫外線に曝露して有機金属酸化物化合物を相応する金属酸化物へと変換し、このことにより該被覆が光学素子を所定の位置に保持するために使用される接着剤を、光により誘発される劣化から保護する。 - 特許庁

The gallium nitride epitaxial layer 2 can be obtained by forming a mask with an opening part for exposing the surface of the base layer 1, prior to crystal growth of gallium nitride by a catalyst CVD method and thereafter performing crystal growth for gallium nitride selectively by a catalyst CVD method on the surface of the base layer 1 which is exposed inside the opening part of the mask.例文帳に追加

触媒ＣＶＤ法により窒化ガリウムを結晶成長させるに先立ち、基層１表面を露出させる開口部３を有したマスク４を形成し、その後、マスク４の開口部３内にて露出した基層１表面上に、触媒ＣＶＤ法により選択的に窒化ガリウムを結晶成長させて窒化ガリウムエピタキシャル層２を得るようにしてもよい。 - 特許庁

The method for fabricating an integrated circuit on a semiconductor wafer preferably comprises a step for designing a reticle including a pattern composition member having relatively small critical dimensions in order to form a corresponding circuit composition member based on an overlapped region formed using a plurality of exposing steps, through shift, such that the circuit composition member has relatively small necessary critical dimensions.例文帳に追加

好適には、上記方法は、下記のステップ、すなわち、回路構成部材が、必要な、比較的小さな臨界寸法を持つように、その間のシフトにより、複数の露出ステップを使用して形成した重畳領域に基づいて、対応する回路構成部材を形成するために、臨界寸法を持つパターン構成部材を含むレティクルを設計するステップを含む。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor 1 which comprises a conductive support 3 and a photosensitive layer 7 disposed on the support 3 and on which an electrostatic latent image is formed by exposing the photosensitive layer 7 charged uniformly with light according to image information has a surface free energy (γ) set between 20 and 35 mN/m.例文帳に追加

導電性支持体３と導電性支持体３上に設けられる感光層７とを備え、一様に帯電される感光層７が画像情報に応じた光で露光されることによって静電潜像の形成される電子写真感光体１は、その表面自由エネルギー（γ）が、２０ｍＮ／ｍ以上、３５ｍＮ／ｍ以下に設定される。 - 特許庁

Additionally, a method for unblocking immunization at a regional lymph node includes the step of promoting differentiation and maturation of immature dendritic cells at a regional lymph node and the step of allowing presentation of processed peptides by the resulting mature dendritic cells, thus, for example, exposing tumor peptides to T-cells to gain immunization of the T-cells.例文帳に追加

さらに、局所リンパ節で、免疫の障害を取り除くための方法は、局所リンパ節で未成熟樹状細胞の分化および成熟を促進する工程、ならびに得られた成熟樹状細胞による、プロセシングされたペプチドの提示を可能にし、従って、例えば、腫瘍ペプチドをＴ細胞に曝露して、Ｔ細胞の免疫を得る工程を包含する。 - 特許庁

The exposure method includes: detecting a first temperature of the liquid before irradiating the substrate with the exposure light; detecting the temperature of the liquid a plurality of times during exposing the plurality of the shot regions to obtain a second temperature from a plurality of detected temperatures; and comparing the difference between the first temperature and the second temperature with a first permissible value.例文帳に追加

露光方法は、基板に対する露光光の照射前における液体の第１温度を検出することと、複数のショット領域を露光している間に液体の温度を複数回検出し、検出された複数の温度から第２温度を得ることと、第１温度と第２温度との差と、第１許容値とを比較することと、を含む。 - 特許庁

The method includes the steps of: measuring length of the sample; applying a first stress to the sample to achieve a predetermined elongation of the sample; exposing the elongated sample to a predefined heat treatment; applying a second stress to the sample until the sample breaks at least into two different pieces; and determining the susceptibility of the broken samples to reheat cracking.例文帳に追加

サンプルの長さを測定するステップと、サンプルに第１の応力を印加して、サンプルの所定の伸びを実現するステップと、伸びを達成したサンプルに所定の熱処理を施すステップと、サンプルが少なくとも２つの異なる断片に破断するまでサンプルに第２の応力を印加するステップと、破断したサンプルの再熱割れ感受性を判定するステップとを含む。 - 特許庁

