「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(123ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and system for exposure by which the throughput of an exposure system group is improved by shortening the waiting time of each exposure system by making the substrate to be exposed of a semiconductor device, etc., which is constituted of a plurality of layers of circuit patterns and requires strict superimposing accuracy exposable by performing little preceding exposing work by using a plurality of different exposure systems.例文帳に追加

複数層の回路パターンから構成され、厳しい重ね合わせ精度が要求される半導体装置等の対象露光基板に対して先行露光作業を殆どすることなく複数の異なる露光装置を用いて露光処理を可能にして各露光装置における待ち時間を低減して露光装置群においてスループットの向上を図るようにした露光方法およびそのシステムを提供することにある。 - 特許庁

There are provided uses of human embryonic stem cells for producing hematopoietic cells, uses of the hematopoietic cells for various uses, methods including a step of obtaining human hematopoietic cells by exposing in vitro culture product of human embryonic stem cells to mammalian hematopoietic stromal cells and using at least a part of the obtained human hematopoietic cell for producing an erythroblast cell forming unit in a methyl cellulose medium.例文帳に追加

血液系細胞を作り出すためにヒト胚性幹細胞を用いること、及び様々な用途のためのその血液系細胞の使用に関し、試験管内ヒト胚性幹細胞培養物を哺乳動物造血間質細胞に暴露してヒト造血細胞を作り出し、そのように作り出された該ヒト造血細胞の少なくとも一部がメチルセルロース培地内で赤芽球形成単位を作る段階を含むことを特徴とする方法。 - 特許庁

A dummy layer is formed on the active layer (step S3), and the dummy layer is partially etched without exposing the active layer to make grating structure (step S5).例文帳に追加

活性層上にダミー層を形成し（ステップＳ３）、ダミー層を、活性層を露出させることなく部分的にエッチングして回折格子構造にし（ステップＳ５）、次いで、ダミー層を成長装置で気相エッチングにより除去するとともに（ステップＳ７）、その回折格子構造の形状を活性層に転写して活性層に回折格子を形成し（ステップＳ８）、活性層を大気に曝すことなく回折格子上に分離層を形成する（ステップＳ９）。 - 特許庁

A plating film constituting a first layer 13 that serves as a base of an external terminal electrode is formed such that plating deposition deposited from a conductive surface formed by exposing end surfaces of internal electrodes 5, 6 is restricted to grow to the side of the low-growth plating region 12 beyond the border of the high-growth plating region 11 and the low-growth plating region 12.例文帳に追加

外部端子電極の下地となる第１層１３を構成するめっき膜は、内部電極５および６の露出端によって与えられる導電面を起点として析出しためっき析出物が高めっき成長領域１１と低めっき成長領域１２との境界を低めっき成長領域１２側へと越えて成長することが制限された状態で成長することによって形成される。 - 特許庁

A spectral analysis method includes: a step for generating steam of a specific substance from a sample by heating the sample; a step for exposing a sampling plate where an organic polymer film having compatibility with the specific substance is formed on a reflection member reflecting an electromagnetic wave to the steam; and a step for measuring a spectrum reflected from the reflection member by irradiating the organic polymer film with the electromagnetic wave.例文帳に追加

本発明の分光分析方法は、試料を加熱し、試料から特定物質の蒸気を発生させる工程と、蒸気中に、電磁波を反射する反射部材に特定物質と相溶性のある有機高分子膜を成膜させたサンプリングプレートを曝露する工程と、有機高分子膜に電磁波を照射し、反射部材から反射されたスペクトルを測定する工程とを有する、よう構成する。 - 特許庁

The method of manufacturing circuit board utilizes an adhesive tape and comprises steps of (A) forming a circuit pattern on an adhesive agent layer of the adhesive tape by a conductor, (B) forming an insulated layer by coating the circuit forming surface of the adhesive tape with an insulation material, and then (C) exposing the circuit at the surface of insulation layer by peeling the adhesive tape.例文帳に追加

本発明の回路基板の製造方法は、粘着テープを用いた回路基板の製造方法であって、（Ａ）粘着テープの粘着剤層上に導体により回路パターンを形成する工程の後、（Ｂ）前記粘着テープの回路形成面に絶縁性材料を塗布して絶縁層を形成する工程、次いで（Ｃ）前記粘着テープを剥離して絶縁層表面に回路を露出させる工程を設けることを特徴とする。 - 特許庁

