「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(119ページ目) - Weblio英語例文検索

In the antenna patterns 12a and 12b provided to write and read information to/from a non-contact type IC card 10 in a non-contact state, image information 19 represented with a plurality of colors, such as a facial photograph is displayed by exposing a base material 15, cream color layers 21a and 21b and white color layers 22a and 22b by laser beams.例文帳に追加

非接触型ＩＣカード１０に非接触状態にて情報の書き込み及び読み出しを行うために設けられたアンテナパターン１２ａ，１２ｂ内において、レーザ光によって、ベース材１５を露出させたり、クリーム色層２１ａ，２１ｂを露出させたり、白色層２２ａ，２２ｂを露出させたりすることにより、顔写真等の複数の色から表現される画像情報１９を表示する。 - 特許庁

The manufacturing method of a plasma display panel and the green sheet include a step exposing a first green sheet containing a cover film using a first mask on which a black matrix pattern is formed, a black matrix dry film and a base film, a step removing the cover film and laminating the first green sheet on a substrate, and a step removing the base film and forming a black matrix on the substrate.例文帳に追加

本発明は、ブラックマトリックスパターンが形成された第１マスクを利用してカバーフィルム、ブラックマトリックスドライフィルム及びベースフィルムを含む第１グリーンシートを露光するステップと、前記カバーフィルムを除去して基板上に前記第１グリーンシートをラミネーティングするステップと、前記ベースフィルムを除去して前記基板上にブラックマトリックスを形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A wire husking device 1 having a sheath-cutting blade 3 for cutting a coated part of coated wire for exposing core wire by husking a coated part of a terminal of a coated wire by a given length, and a terminal crimp device 2 which crimps and connects the core wire exposed by the wire husking device 1 with a terminal as well as the coated part with the terminal constitute the wire husking device.例文帳に追加

被覆電線の被覆部分を切断する被覆切断刃３を有し、前記被覆電線の端末を所定の長さ分だけ被覆を剥いで芯線を露出させる皮剥き装置１と、この皮剥き装置１によって露出された芯線と端子とを圧着接続すると共に被覆部分と端子とを圧着する端子圧着装置２とからなる電線皮剥き装置を設ける。 - 特許庁

The method for forming the pattern on a dyed fabric is characterized by including water in the dyed fabric, then bringing the dyed fabric into contact with the ozone gas in a contact bath in the absence of fluid water, then decoloring only the surface layer of the dyed fabric, subsequently shaving off the surface layer of the decolored fabric and thereby exposing deep-color parts in the interior of the fabric.例文帳に追加

染色布帛への模様柄形成方法であって、染色布帛に水分を含有させた後、流動水が存在しない接触槽内でオゾンガスと接触させて、前記染色布帛の表面層のみを脱色した後に、脱色された布帛の表面層を削り取ることによって布帛内部の濃色部分を露出させることを特徴とする模様柄形成方法である。 - 特許庁

This washing device has an anode member 11 which consists of a porous pliable material containing carbon, insulating members 12a and 12b which are mounted through the anode member 11 and cathode members 13a and 13b which are mounted at the insulating members in the state of insulating the members from the anode member 11 and in the state of exposing at least a part thereof to the outside and mainly consist of magnesium.例文帳に追加

炭素を含有する多孔質な柔軟体からなる陽極部材１１と、陽極部材１１を貫通して取り付けられた絶縁部材１２ａ，１２ｂと、陽極部材１１と絶縁された状態で且つ少なくとも一部が外部に露出する状態で絶縁部材に取り付けられた主にマグネシウムからなる陰極部材１３ａ，１３ｂとを有する。 - 特許庁

A method for manufacturing an anti-glare film including a rugged fine pattern comprising discontinuous dots formed on a flexible support comprises at least: a step of supplying photosensitive image forming material onto the flexible support to form a photosensitive layer; and a step of exposing and developing the photosensitive layer with an active light beam to form the rugged fine pattern comprising the discontinuous dots.例文帳に追加