To provide an illumination optical system having a spatial optical modulation element such as an illumination light source and a digital micromirror device (DMD) in which incident light quantity to the DMD can be improved and image contrast is not lowered by clearly separating on light from off light, an image display device using the illumination optical system and an image exposing device.例文帳に追加

照明光源とデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）等の空間光変調素子を有する照明光学系において、ＤＭＤへの入射光量を向上することができるとともに、オン光およびオフ光が明確に分離され画像のコントラストが低下しない照明光学系およびこれを用いた画像表示装置、画像露光装置を提供する。 - 特許庁

The scanning optical frame 22 fixing and supporting a laser diode 17 for scanning and exposing a pixel in a one-dimensional direction, a polygon motor 19 deflecting a laser beam and an f-θ lens 18 forming the laser beam into an image is coupled with the housing 2 through vibration absorbing means 23 and 26, which attenuate vibration generated by various image forming means.例文帳に追加

画素を一次元方向に走査露光するレーザダイオード１７、レーザビームを偏向させるポリゴンモータ１９及びレーザビームを結像させるｆ−θレンズ１８を固定支持する走査光学フレーム２２を、振動吸収手段２３、２６を介して筐体２に結合させ、振動吸収手段２３、２６が各種作像手段が発生させる振動を減衰させる。 - 特許庁

The MEMS device includes: a substrate; the MEMS element arranged on the substrate; a case covering the MEMS element and securing a space between the case and the MEMS element; and a sealing material arranged by exposing at least one part of an upper surface of the case at a position where the substrate is brought into contact with or close to the case.例文帳に追加

基板と、前記基板上に配置されたＭＥＭＳ素子と、前記ＭＥＭＳ素子を覆い、前記ＭＥＭＳ素子との間に空間を確保するケースと、前記基板と前記ケースとが接触又は近接する位置に前記ケースの上面の少なくとも一部を露出させて配置される封止材と、を含むことを特徴とするＭＥＭＳデバイスを提供する。 - 特許庁

A negative ion blowing outlet is provided by exposing the electrode safely to prevent electric shock by indenting an LED lens or a part of diffusion cover of the LED unit, and the dedicated power supply is led separately from the power supply for LED element substrate, but it is connected to an electrode high-voltage unit on the lighting fixture body side through a high-voltage connector or the like.例文帳に追加

ＬＥＤユニットのＬＥＤレンズもしくは拡散用カバーの一部を凹ませ感電しないように安全に電極を露出させてマイナスイオン吹き出し口を設け、専用電源はＬＥＤ素子基板用の電源とは別個に導かれるが高圧コネクター等を介して照明器具本体側の電極用高圧ユニットと接続されてなる。 - 特許庁

The raw material for cosmetics is obtained by adding water to the humus soil, that is thoroughly dried by exposing the humus to the sun, sterilized with the solar heat, and stirring them so that the humus soil is sufficiently dispersed into water, then sedimenting the humus soil by permitting the dispersion to stand for a while to separate the supernatant and filtering the supernatant to collect the acidic filtrate.例文帳に追加

化粧品原料は天日にあてて十分に乾燥させ、且つ太陽熱殺菌した腐植土に水を加え攪拌して腐植土を水中に十分に分散させた後、静置して腐植土を沈降させた後上澄液を取り出しこの上澄液をのフィルターを用いて濾過することにより得た酸性の濾液からなるものである。 - 特許庁

The projector 1 includes: a projection lens 18 to project an image onto a screen; a zoom ring 19 to change a magnification rate of the projection lens 18; a wheel 32 disposed as exposing through the lower face of a housing 2; and a transmission mechanism 31 having a plurality of gears 310, 311, 312 and interlocking with the wheel 32 and the zoom ring 19.例文帳に追加

プロジェクタ１は、スクリーンに映像を投影する投影レンズ１８と、投影レンズ１８の拡大率を変更するズームリング１９と、ハウジング２の下面から露出するように配された車輪３２と、複数の歯車３１０，３１１，３１２を有しており、車輪３２及びズームリング１９と連動する伝達機構３１とを有している。 - 特許庁