The customized interface providing method includes: inputting a request for use of the ultrasound diagnostic system from a user; exposing, in response to the request, a selection screen associated with selecting any one of software modes provided from the ultrasound system; inputting selection information from the user according to exposure of the selection screen; and executing a software mode corresponding to the selection information.例文帳に追加

ユーザ適応型インターフェース提供方法は、ユーザから超音波診断システムの使用要請が入力されるステップと、使用要請に対応して超音波診断システムが提供するソフトウェアモードのうちのいずれか１つの選択に関する選択画面を露出するステップと、選択画面の露出によってユーザから選択情報が入力されるステップと、選択情報に対応するソフトウェアモードを実行するステップとを含む。 - 特許庁

A low dielectric constant film is a mesoporous film, formed by forming an oxide film having interconnecting pores of a uniform diameter through treating, and curing a sol-gel precursor containing a surfactant and then annealing the film in an inert gas atmosphere or exposing the film to an oxidizing atmosphere containing reactive oxygen species to form a mesoporous oxide film.例文帳に追加

低誘電率膜は、界面活性剤を含むゾルゲル前駆物質を処理しそして硬化することにより均一な直径の内部連通孔を有する酸化物膜を形成し、次いで、中多孔性酸化物膜を形成するためにその膜を不活性ガス環境でアニーリングする又はその膜を活性酸素種を含む酸化環境にさらすこよにより形成される中間多孔性酸化物膜である。 - 特許庁

A method for forming an insulating film comprises a process for irradiating a substrate surface having a silicon oxide thin film on a semiconductor substrate with vacuum ultraviolet rays in a vacuum container retained in high vacuum; and a process for performing either nitriding or oxynitriding treatment in the vacuum container retained in a high vacuum state without exposing the substrate to the atmosphere after the irradiation of vacuum ultraviolet rays.例文帳に追加

本発明の絶縁膜の形成方法は半導体基板上にシリコン酸化薄膜を有する基体表面を高真空に保持された真空容器内で真空紫外光を照射する工程と、真空紫外光照射後に基体を大気に暴露することなく、高真空状態に保持された真空容器内で窒化或いは酸窒化いずれかの処理を行う工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacturing method of the crystal oscillator which forms a coating film consisting of photopolymer on the quartz plate, forms a desired shape by exposing resin with exposed light by using a mask and performs batch dry etching processing of the quartz plate by using the resin shape, transmissivity of the exposed light transmitted the mask is controlled and the batch dry etching processing of the quartz plate is performed.例文帳に追加

水晶板上に感光性樹脂からなる被膜を形成し、マスクをもちいて露光光により前記樹脂を感光させることによって、所望の形状を形成し、前記樹脂形状を用いて水晶板を一括ドライエッチング加工する水晶振動子の製造方法であって、前記マスクを透過した露光光の透過率が制御されかつ水晶板を一括ドライエッチング加工することを特徴とする。 - 特許庁

The ultrasonic transmission sensor array 50 and the ultrasonic reception sensor array 51 are pasted in such a way that the ultrasonic transmission sensors 52 and the ultrasonic reception sensors 53 are not overlapped in plane view and in either the ultrasonic transmission sensor array 50 or the ultrasonic reception sensor array 51, a through-hole 11b is formed for exposing the ultrasonic sensors 53 in the other array 51, for example.例文帳に追加

超音波送信用センサーアレイ５０及び超音波受信用センサーアレイ５１は、超音波送信用センサー５２及び超音波受信用センサー５３が平面視した状態で重ならないように貼り合わされ、超音波送信用センサーアレイ５０及び超音波受信用センサーアレイ５１の一方には、他方のアレイ５１における超音波センサー５３を露出させる貫通孔１１ｂが形成されている。 - 特許庁

To prevent an electrifying member of an electrifying device from being soiled by toner in an image forming apparatus electrifying an image carrier by the electrifying device, forming an electrostatic latent image by exposing the electrified surface, visualizing the electrostatic latent image as a toner image by polymerized toner, transferring the toner image to transfer material and eliminating any transfer residue toner stuck to the image carrier after the transfer by a cleaning device.例文帳に追加