可撓性支持体上に、感光性画像形成材料を供給して感光層を形成する工程と、 前記感光層を活性光線で露光、現像して、不連続なドットからなる凹凸微細パターンを形成する工程と、 を少なくとも有することを特徴とする、可撓性支持体上に不連続なドットからなる凹凸微細パターンが形成されている防眩フィルムの製造方法。 - 特許庁

This method for manufacturing a semiconductor wafer is provided with a process for growing epitaxially an SiGe layer on a surface of a first silicon single crystal wafer, a process for coupling a surface of the SiGe layer with a surface of a second wafer via an oxide film, and a process for thinning the first silicon single crystal wafer coupled with the second wafer and exposing the Si layer including lattice strain.例文帳に追加

第１のシリコン単結晶ウェーハの表面にＳｉＧｅ層をエピタキシャル成長する工程と、該ＳｉＧｅ層の表面と第２のウェーハの表面とを酸化膜を介して結合する工程と、該第２のウェーハと結合された該第１のシリコン単結晶ウェーハを薄膜化して格子歪みを内在するＳｉ層を露出させる工程と、を有するようにした。 - 特許庁

A pattern forming method comprises the steps of: (a) forming a film from an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a compound(A) that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and is decomposed by an action of an acid to reduce solubility in an organic solvent; (b) exposing the film; and (c) developing using a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

（ア）活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含む、パターン形成方法。 - 特許庁

A part of a focus lens unit 201 (two projections for adjusting eccentricity 112a and 112b of an AF cover 110) is exposed to the outside of the lens barrel in such a state that the lens barrel is assembled, and the entire focus lens unit 201 is adjusted in terms of eccentricity from the outside through the exposing part while confirming the optical performance all over the optical systems of four groups.例文帳に追加

レンズ鏡筒を組み立てた状態において、フォーカスレンズユニット２０１の一部（ＡＦカバー１１０の２つの偏芯調整用突起１１２ａ，１１２ｂ）がレンズ鏡筒の外部に露出し、４群全ての光学系を通した状態で光学性能を確認しながら、その露出部を介してフォーカスレンズユニット２０１全体を外部から偏芯調整するようにする。 - 特許庁

The method and apparatus reduce the metal oxides and form a solder joint within a substrate comprising a layer having a plurality of solder bumps by providing one or more energizing electrodes and exposing at least a portion of the layer and solder bumps to the energizing electrodes.例文帳に追加

複数の半田バンプを有する層を含む基材において金属酸化物を還元し及び半田接合を形成する方法及び装置であって、１つ又は複数の通電電極を用意し、前記層及び半田バンプの少なくとも一部を前記通電電極にさらすことによって金属酸化物を還元し及び半田接合を形成する方法及び装置が提供される。 - 特許庁

The image forming apparatus is provided with at least the electrophotographic photoreceptor, a charging means, an exposing means, a developing means and a transferring means.例文帳に追加

少なくとも、電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を備えた画像形成装置であって、前記露光手段が、光源として面発光レーザーアレイを有し、該面発光レーザーアレイからの複数本の光ビームにより前記電子写真感光体上を走査するように構成されており、前記電子写真感光体の光減衰カーブが下記式（１）を満たす画像形成装置である。 - 特許庁

Thereby, since the carbon-based coating layer for covering the metal core has excellent electron conductivity and elasticity by containing the conductive metal substance, capacity is improved and stress generated by expansion of the carbon-based coating layer and the metal core in charging and discharging can be eliminated, and probability of directly exposing the metal to an electrolyte can significantly be reduced.例文帳に追加

これにより、金属コアを被覆する炭素系コーティング層が伝導性の金属物質を含むことによって、優秀な電子伝導性及び弾性を有するので、容量改善と共に充放電時に炭素系及び金属コアの膨脹により発生するストレスを解消させ、金属が電解液に直接露出される確率を顕著に減少させることができる。 - 特許庁