Since the reflected light of the exposing light is scattered by the curving planes, at the upper and lower planes of a metal film to form the metal resistance element 27 at exposure in the photoengraving technique to define the forming position of the metal resistance element 27, generation of the standing waves, in the resist film due to the reflected light and incident light, can be prevented.例文帳に追加

金属抵抗素子２７の形成位置を画定するための写真製版技術における露光時に、金属抵抗素子２７を形成するための金属膜の上面及び下面で露光光の反射光は上記曲面により散乱されるので、反射光と入射光によるレジスト膜中での定在波の発生が防止される。 - 特許庁

An illuminance correcting filter 4 for correcting the illuminance of the exposure light 10, a correction lens 5 for correcting the track of the exposing light 10, and a light shutoff plate 6 to shut off the light 10 incident to other than a scanning window 61 are installed between the light source 3 and a frame mask assembly 20 in the named sequence from the side with the light source 3.例文帳に追加

露光の際には、光源３とフレーム・マスクアッセンブリ２０との間に、露光光１０の照度を補正するための照度補正フィルタ４と、露光光１０の軌道を補正するための補正レンズ５と、走査窓６１以外に入射した露光光１０を遮光する遮光板６とを、光源３側からこの順番で配置する。 - 特許庁

The paper feeding cassette 10 consisting of a paper feeding tray body 33 attached with a bottom plate 34 for loading paper 39 and a paper feeding tray cover 30 has a paper holding mechanism 32 for exposing the bottom plate 34 when the paper feeding tray cover 30 is opened by moving the paper 39 stored in the paper feed tray body 33 away from the bottom plate 34.例文帳に追加

用紙３９を載置するための底板３４が設置された給紙トレイ本体３３と、給紙トレイ蓋３０とからなる給紙カセット１０であって、給紙トレイ蓋３０を開いた際に、給紙トレイ本体３３に収容されている用紙３９を底板３４から離間して底板３４を露出させる用紙保持機構３２を有する。 - 特許庁

The method for forming the resist pattern comprises forming the resist layer on the substrate, then forming the protective film on the resist layer by using the protective film forming material, selectively exposing the resist layer to electron beams or EUV through the protective layer, then after subjecting to PEB (post exposure bake), removing the protective film, and developing the resist layer to form the resist pattern.例文帳に追加

基板上にレジスト層を形成した後、該レジスト層上に前記保護膜形成用材料を用いて保護膜を形成し、該保護膜を介して前記レジスト層を電子線またはＥＵＶにより選択的に露光し、ＰＥＢ（露光後加熱）を施した後、前記保護膜を除去し、前記レジスト層を現像してレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法。 - 特許庁

This method comprises the steps of exposing only the parts within a metal layer 30, formed on the surface of a substrate 20 where a ball pad 62 and/or a bonding pad 63 are/is to be formed, forming a gold-plated layer 60 on the exposed metal layer 30, and selectively removing the metal layer 30 and forming the circuit pattern 32 on the substrate.例文帳に追加

基板２０の表面に形成された金属層３０中ボールパッド６２及び／またはボンディングパッド６３が形成される部分のみ露出される段階と、露出された金属層３０に金メッキ層６０が形成される段階と、金属層３０が選択的に除去されて基板上に回路パターン３２が形成される段階とが含まれる。 - 特許庁

In the image forming device provided with a rotating image carrier and an exposure means that is driven at a specified driving timing and exposing a surface of the image carrier, a detecting means to detect the rotation of the image carrier and a timing adjusting means to adjust the driving timing based on the detected timing by the detecting means are provided.例文帳に追加

回転される像担持体と、所定の駆動タイミングで駆動され当該像担持体表面を露光する露光手段とを備える画像形成装置において、当該像担持体の回転を検知する検知手段と、当該検知手段の検知タイミングに基づいて当該駆動タイミングを調整するタイミング調整手段とを有する。 - 特許庁

This electric wire connecting structure has the connecting part mutually connected by exposing conductor parts by tearing off the skin of resin coverings 43 and 51 of a tail end part in the connecting both covered conductors 25 and 27, a thermally contractive tube 59 installed on the outer periphery of the connecting part, and an epoxy resin 63 for sealing the periphery of the thermally contractive tube 59.例文帳に追加