帯電装置によって像担持体を帯電し、その帯電面を露光して静電潜像を形成し、その静電潜像を重合法トナーによってトナー像として可視像化し、そのトナー像を転写材に転写し、その転写後に像担持体上に付着する転写残トナーをクリーニング装置によって除去する画像形成装置において、帯電装置の帯電部材がトナーで汚されることを防止する。 - 特許庁

The image display device is manufactured through the stages of: forming a circuit layer 2 having unevenness on a surface on a substrate 1; coating the circuit layer 2 with photosensitive resin paste until its top surface becomes flat and then curing the paste to form a flattening film precursor 3'; and exposing the nearly entire top surface of the flattening film precursor 3' and developing it to form the flattening film 3.例文帳に追加

表面に凹凸を有する回路層２を基板１上に形成する工程と、感光性樹脂ペーストを、その上面が平坦になるまで回路層２上に塗布し、硬化することにより平坦化膜前駆体３’を形成する工程と、平坦化膜前駆体３’の上面略全体を露光し、現像することにより平坦化膜３を形成する工程と、を経て画像表示装置を製造する。 - 特許庁

This keyword advertisement exposure method through the optimal landing page retrieval includes a step for receiving the input of a detail keyword including a keyword to which any character string other than a representative keyword purchased by the advertiser is added from a user; a step for dynamically searching for the optimal landing page accompanied by the input detail keyword; and a step for exposing the page information of the optimal landing page to the user.例文帳に追加

本発明に係る最適なランディングページ検索を介したキーワード広告露出方法は、広告主が購買した代表キーワード以外の文字列が追加されたキーワードを含む詳細キーワードの入力をユーザから受ける段階と、入力された詳細キーワードに伴う最適なランディングページを動的に探し出す段階と、最適なランディングページのページ情報をユーザに露出する段階とを含む。 - 特許庁

Further, by exposing the hemispheric cured photosensitive resin 3a on the substrate 1 through a photomask 4 having the distribution of the transmittance and then developing, the exposed face of the cured photosensitive resin 3a is dissolved and removed according to the distribution of the transmittance of the photomask 4 to obtain a microlens 6 made of the hardened photosensitive resin 3a with the surface processed into an aspheric form.例文帳に追加

さらに、基板１上で半球状に硬化した硬化済感光性樹脂３ａに対して透過率分布をもったフォトマスク４を通して露光を行い、その後現像することにより、硬化済感光性樹脂３ａの露光面側がフォトマスク４の透過率分布に応じて溶解除去され、硬化済感光性樹脂３ａの表面を非球面形状としたマイクロレンズ６を得ることができる。 - 特許庁

To provide a birefringence measuring device that simply, quickly and precisely measures birefringence characteristics of a measured object in an ultraviolet range, a heat treatment method and a strain removing device that can shorten heat treatment time and control birefringence magnitude in a heat treatment process of an optical member, and an exposing device that is mounted with a polarization state detecting device comprising the birefringence measuring device.例文帳に追加

被検測定物の紫外域における複屈折特性を簡便、高速、且つ高精度に測定する複屈折測定装置と、光学部材の熱処理工程において、熱処理時間を短縮化し、且つ複屈折量を制御することが可能な熱処理方法及び除歪装置と、上記複屈折測定装置により構成される偏光状態検出装置を搭載した露光装置を提供する。 - 特許庁

The image forming method of forming a toner image on a transfer medium by successively subjecting the photoreceptor to at least electrostatic charging, exposing, developing, and transferring processes comprises using the photoreceptor having a coating layer dispersed with a granular material on the extreme surface layer of the photoreceptor and using the toner containing at least a black iron oxide compound as the coloring matter for the toner.例文帳に追加

感光体に少なくとも帯電、露光、現像、転写工程を順次施すことによって転写媒体上にトナー画像を形成する画像形成方法において、該感光体にその最表面に粒子状物質を分散した被覆層を有する感光体を用い、該トナーに着色剤として少なくとも黒色酸化鉄化合物を含有するトナーを用いることを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is improved in line edge roughness, pattern profile, EUV light exposing sensitivity, and dissolution contrast, and is used in manufacturing processes of semiconductors such as ICs, circuit boards for such as liquid crystals and thermal heads, and in other photofabrication processes, and also provide a pattern forming method using this composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the image forming method for forming an image comprising Y, M, C and K dot images by exposing and developing a silver halide photosensitive material with the dot area modulation image forming apparatus with which variable density pixels are formed and dots are reproduced by aggregates thereof, the silver halide photosensitive material has a hydrophilic colloidal layer containing flake titanium oxide and contains black colloidal silver.例文帳に追加