Fluorescent tubes 2 are supported in front of the backlight chassis 1, and a panel-holding frame 6 is coupled with the upper portion of the backlight chassis 1 via hinges 4 to rotate the panel-holding frame 6 upward, thereby: exposing the fluorescent tubes 2; and securing the working space having sufficient dimensions in front of the light fluorescent tubes 2 to replace the light source smoothly.例文帳に追加

バックライトシャーシ１の正面にて蛍光管２、２、・・・、２を支持し、パネル保持枠６及びバックライトシャーシ１の上側部をヒンジ４、４、・・・、４にて連結して、パネル保持枠６を上方へ回動させることによって蛍光管２、２、・・・、２を露出させることができ、また蛍光管２、２、・・・、２の前に十分な大きさの作業空間を確保し、交換作業を円滑に進めることができる構成とした。 - 特許庁

The evaluation method of the resist composition, which is used in the resist pattern forming method including a process of immersion exposure, includes forming of a resist film, selectively exposing, performing a treatment in which the resist film is brought into contact with a immersion solvent used in the process of immersion exposure, baking after exposure (PEB), developing, and evaluating the obtained resist pattern formation performance.例文帳に追加

浸漬露光する工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物の評価方法であって、 レジスト膜を形成し、選択的露光し、前記レジスト膜に前記浸漬露光する工程に用いる浸漬溶媒を接触させる処理を行い、露光後加熱（ＰＥＢ）し、現像し、得られたレジストパターン形成性能を評価することを特徴とするレジスト組成物の評価方法。 - 特許庁

The gate insulation film forming method includes a process for preparing a substrate, a process for forming a silicon dioxide layer on the top surface of the substrate, a process for exposing the silicon dioxide layer to a plasma-nitride forming process in order to change the silicon dioxide layer into a silicon nitride oxide layer, and a process for subjecting the silicon nitride oxide layer to spike-like rapid annealing.例文帳に追加

基板を準備し、基板の上表面に二酸化シリコン層を形成し、二酸化シリコン層を窒化酸化シリコン層に変換するためにプラズマ窒化物形成工程に二酸化シリコン層を露出し、および窒化酸化シリコン層にスパイク状急熱アニ−ルを実施することを含むゲート絶縁膜の形成方法により信頼性の高いゲート絶縁膜を提供する。 - 特許庁

A smooth surface sheet formed by molding a resin material is selected as one sheet of the sheets 18 and 18 of the pressure sensitive input part 14a and the pressure sensitive input part 14b, and a sheet with so-called non-glare surface treatment molded by dispersing mat grains on the resin material and exposing the mat grains to the surface is used as the other sheet.例文帳に追加

感圧入力部１４ａおよび感圧入力部１４ｂのシート１８、１８のうち一方のシートについては、樹脂材料を用いてそのまま成形加工した表面の滑らかなものを選択し、他方のシートについては、樹脂材料にマット粒子を分散したものを成形加工して、表面にマット粒子を露出させた、所謂ノングレア表面処理したものを選択する。 - 特許庁

A method of producing a color filter includes (a) forming a colored pattern on a substrate by exposing and developing a colored curable composition containing a dye; a polymerizable monomer and an organic solvent, (b) forming a transparent protective film on the formed colored pattern; and (c), irradiating at least the transparent protective film with a light, after the transparent protective film is formed.例文帳に追加

（ａ）染料と重合性モノマーと有機溶剤とを含む着色硬化性組成物を、露光し現像して、基板の上に着色パターンを形成する工程と、（ｂ）形成された前記着色パターン上に、透明性保護膜を形成する工程と、（ｃ）前記透明性保護膜の形成後に少なくとも該透明性保護膜を光照射処理する工程とを含んでいる。 - 特許庁

By conveying the substrate W on the return route after exposing first transfer patterns 53 separated respectively by a predetermined interval G and relatively moving the substrate conveyance mechanism 10 by a predetermined interval A during the return route conveyance of the substrate W, second transfer patterns 54 can be exposed on an unexposed part formed between the first transfer patterns 53 exposed during the return route conveyance without a gap.例文帳に追加