この電線接続構造は、接続すべき両被覆電線２５，２７における末端部の樹脂被覆４３，５１が皮剥ぎされてそれらの導体部が露出され、互いに接続された接続部と、その接続部の外周に装着された熱収縮チューブ５９と、熱収縮チューブ５９の周囲を封止するエポキシ系樹脂６３とを備えている。 - 特許庁

The method comprises a step of forming alignment marks 1 together with a device pattern on a semiconductor wafer, a step of coating the semiconductor wafer with resist, a step of aligning exposure positions according to the alignment marks 1, and a step of exposing specified regions to form alignment deviation measuring marks 2 at specified positions near the alignment marks 1 together with a resist pattern.例文帳に追加

半導体ウエーハ上に、デバイスパターンとともに、アライメントマーク１を形成する工程と、半導体ウエーハ上にレジストを塗布する工程と、前記アライメントマーク１により、露光位置合わせを行う工程と、所定領域を露光し、レジストパターンとともに、前記アライメントマーク１近傍の所定位置に、合わせずれ計測用マーク２を形成する工程を備える。 - 特許庁

In a multilayer wiring board with terminal comprising a plurality of external layer terminals 1 at the surface and an internal layer wiring pattern 2 inside thereof, a groove 4 exposing the internal layer wiring pattern 2 at the bottom part thereof to the insulator 3 between the external terminals 1, 1 and the internal layer wiring pattern 2 exposed within the groove 4 is provided as the internal layer terminal 5.例文帳に追加

表面に複数の外層端子１と、内部に内層配線パターン２を備える端子付多層配線板において、外層端子１、１間の絶縁部３に、内層配線パターン２をその底部に露出させてなる溝４を形成し、この溝４内に露出した内層配線パターン２を内層端子５とした端子付多層配線板。 - 特許庁

The manufacturing method of the multilayer interconnection board should comprise a process for forming a light-sensitive resist film on one surface of a substrate made of a conductive material that can be etched, a process for exposing the light-sensitive resist film for development, and a process for making coarse the surface of the substrate where the light-sensitive resist film is removed by the process.例文帳に追加

エッチング可能な導電材料から成る基板の片方の面に感光性レジスト膜を形成する工程と、該感光性レジスト膜を露光して現像する工程と、前記工程で感光性レジスト膜を除去したところの基板表面を粗化する工程を含むことを特徴とする多層配線板の製造方法である。 - 特許庁

In addition, the brake shaft 131 includes a magnetic flux regulating layer 1311 regulating the passage of the magnetic flux by covering the magnetic shaft 1310 extending axially and the outer circumference surface 1310a of the magnetic shaft 1310, wherein a magnetism exposure part 1313 exposing the magnetic shaft 1310 from the magnetic flux regulating layer 1311 is formed at a portion opposed to the magnetic flux guide 172.例文帳に追加

そして、ブレーキ軸１３１は、軸方向に延伸する磁性シャフト１３１０、並びに磁性シャフト１３１０の外周面１３１０ａを覆って磁束通過を規制する磁束規制層１３１１を、有し、磁束ガイド１７２と対向する部分に、磁束規制層１３１１から磁性シャフト１３１０を露出させる磁性露出部１３１３を、形成する。 - 特許庁

To provide a plating device capable of maintaining a black film deposited on a surface of an anode electrode in a stable condition and implementing the plating of excellent quality without adhering bubbles to a surface of a substrate to be plated, or without exposing an anode electrode into an air from the plating solution even in changing the substrates to be plated.例文帳に追加

被めっき基板のめっき面に気泡が付着することなく、被めっき基板交換時にも陽極電極がめっき液から空気中に露出することがなく、陽極電極表面に付着したブラックフィルムを安定した状態に維持することができ、品質のよいめっきを行なうことができるめっき装置を提供すること。 - 特許庁

A process for making oxidizing gas, containing oxygen into plasma and exposing a silicon material in the plasma gas, is provided as another process different from an etching process or a protective film depositing process; and then, a method wherein these processes are repeated sequentially is adopted, whereby an etching arriving surface can be very much smoothed, even when a complex silicon form having level differences is etched.例文帳に追加