濃度可変な画素を形成しその集合体により網点を再現する面積諧調画像形成装置により、ハロゲン化銀感光材料に露光及び現像して、Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｋ網点画像を含む画像を形成する画像形成方法において、該ハロゲン化銀感光材料が薄片状酸化チタンを含有する親水性コロイド層を有し、かつ黒色コロイド銀を含有することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

The resin sealed semiconductor device comprises a die pad 106, signal leads 102, earth connection leads 103 connected with the die pad 106, a semiconductor chip 201 having electrode pads for earth, thin metal wires 202, and a resin 203 for sealing the die pad 106 and the semiconductor chip 201 and further sealing the signal leads 102 and the earth connection leads 103 while exposing the lower part thereof as external terminals.例文帳に追加

ダイパッド１０６と、信号用リード１０２と、ダイパッド１０６に接続された接地用接続リード１０３と、接地用の電極パッドを有する半導体チップ２０１と、金属細線２０２と、ダイパッド１０６，半導体チップ２０１を封止すると共に信号用リード１０２及び接地用接続リード１０３の下部を外部端子として露出させて封止する封止樹脂２０３とを備えている。 - 特許庁

In the image forming device carrying out image formation by electrifying the photoreceptor, forming an electrostatic image by exposing and developing the electrostatic image, it is characteristic that surface potential of the photoreceptor before the exposure Vo is set so that the difference ΔVr of the potential of the photoreceptor after the exposure and the potential of the photoreceptor after the exposure in an initial period of use is ≤50 volts.例文帳に追加

感光体を帯電し、露光して静電像を形成し、静電像を現像して画像形成を行う画像形成装置において、膜削れによる膜厚減少が１５μｍのときの感光体の露光後電位と使用初期における感光体の露光後電位との差（ΔＶｒ）が５０ボルト以下となるように感光体の露光前表面電位（Ｖｏ）が設定されていることを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁

The storage device 10 has an instrument panel reinforce 16 having an end surface 18 made to an opened hollow shape and capable of storing an article at the inside; and an opening 20 formed on a vehicle body frame 12 opposed to the opened end surface 18 of the instrument panel reinforce 16 and capable of exposing the opened end surface 18 of the instrument panel reinforce 16 when a door 30 is opened.例文帳に追加

端面１８が開放された中空状とされ、内部に物品を収納可能とされたインストルメントパネルリインフォース１６と、インストルメントパネルリインフォース１６の開放された端面１８に対向する車体フレーム１２に形成され、ドア３０を開放させたときに、インストルメントパネルリインフォース１６の開放された端面１８を露出可能にできる開口部２０と、を有する収納装置１０とする。 - 特許庁

This image forming apparatus which performs an image formation preparation stage for stabilizing the potential of the photosensitive body 1 at a specific potential prior to the start of image formation performs light irradiation by an image exposing means 9 in one starting round after the photosensitive body 1 begins to rotate in addition to light irradiation by a main electrostatic discharging light source 8, thereby immediately stabilizing the potential of the photosensitive body 1.例文帳に追加

画像形成の開始に先立って、感光体１の電位を所定電位に安定化させる画像形成準備工程を実行する画像形成装置において、画像形成準備工程の際に感光体１が回転しはじめて最初の一周の間は主除電光源８に加えて像露光手段９による光照射も行うことによって、感光体１の電位を即座に安定させる。 - 特許庁

The polycrystalline thin film Si depositing method includes a process for depositing a polycrystalline Si thin film serving as a base on a substrate, a process for depositing an amorphous Si layer on the surface of the polycrystalline Si thin film, a process for partially removing the amorphous Si layer and partially exposing polycrystalline Si, and a process for growing crystal Si by setting a part where polycrystalline Si is exposed as a core.例文帳に追加

多結晶薄膜Ｓｉ堆積法において、少なくとも 下地となる多結晶Ｓｉ薄膜を基板上に堆積する工程と 該多結晶Ｓｉ薄膜表面に非晶質Ｓｉ層を堆積する工程と 該非晶質Ｓｉ層を部分的に除去し、多結晶Ｓｉを部分的に露出させる工程と 該多結晶Ｓｉが露出した部分を核として結晶Ｓｉを成長させる工程とを含むことを特徴とする - 特許庁