そして、基板Ｗの往路搬送時に、所定の間隔Ｇずつ離れた第１の転写パターン５３を露光させ、基板搬送機構１０を所定の間隔Ａだけ相対移動させた後、基板Ｗを復路搬送して、往路搬送時に露光した第１の転写パターン５３間に形成された未露光部に第２の転写パターン５４を隙間なく露光させることができる。 - 特許庁

In the connector device including an insulating body with the receiving groove for storing the optical fiber module, a plurality of conductive terminals mounted on the insulating body, and the optical fiber module retained in the receiving groove of the insulating body, an opening for exposing an edge of the receiving groove is formed to penetrate on a top plate of the insulating body.例文帳に追加

コネクタ装置は、光ファイバーモジュールを収容する受入溝を有する絶縁本体と、前記絶縁本体に装着される複数の導電端子と、前記絶縁本体の受入溝に保持される光ファイバーモジュールとを含むコネクタ装置において、前記絶縁本体の天板には、前記受入溝の縁部を露出するための開口部が貫通するように形成される。 - 特許庁

The portable radiographic image capturing device incorporates a radiation detector 20 and changeably connects a control unit 14 incorporating a control unit 50 controlling image capturing operation of the radiation detector 20 for an image capturing unit 12 capturing radiation images due to radiation irradiating the irradiation face 18 into a developing state exposing the irradiation face 18 to the outside and a storing state covering the irradiation face 18.例文帳に追加

放射線検出器２０が内蔵され、照射面１８に照射された放射線による放射線画像を撮影する撮影ユニット１４に対して放射線検出器２０の撮影動作を制御する制御部５０が内蔵された制御ユニット１４を、照射面１８を外部に露出した展開状態と照射面１８を覆った収納状態とに変更可能に連結した。 - 特許庁

The aligner 100 is provided with the measuring station 110 measuring alignment and a focus in a substrate P, an exposure station 120 scanning and exposing respective shot regions of the substrate P which are measured by the measuring station 110, and a main control part 141 controlling an exposure operation in the exposure station 120 based on a measured result in the measuring station 110.例文帳に追加

露光装置１００は、基板Ｐに対してアライメント計測およびフォーカス計測を行う計測ステーション１１０と、計測ステーション１１０で計測された基板Ｐの各ショット領域を走査露光する露光ステーション１２０と、計測ステーション１１０での計測結果に基づいて露光ステーション１２０での露光動作を制御する主制御部１４１と、を有する。 - 特許庁

A method of suppressing a growth of a microorganism in a drinking water stored in a container having a metal surface includes: heating the metal surface about from 480°C (900°F) to 870°C (1,600°F); exposing the metal surface to oxygen during heating to oxidize a potential reducing site in the metal surface; and filling the drinking water including the silver ion in the container.例文帳に追加

金属面を有する容器に保存された飲料水中の微生物の成長を抑制する方法が、金属面を約４８０°Ｃ（９００°Ｆ）〜約８７０°Ｃ（１６００°Ｆ）の温度に加熱し、金属面における潜在的な還元部位を酸化するように加熱中に金属面を酸素に露出させ、銀イオンを含有する飲料水を容器に充填することを含む。 - 特許庁

To provide an X-ray diagnostic apparatus which, when changing a part to be photographed, ensures an auto-positioning function considering a build of a subject, makes unnecessary for a health care attendant to manually adjust an arm or a top panel, and allows a position to be photographed to be moved to a desired position in a short time without exposing the subject to extra radiation.例文帳に追加

本発明は、撮影対象部位を変更する際に、被検者の体格を考慮したオートポジショニング機能を実現するとともに、医療従事者がアームや天板などを手動で微調整する必要がなく、さらに被検者の余分な被曝もなく、撮影対象位置を短時間で所望の位置へ移動させることができるＸ線診断装置を提供する。 - 特許庁