酸素を含む酸化性ガスをプラズマ化してシリコン材に曝す工程を、エッチング工程や保護膜を堆積させる工程とは別個の工程として設けた上で、これらの工程を順次繰り返す方法を採用することにより、段差を有する複雑なシリコン成形体であっても、そのエッチング到達面を極めて平滑にすることができる。 - 特許庁

In the case of simultaneously performing the primary transfer of a toner image to the intermediate transfer body 5 and the inverse transfer of the residual toner to a photoreceptor drum 31, the non-image part potential is preliminarily changed by an exposing member 38 so as to minimize the potential difference between the non-image part potential and the image part potential on the photoreceptor drum 31 carrying the toner image.例文帳に追加

トナー像の中間転写体５への１次転写と、残留トナーの感光体ドラム３１への逆転写とを同時に行う際に、トナー像を担持している感光体ドラム３１の非画像部電位と画像部電位との電位差を小さくするために露光部材３８によって非画像部電位をあらかじめ変化させるようにした。 - 特許庁

An exposed part where potential on the a photoreceptor drum is forcibly lowered by exposing a position shown by a broken line as shown by an arrow in an area out of the range of the developing width and within the range of the cleaning width by an exposure means for forming an electrostatic latent image on the photoreceptor drum is formed linearly in the peripheral direction of the photoreceptor drum.例文帳に追加

そして、感光体ドラム上に静電潜像を作るための露光手段によって、現像幅の範囲外で且つクリーニング幅の範囲内である領域において、破線で例示した位置に矢印のように露光することで、感光体ドラム上の電位を強制的に低下させた露光部を、感光体ドラムの周方向で線状に形成する。 - 特許庁

This projection exposure method includes a step of exposing an exposure area of a radiation-sensitive substrate with at least one image of a pattern of a mask in a scanning operation which includes a step of moving the mask M relative to an effective object field of the projection objective PO and simultaneously moving the substrate relative to an effective image field of the projection objective in respective scanning directions.例文帳に追加

投影露光方法は、放射線感応基板の露光区域をマスクのパターンの少なくとも１つの像により、投影対物系の有効物体視野に対してマスクをかつ同時に投影対物系の有効像視野に対して基板をそれぞれの走査方向に同時に移動する段階を含む走査作動において露光する段階を含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a method of forming an opening 68 on the photosensitive material 60 by spraying the developer from the lower side of the photosensitive material 60 toward the photosensitive material 60 after exposing the photosensitive material 60 formed on a support base material 62, and forming an electrode for external connection on a conductor layer in the opening 68.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、支持基材６２上に形成した感光材６０を露光した後、感光材６０の下方から感光材６０に向けて現像液を吹き付けることによって感光材６０に開口６８を形成し、開口６８内の導体層上に外部接続用電極を形成する方法である。 - 特許庁

This method for manufacturing this package comprises an exposure process for exposing the photosensitive glass and an etching process for chemically etching the exposed photosensitive glass, so that the almost closed-end cylindrical package body having the bottom part and the peripheral wall part formed in the surrounding can be formed by the exposure process and the etching process.例文帳に追加

その製造方法としては、例えば感光性ガラスを露光する露光工程と、その露光した感光性ガラスをケミカルエッチングするエッチング工程とを備え、上記露光工程およびエッチング工程によって底部とその周囲に設けられた周壁部とを有する略有底短筒状のパッケージ本体を形成する工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

A colored layer applying process for applying and forming a negative photosensitive material 13 for a colored layer on a substrate 10A for forming the color filter, an exposure process for collectively exposing a colored layer forming area via the exposure mask 20 by a proximity exposure method and a processing process of developing, drying and baking treatment are performed to form the colored layer.例文帳に追加

カラーフィルタ形成用基板１０Ａに、ネガ型の感光性の着色層用材料１３を塗布形成する着色層塗布工程と、着色層形成領域をプロキシミティ露光方法により露光用マスク２０を介して一括露光する露光工程と、現像処理、乾燥、ベーキング処理のプロセス処理工程とを行い、着色層を形成する。 - 特許庁

In addition, this preferable conductive material can be provided by using this manufacturing method of the conductive material characterized by exposing the conductive material precursor, thereafter subjecting it to a hardening/developing process and developing it by a developing agent containing a silver halide solvent after the hardening/developing process.例文帳に追加