To provide a substrate plating device capable of forming a plating layer on a substrate face, storing the substrate till the next stage without exposing the substrate to the air and easily realizing a device for forming a plating layer on a substrate face and thereafter continuously executing all treating stages including wet treatment such as CMP treatment for removing the plating layer other than the wiring part of the plating layer from the substrate face.例文帳に追加

基板面上にメッキ層を形成し、その次の工程迄、該基板を大気に曝すことなく保管できる基板メッキ装置及び基板面上にメッキ層を形成し、その後メッキ層の配線部を残して、基板面上からメッキ層を除去するＣＭＰ処理等のウエット処理を含む全ての処理工程を連続して実施できる装置を容易に実現できる基板メッキ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a technique which increases a speed of write/read of an element and improves a fresh characteristic of the element by designing the semiconductor element so as to form a recess channel area and a fin type channel area on its lower portion, especially, utilizing an island type recess gate mask exposing a predetermined active area and an element separating structure adjacent to it, concerning a semiconductor element and its manufacturing method.例文帳に追加

半導体素子及びその製造方法に関し、特に所定の活性領域とこれと隣接した素子分離構造を露出するアイランド型リセスゲートマスクを利用してリセスチャンネル領域とその下部にフィン型チャンネル領域を形成するよう半導体素子を設計することにより、素子の書込み及び読取り速度を向上させることができ、素子のリフレッシュ特性を改善することができる技術を提供する。 - 特許庁

The apparatus is a projection exposure apparatus for scanning and exposing a substrate by moving a mask and a photosensitive substrate to illumination light, and it is provided with a means of detecting the illuminance of the illumination light, an illuminance controlling means of maintaining the detected illuminance of the illumination light at a commanded illuminance value, and an exposure amount controlling means of controlling the commanded illuminance value according to the exposure speed.例文帳に追加

本発明による露光装置は、照明光に対してマスクと感光基板とを移動することにより、基板を走査露光する投影露光装置であって、照明光照度を検出する手段と、検出した照明光照度を指令照度値に保つ照度制御手段と、露光速度に応じて指令照度値を制御する露光量制御手段とを備えることを特徴とする - 特許庁

The method of manufacturing the image sensor includes the steps of: forming an interlayer insulating film including pads on a semiconductor substrate having a plurality of unit pixels formed thereon; forming a color filter array on the interlayer insulating film; forming micro lenses on the color filter array; forming a capping film on the semiconductor substrate including the micro lenses; forming a pad mask on the capping film; and exposing the pads.例文帳に追加

複数の単位画素が形成された半導体基板上に、パッドを含む層間絶縁膜を形成するステップと、層間絶縁膜上にカラーフィルタアレイを形成するステップと、カラーフィルタアレイ上にマイクロレンズを形成するステップと、マイクロレンズを含む半導体基板上にキャッピング膜を形成するステップと、キャッピング膜上にパッドマスクを形成するステップと、パッドを露出させるステップとを含むイメージセンサの製造方法とする。 - 特許庁

An insulated gate field effect transistor is fabricated by forming an underlying silicide film or a gate insulation film on a substrate, forming an amorphous silicon film in contact therewith without exposing the film to the atmosphere, heat treating the amorphous silicon film to form a crystalline silicon film, and patterning the crystalline silicon film to form a semiconductor layer for forming a channel forming region.例文帳に追加

基板上の下地となる酸化珪素膜又はゲイト絶縁膜となる酸化珪素膜を形成し、その酸化珪素膜を大気に曝すことなく、それに接して非晶質珪素膜を形成し、その非晶質珪素膜を熱処理し、結晶性珪素膜を形成し、その結晶性珪素膜をパターニングし、チャネル形成領域が形成される半導体層を形成して、絶縁ゲイト型電界効果トランジスタを作製する。 - 特許庁

This semiconductor device includes: a wiring electrode 1 formed on a semiconductor substrate; the insulation film 2 formed on the wiring electrode 1 and including an opening for exposing the wiring electrode 1; the bump electrode 3 formed on the wiring electrode 1 exposed from the opening of the insulation film 2; and a filling material 5 arranged between the insulation film 2 and the bump electrode 3.例文帳に追加