The method for preparing a layer containing metal includes exposing a heated substrate alternately to the vapor of one or more volatile metal (I), (II), or (III) amidinate compounds, and then to a reducing gas, a nitrogen-containing gas, or oxygen-containing gas or vapors thereof, to form a metal layer, metal nitride-coating layer, or metal oxide-containig layer on the surface of the substrate.例文帳に追加

加熱基板を、一種以上の揮発性金属（Ｉ）、（ＩＩ）あるいは（ＩＩＩ）アミジナート化合物又はそのオリゴマーの蒸気に、次いで、還元性ガス、窒素含有ガス又は酸素含有ガスあるいはそれらの蒸気に交互に暴露して、当該基板表面に金属皮膜、金属窒化物皮膜又は金属酸化物皮膜を形成させることを含んでなる、金属を含む薄膜の形成方法。 - 特許庁

The photosensitive adhesive sheet is used for forming a patterned adhesive film using the method including: a step of bonding the photosensitive adhesive sheet to an adherend so that the photosensitive adhesive film and the adherend become opposite to each other; a step of exposing the photosensitive adhesive film after removal of the substrate; and a step of developing the exposed photosensitive adhesive film to form the patterned adhesive film.例文帳に追加

当該感光性接着シートを、被着体に感光性接着フィルムが被着体側になる向きで貼り付ける工程と、基材を除去してから感光性接着フィルムを露光する工程と、露光された感光性接着フィルムを現像して、パターニングされた接着フィルムを形成させる工程とを含む方法により、パターニングされた接着フィルムを形成するために用いられる。 - 特許庁

The ultrasound diagnosis apparatus for obtaining a tomographic image by exposing a subject with ultrasound pulses includes: analysis operation means (23, 24, 26) for extracting specified signals using the statistical property of the strength or amplitude information of echo signals generated from the subject part P; and display means (14) for displaying a result extracted by the analysis operation means.例文帳に追加

被検体に超音波パルスを照射することにより断層像を得る超音波診断装置において、前記被検体部位Ｐから発生するエコー信号の強度あるいは振幅情報の統計的性質を用いて特定の信号を抽出する解析演算手段（２３、２４、２６）と、該解析演算手段より抽出した結果を表示する表示手段（１４）とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor wafer assembly suppressing or preventing solid suspended materials generated by a developing process as a residue in forming a spacer provided between a semiconductor wafer and a transparent substrate through an exposing process and the developing process, as well as the semiconductor wafer assembly and a semiconductor device excellent in reliability.例文帳に追加

半導体ウエハーと透明基板との間に設けるスペーサを露光処理、現像処理を経て形成するに際し、現像処理で生じた固形状の浮遊物が残渣として残るのを抑制または防止することができる半導体ウエハー接合体の製造方法を提供すること、および、信頼性に優れた半導体ウエハー接合体および半導体装置を提供すること。 - 特許庁

A method of manufacturing the solar cell element 10 has a substrate preparation step for preparing a semiconductor substrate 1 having a p-type semiconductor layer, a surface treatment step for exposing the surface of the p-type semiconductor layer to plasma which is formed by using gas containing nitrogen atoms, and a layer formation step for forming a passivation layer 7 on the p-type semiconductor layer exposed to the plasma.例文帳に追加

また、ｐ型半導体層を有する半導体基体１を準備する基体準備工程と、前記ｐ型半導体層の表面を、窒素原子を含むガスを用いて形成されるプラズマに曝す表面処理工程と、前記プラズマに曝した前記ｐ型半導体層の上にパッシベーション層７を形成する層形成工程とを有する太陽電池素子１０の製造方法。 - 特許庁

The method includes steps of: providing a substrate; forming a barrier layer on the substrate, patterning the barrier layer, and thus exposing a portion of the substrate to form an electrode pattern region; changing the surface property of the substrate in the electrode pattern region to form a visible patterned mark; removing the barrier layer; and using the visible patterned mark as an alignment mark.例文帳に追加