さらに、該導電性材料前駆体を露光後、硬化現像処理することを特徴とする導電性材料の製造方法を用いることで、また、更に硬化現像処理の後にハロゲン化銀溶剤を含有する現像液で現像処理することを特徴とする導電性材料の製造方法を用いることでより好ましい導電性材料を得ることができる。 - 特許庁

This semiconductor device is provided with a semiconductor substrate 10 having a plurality of electrode pads 40, and a passivation film 50 having an opening 52 for exposing the central region of each of those electrode pads 40; and a pump 60 electrically connected to each of the electrodes 40, and formed so as to be overlapped with the opening 50 and its end.例文帳に追加

半導体装置は、複数の電極パッド４０と、それぞれの電極パッド４０の中央領域を露出させる開口５２を有するパッシベーション膜５０とを有する半導体基板１０と、それぞれの電極パッド４０と電気的に接続されてなり、開口５０及びその端部とオーバーラップするように設けられたバンプ６０とを含む。 - 特許庁

To provide a plane light source device, using lamps as a light source, enabling narrower framing coping with fear that it would be difficult to achieve narrower framing by drawing around lead wires of the lamps, and unnecessarily exposing the device to the outer face of a back case might damage it by external force.例文帳に追加

ランプを光源として使用した面光源装置においては、ランプのリード線の引き回しによって狭額縁化を達成することが難しく、また不必要にバックケースの外面に露呈させてしまうことで外力によって損傷する虞があったが、これらの恐れを払拭しつつ狭額縁化を可能とした面光源装置を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the electromagnetic wave shielding film comprises (1) a step of laminating a photoresist containing a plating substrate material on a transparent base, (2) a step of forming a geometrical photoresist pattern by exposing and developing the photoresist, and (3) a step of forming a metal layer on the plating substrate material of the photoresist surface formed with the photoresist pattern.例文帳に追加

（１）透明基材上にメッキ下地材料を含有させたフォトレジストを積層させる工程と、（２）前記フォトレジスト層を露光、現像することにより幾何学的なフォトレジストパターンを形成させる工程と、（３）前記フォトレジストパターンを形成したフォトレジスト表面部のメッキ下地材料に金属層を形成させる工程と、を含む方法である。 - 特許庁

The method for processing the food comprises reducing oxidation of ingredients in the food by exposing overheated steam to the food and continuously attaching condensed water to the food surface to heat the food by condensation and heat transmission of water and further keeping the oxygen concentration of atmosphere in the circumference of the food in the lower state than the oxygen concentration in the air.例文帳に追加

食品に過熱水蒸気を曝して該食品表面に凝縮水を連続的に付着させることにより、該食品を水の凝縮伝熱により加熱すると共に、前記食品周囲の雰囲気の酸素濃度を大気中の酸素濃度以下にして、該食品内の成分の酸化を低減することを特徴とする、食品加工方法。 - 特許庁

Circular light shielding sections 25 are formed with the shape of matrix in regions corresponding to pillar-type electrode forming regions on an exposure mask 24 for exposing a negative type dry photo resist film for forming a plating resist film for the pillar-type electrode, while light shielding sections 26 for forming grooves for parting the resist are formed in regions except the electrode forming regions.例文帳に追加

柱状電極形成用のメッキレジスト膜を形成するためのネガ型のドライフォトレジストフィルムを露光するための露光マスク２４には、柱状電極形成領域に対応する領域に円形状の遮光部２５がマトリクス状に形成され、それ以外の領域にレジスト分断用溝形成用遮光部２６が形成されている。 - 特許庁

By exposing the resin laminate comprising a resin layer (A) consisting of a resin (a) and a resin layer (B) consisting of a resin (b) of different kind from the resin (a) to the solvent capable of selectively dissolving the resin (a), and the resin layer (B) left behind is analyzed, or the obtained solution is analyzed.例文帳に追加

樹脂（ａ）からなる樹脂層（Ａ）、及び、上記樹脂（ａ）とは異なる種類の樹脂（ｂ）からなる樹脂層（Ｂ）を有する樹脂積層体を、樹脂（ａ）を選択的に溶解することのできる溶媒にさらすことにより、樹脂（ａ）を選択的に溶解除去したあとに、残された樹脂層（Ｂ）を分析するか、又は、得られた溶液を分析する。 - 特許庁