本発明の一態様に係る半導体装置は、半導体基板上に形成された配線電極１と、配線電極１上に形成され、配線電極１を露出する開口部を備える絶縁膜２と、絶縁膜２の開口部において露出する配線電極１上に形成されたバンプ電極３と、絶縁膜２とバンプ電極３との間に設けられた充填材５とを備える。 - 特許庁

To provide a liquid fuel supply system in a fuel cell, wherein liquid fuel is prevented from spouting out when heating it and under a reduced pressure environment, the liquid fuel can be stably supplied regardless of the direction of a liquid fuel cartridge body, and the liquid fuel is prevented from volatilizing without exposing the liquid fuel even when supply of the liquid fuel is temporarily interrupted and the cartridge body is removed.例文帳に追加

加熱時や減圧環境下での液体燃料の吹き出しを防止できると共に、液体燃料カートリッジ体の向きによらず液体燃料を安定に供給でき、しかも、液体燃料の供給を一時中断し、カートリッジ体を取り外すときでも、液体燃料は暴露せず液体燃料の揮発を防止することができる燃料電池における液体燃料供給システムを提供する。 - 特許庁

The projected body is manufactured by the first step of forming a resist film on a surface of a substrate; the second step of changing a relative distance between the resist film and an exposure mask, while exposing a surface of the resist film through the exposure mask; and the third step of developing the resist film and of removing the resist film partially, thereby forming the projected body having a predetermined shape.例文帳に追加

基板の表面にレジスト膜を形成する第１の工程と、前記レジスト膜と露光マスクとの間の相対距離を変化させながら前記露光マスクを通して前記レジスト膜の表面に露光を行う第２の工程と、前記レジスト膜を現像し、前記レジスト膜を部分的に除去することにより所定形状の凸状体を形成する第３の工程と、により凸状体を製造する。 - 特許庁

The method is characterized in that it includes processes of: forming a film to be etched having a layer containing a nitrogen atom as a structural atom as at least the uppermost layer on a substrate; subjecting the film to be etched to a thermal oxidation process to form an oxidized layer on the surface; forming a chemical amplification resist film on the film to be etched; and selectively exposing and developing the chemical amplification resist film.例文帳に追加

少なくとも最上層に窒素原子を構成原子とする膜を有する被エッチング膜を基板上に形成する工程と、前記被エッチング膜を熱酸化処理を施してその表面に酸化層を形成する工程と、前記被エッチング膜上に化学増幅レジスト膜を形成する工程、前記化学増幅レジスト膜を選択的に露光し、現像する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The surface treating method comprises rendering a reactive gas in a plasma state by the discharge of both opposing electrodes under atmospheric pressure or pressure in the neighborhood of atmospheric pressure, and exposing the surface of a substance to be treated to the reactive gas in a plasma state, and the irregularities and voids are formed on the surface of the substance to be treated by making the discharge intensity by the above electrodes nonuniform.例文帳に追加

本発明の表面処理方法は、大気圧または大気圧近傍の圧力下で、対向する電極双方の放電により反応性ガスをプラズマ状態とし、被処理物の表面を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒して処理する表面処理方法であって、前記電極による放電強度を不均一にすることで、被処理物表面に凹凸及び空隙を形成することを特徴とする。 - 特許庁

This corrosive liquid for exposing the austenitic grain boundary of the boron steel or the austenitic grain boundary of the quenching material for the high-carbon chromium bearing steel is prepared by dissolving picric acid 15-25 g in water 400 ml, adding thereto 20-40 ml of detergent 'LIPON F'(R), and adding thereto 4-10 g sodium dodecyl benzenesulfonate as a surfactant.例文帳に追加

ボロン鋼のオーステナイト結晶粒界あるいは高炭素クロム軸受鋼の焼入材のオーステナイト結晶粒界を顕出するための腐食液において、４００ｍｌの水に対してピクリン酸を１５〜２５ｇを溶解し、これに洗剤のライポンＦ（商品名：ライオン油脂製）２０〜４０ｍｌを加え、さらに界面活性剤としてドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムを４〜１０ｇを加えてなることを特徴とする腐食液である。 - 特許庁