本発明による方法は、基板を提供する段階と、基板に障壁層を形成し、更に障壁層をパターン化して基板の一部を露出させて電極パターン領域を形成する段階と、電極パターン領域の基板の表面特性を変えて、パターン化可視マークを形成する段階と、障壁層を除去する段階と、パターン化可視マークをアラインメントマークとする段階とを含む。 - 特許庁

In the humidity sensor package which is made by adhesive fixing a sensor chip substrate forming a humidity sensor and an IC substrate detecting an output change of the humidity sensor to a support substrate, the sensor tip substrate and the IC substrate are covered by a sealing resin, while exposing the humidity sensor, and the surface of the sealing resin and a face of forming the humidity sensor of the sensor tip substrate are positioned at the same height.例文帳に追加

湿度センサを形成したセンサチップ基板と湿度センサの出力変化を検出するＩＣ基板とを同一の支持基板に接着固定してなる湿度センサパッケージにおいて、湿度センサを露出させた状態でセンサチップ基板及びＩＣ基板を封止樹脂で覆い、かつ、該封止樹脂表面とセンサチップ基板の湿度センサ形成面とを同一高さ位置にした。 - 特許庁

The method for producing the porous synthetic resin, comprising mixing a monomer or prepolymer, a reaction initiator for initiating the polymerization reactions, and water-soluble particulates, curing the mixture liquid, and then exposing the cured synthetic resin to water to dissolve out the particulates, is characterized by mixing the mixture liquid with water in an amount not dissolving the crystals.例文帳に追加

モノマー又は又はプレポリマーと、これらの重合反応を開始させる反応開始剤と、水溶性の粒状物とを混合した混合液を硬化して得られた合成樹脂を水に晒すことで前記粒状物を溶かし出して多孔質の合成樹脂を得る多孔質合成樹脂製造方法において、前記混合液に、前記結晶体が溶解してしまわない程度の水を混合する。 - 特許庁

The method for producing the aluminum electrode material includes the steps of: anodizing an aluminum material 1 in such a state as to align the resin spheres 2 on the surface of the aluminum material 1; and exposing outside, the aluminum base material 5 of the fine recessed bottom in which the resin spheres have existed by sequentially or simultaneously removing the resin spheres 2 and the anodized film 3 after anodization and making a peripheral anodized film remain.例文帳に追加

アルミニウム材１の表面に樹脂球２を配列させた状態で陽極酸化処理する工程と、陽極酸化処理後、前記樹脂球２と陽極酸化皮膜３とを順次的にまたは同時に除去して、樹脂球が存在していた微細凹部の底部のアルミニウム素地５を露出させ、周囲の陽極酸化皮膜を残存させる工程と、を含む。 - 特許庁

In an exposing method of projecting an exposure light image of a pattern formed on a mask onto a substrate to form a transfer pattern of the pattern on the substrate, the transfer pattern is measured, and the exposure light image is adjusted according to a mask expansion/contraction correction value calculated based on a mask expansion/contraction variation amount calculated by correcting a predetermined contribution amount when projected for a result of measurement.例文帳に追加

マスクに設けられたパターンの露光光像を基板に投影して前記基板に前記パターンの転写パターンを形成する露光方法であって、前記転写パターンを計測し、この計測結果に対して投影時の所定の寄与分を補正して算出されたマスクの伸縮変動量に基づいて算出されたマスク伸縮補正値に応じて前記露光光像を調整する。 - 特許庁

The method for assessing the virulence of the pathogen to a host organism comprises (a) exposing a culture of unicellular test organism to the pathogen, and (b) monitoring the growth of the test organism in the presence of the pathogen, wherein inhibition of the growth of the test organism indicates virulence of the pathogen to the host organism.例文帳に追加