This ozone cleaner comprises an air pump 5 for taking in and feeding the atmosphere, an ozone/negative ion generating means 9 for generating ozone from oxygen in the atmosphere supplied from the air pump 5 and generating negative ions and supplying the ozone and the negative ions, and a sterilizing bag 3 for taking the ozone and the negative ions therein and exposing the subject of sterilization 40 to the ozone and the negative ions.例文帳に追加

大気を取り込み送出するエアポンプ５と、エアポンプ５から供給された大気中の酸素からオゾンを発生させると共に負イオンを発生させてオゾン・負イオンを供給するオゾン・負イオン発生手段９と、オゾン・負イオンを取り込んで被殺菌物４０をオゾン・負イオンに晒す殺菌袋３とを備えた構成としたものである。 - 特許庁

After decarburizing and deoxidizing-refining molten steel in a first refining facility capable of exposing the molten steel to vacuum or reduced pressure atmosphere, slag containing CaO is added into the molten steel, and after promoting mainly desulfurization under existence of the slag, the molten steel is cast to make a consumable electrode and this consumable electrode is made to the cast block with a vacuum arc remelting method.例文帳に追加

溶鋼を真空または減圧雰囲気に暴露することが可能な第一の精錬設備内で脱炭、脱酸精錬をした後溶鋼に、ＣａＯを含むスラグを添加して該スラグ存在下で主として脱硫を促進した後鋳造して消耗電極とし、該消耗電極を真空アーク再溶解法により鋳塊とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus using an electrophotographic process by which a so-called transfer memory due to a photoreceptor drum is prevented and also the optical fatigue to of a photoreceptor is eliminated and a transfer memory is prevented by exposing a white part so as to specially prevent the influence of the transfer memory.例文帳に追加

本発明は電子写真プロセスを使用する画像形成装置であって、感光体ドラムに起因するいわゆる転写メモリを防止する画像形成装置に関し、特に転写メモリの影響を防止する為白地部に露光を与え、転写メモリを防止すると共に、感光体を光疲労させることのない画像形成装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a rubber kneading machine allowing unmanned operation substantially safely, not requiring for a worker to bring into contact with rubber at a rotating roll surface for a rubber kneading operation, providing improved productivity in a rubber kneading process and easy cleaning by simply opening and exposing a rubber supply mechanism of a closed structure and stably assuring the quality of kneaded rubber.例文帳に追加

ゴム練り操作のために作業者が回転するロール面でゴムに触れる必要がなく、無人運転も可能で本質的に安全であり、ゴム練り工程の生産性の向上、安定した練りゴムの品質の確保を図れるとともに、密閉構造のゴム供給機構を簡易に開放露出して清掃容易にしたゴム練り機を提供する。 - 特許庁

To provide a blue-purple light photosensitive photopolymerizable composition and a resist image forming material which are capable of forming a fine resist image in the formation of the resist image, by exposing a photopolymerizable composition layer which is of high resolution and high sensitivity, and particularly, blue-purple light photosensitive, by a direct drawing method, and developing it.例文帳に追加

レジスト画像形成において、高解像高感度であり、特には青紫光感光性の光重合性組成物層を直接描画法により露光し、現像処理してレジスト画像を形成するにおいて、ファインなレジスト画像を形成し得る青紫光感光性光重合性組成物及びレジスト画像形成材料を提供する。 - 特許庁

A grid 17 is interposed between a plasma and a substrate 15 when a passivation layer is formed on the substrate 15 by exposing the substrate 15 in a vacuum to a flow of particles which were generated by plasmaenhanced chemical vapor deposition, thereby reducing the flow of charged particles towards the substrate 15 while conserving the flow of neutral particles.例文帳に追加

プラズマ強化化学的気相成長のプラズマによって発生した粒子の流れに真空状態で基板１５を曝露させることによって、基板１５上に不活性化層を形成する際にプラズマと基板１５との間に格子１７が挿入され、これによって中性粒子の流れを保持しながら基板１５に向かう帯電した粒子の流れを低減する。 - 特許庁