宿主生物に対する病原体のビルレンスを評価するための方法であって、該方法は、以下：（ａ）単細胞試験生物の培養物を、該病原体に対して曝露する工程；および（ｂ）該病原体の存在下での該試験生物の増殖をモニタリングする工程であって、ここで、該試験生物の増殖の阻害は、該宿主生物に対する該病原体のビルレンスを示す、工程を包含する、方法。 - 特許庁

In generating a direct-current arc plasma by a plasma gun in a plasma gas atmosphere and exposing a target substrate comprising a carbon component to the direct-current arc plasma, a direct current is applied between the target substrate and the plasma gun to generate a transferring arc between them, where the target substrate is heated and decomposed to synthesize a carbon nanotube on a surface of the target substrate.例文帳に追加

プラズマガス雰囲気中でプラズマガンにより直流アークプラズマを発生させ、炭素成分からなるターゲット基板を前記直流アークプラズマに曝しながら、ターゲット基板とプラズマガンの間に直流電圧を印加し、ターゲット基板とプラズマガンの間に移行アークを発生させ、ターゲット基板を加熱、分解して、ターゲット基板表面にカーボンナノチューブを合成するようにする。 - 特許庁

The manufacturing method for patterned member which has a patterned insulating member on the substrate is characterized in that it is provided with a process of forming a precursor pattern of the insulating member by performing development after exposing photosensitive paste applied onto the substrate a plurality of times through a mask having a specified pattern and a process of baking the precursor pattern.例文帳に追加

基板上に、パターニングされた絶縁部材を備える部材パターンの製造方法であって、基板上に付与された感光性ペーストを、所定パターンのマスクを介して複数回露光した後、現像して、前記絶縁部材の前駆体パターンを形成する工程と、前記前駆体パターンを焼成する工程と、を備えることを特徴とする部材パターンの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method for the semiconductor device has a process forming a photo-resist film on a film to be etched 11, a process forming rectilinear resist patterns 50 placed on the film to be etched 11 by exposing and developing the photo-resist film and a process forming a rectilinear pattern 11a by etching the film to be etched 11 while using the resist patterns 50 as masks.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、被エッチング膜１１上にフォトレジスト膜を形成する工程と、フォトレジスト膜を露光及び現像することにより、被エッチング膜１１上に位置する直線状のレジストパターン５０を形成する工程と、レジストパターン５０をマスクとして被エッチング膜１１をエッチングすることにより、直線パターン１１ａを形成する工程とを具備する。 - 特許庁

To provide a color image forming method for proof reading by which little variation of black dot tone, quality similar to that of a print and superior stability are ensured even when a dot image is formed by exposing a silver halide photographic sensitive material by scanning exposure by laser exposure or with a light emitting diode in such a way that density of dots is varied one by one.例文帳に追加

本発明の目的は、ハロゲン化銀写真感光材料をレーザー露光や発光ダイオードで走査露光して網点一つ一つの中で濃度が異なるように露光して網点画像を形成した場合でも、墨網点色調の変動が少ない、印刷物に近似した品質でしかも安定性に優れた校正用のカラー画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To make it possible to transmit a large amount of image information with a high speed without exposing a high voltage electrode part outside by connecting a write device with a display medium by setting a mark part of the display medium to a ferromagnetic ring of the write device and thereby facilitating position adjustment and attaching/detaching for connecting the both.例文帳に追加

表示媒体と、これに画像を書き込む書込装置を別体とする場合に、両者の接続の位置合わせが容易となり、表示媒体を書込装置に対して容易に脱着でき、高圧電極部が外部に露出しない構造にでき、大容量の画像情報を高速に転送でき、かつ大型の装置を薄型の表示媒体に搭載する必要がないようにする。 - 特許庁

This method for processing the chopped vegetables comprises washing vegetable foodstuff in flowing water followed by dehydrating, cutting the foodstuff to necessary shape and size to bring to chopped vegetables, imparting the vegetables with strong reduction through exposing for ≥3 min in an anionic atmosphere with anion density of at least ≥300,000/cc in an insulated section, and sealing the vegetables in an impermeable packaging bag.例文帳に追加

野菜食材を流水洗浄のうえ脱水し、所要の形状及び大きさに切断して刻み野菜となしたうえ、絶縁区画内でそのマイナスイオン密度が少なくとも３０万個／ｃｃ以上のマイナスイオン雰囲気中に３分間以上晒して強い還元作用を付与せしめ、且不透水性包装袋に封入させる、鮮度に優れた刻み野菜及びその加工方法の構成。 - 特許庁

The semi-dry adhesion tiling method comprises installing mechanical fixing members by anchors fixed to the external wall surface of the building at predetermined spaces, and then beading an organic adhesive parallel at predetermined spaces to bond the tiles to the mechanical fixing members with the organic adhesive, thus tiling without exposing the mechanical fixing members on the tile surface side.例文帳に追加

半乾式接着タイル張り工法において、建物外壁表面に所定間隔で固定されたアンカーにより機械的固定部材を設置した後、所定間隔で平行に有機系接着剤をビード打ちし、該有機系接着剤によりタイルと機械的固定部材を接着し、前記機械的固定部材がタイル表面側に露出することなくタイルを張り付けることを特徴とする。 - 特許庁

This substrate for the semiconductor package includes: a substrate body; a connection pad group including a plurality of connection pads arranged in parallel at a determined interval on a surface of the substrate body; dummy connection pads arranged on both sides of the connection pad group, respectively; and solder resist patterns covering the substrate body and having openings exposing the dummy connection pads and the connection pad group.例文帳に追加

半導体パッケージ用基板は、基板本体、前記基板本体の表面に指定された間隔で並列配置された複数個の接続パッドを含む接続パッドグループ、前記接続パッドグループの両側にそれぞれ配置されたダミー接続パッド、および、前記基板ボディーを覆って、前記ダミー接続パッドと前記接続パッドグループとを露出させる開口を有するソルダレジストパターンを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the master disk for manufacturing the optical information recording medium has a main constitution such as featured by including processes: to form a resist film on the master disk; to expose the resist film; to develop the resist film; and to smooth micro unevenness of a resist surface by exposing the developed resist film to plasma.例文帳に追加

光情報記録媒体製造用原盤の製造方法であって、原盤上にレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜を露光する工程と、レジスト膜を現像する工程と、現像されたレジスト膜をプラズマに曝してレジスト表面の微小凹凸を平滑化する工程とを有する事を特徴とする光情報記録媒体製造用原盤の製造方法を主たる構成にする。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter for an image sensor includes steps of: coating a substrate directly or via another layer with a dye-containing photosetting composition and drying to form a coating film; exposing the coating film to light; developing the exposed coating film with an alkali; and irradiating the alkali-developed coating film with UV rays while heating at 20 to 50°C.例文帳に追加

イメージセンサ用カラーフィルタの製造方法が、染料を含む光硬化性組成物を基板上に直接または他の層を介して塗布し、その後乾燥して塗布膜を形成する工程と、前記塗布膜を露光する工程と、露光された塗布膜をアルカリ現像する工程と、アルカリ現像された塗布膜に２０〜５０℃で加熱しながら紫外線を照射する工程と、を含んでいる。 - 特許庁

The insulating layer 5 is selectively prehardened in the surface hardening exposure process only on the surface (top end face 6) of the segments subjected to surface drying and exposing by I rays and the segments not exposed by the I rays are selectively fluidized and inclined by having roundness while the flatness of the top end face 6 is maintained in the heating surfaces and finally the entire part is hardened.例文帳に追加

この絶縁層５では、表面硬化露光プロセスにおいて、Ｉ線により表面乾燥露光された部分の表面（上端面６）のみが選択的にプレ硬化されると共に、加熱プロセスにおいて、上端面６の平坦性が維持されたまま、Ｉ線により露光されなかった部分が選択的に流動して丸みを帯びて傾斜したのち、最終的に全体が硬化する。 - 特許庁