The method of creating the print by exposing the rolled paper of a photosensitive material includes the steps of collectively inputting a plurality of print sizes and the quantity of them for every order block, determining the print layout of each image on the rolled paper of identical width for every order block based on the input information, performing the image processing of each image, and collectively printing for every order block.例文帳に追加

感光材料であるロールペーパーに露光してプリントを作成する方法において、注文ブロックごとに複数のプリントサイズとその数量をまとめて入力し、入力した情報に基づき前記注文ブロックごとに同一幅のロールペーパーに各画像のプリントレイアウトを決め、前記各画像の画像処理を行い、前記注文ブロックごとにまとめてプリントすることを特徴とするプリント作成方法。 - 特許庁

The aligner comprising an illumination optical system for illuminating the pattern of an original plate, and a projection optical system for guiding light from the pattern onto a substrate and exposing the substrate is further provided with at least one reflective member, and a noncontact pressure applying means for applying a force to at least one reflective member such that gravitational deformation thereof is reduced.例文帳に追加

原版のパターンを照明する照明光学系と、前記パターンからの光を基板上に導く投影光学系とを有し、前記基板を露光する露光装置であって、前記露光装置が少なくとも１つの反射部材と、前記少なくとも１つの反射部材の自重変形量が小さくなるように、前記少なくとも１つの反射部材に対して非接触に力を加える加力手段を有する。 - 特許庁

The method for forming the contact structure comprises the steps of: forming an interlayer insulating film on a semiconductor substrate; forming a contact hole by patterning the interlayer insulating film and exposing the predetermined region of the semiconductor substrate; and forming the contact spacer on the side wall of the contact hole by the use of a depositing method having a depositing direction slanted to the main surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

本発明のコンタクト構造体の形成方法は、半導体基板上に層間絶縁膜を形成する工程と、層間絶縁膜をパターニングして半導体基板の所定領域を露出させるコンタクトホールを形成する工程と、半導体基板の主表面に対して傾斜した蒸着方向を有する蒸着法を用いてコンタクトホールの側壁にコンタクトスペーサを形成する工程と、を有する。 - 特許庁

The method of patterning a dielectric film includes a step of forming a first dielectric film on a silicon substrate, a step of forming a second dielectric film on the first dielectric film, a step of partially exposing the first dielectric film by partially etching the second dielectric film with use of an etching paste, and a step of etching the exposed first dielectric film using an etching solution.例文帳に追加

シリコン基板上に、第１の誘電体膜を形成する工程と、該第１の誘電体膜上に、第２の誘電体膜を形成する工程と、エッチングペーストを用いて、第２の誘電体膜を部分的にエッチングすることにより、第１の誘電体膜を部分的に露出させる工程と、露出した第１の誘電体膜を、エッチング液を用いてエッチングする工程とを含む誘電体膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

The negative-working photopolymerization type photosensitive lithographic printing plate precursor for exposing with laser has at least one photopolymerizable photosensitive layer on a hydrophilic support and further has a protective layer on the photosensitive layer, wherein the photopolymerizable photosensitive layer contains a dye or pigment, capable of absorbing light having a wavelength of a laser emission wavelength±50 nm.例文帳に追加

親水性支持体上に、光重合型の感光性層を少なくとも１層有し、さらに該感光性層上に保護層を有し、レーザで露光するネガ型の光重合型感光性平版印刷版原版において、該光重合型の感光性層がレーザ発光波長±50nmの光を吸収可能な染料または顔料を含有することを特徴とするネガ型の光重合型感光性平版印刷版原版。 - 特許庁

On at least one surface of an engaging top surface positioned on an engaging protruded piece and a member coming in pressure contact interactively on a collision surface positioned below the lower part of the engaging top member material, a metal piece is embedded exposing the surface and on the other surface, the synthetic resin is exposed.例文帳に追加

針棒駆動部材と、受動部材とは夫々合成樹脂材を用いて成形し、しかも上記係合突片の上面に位置する係合上面または上記掛り合上部材の下面に位置する衝突面における相互に圧接触する部分のいずれかの一方の面には、金属片をその表面が露出する状態で埋め込み状態に備えさせ、他方の面は合成樹脂材が露出する状態にした。 - 特許庁

The method for producing the aminobenzoate ester includes the steps of: (a) providing a reaction mixture comprising the alkyl aminobenzoate, an alcohol reagent and a suitable transesterification catalyst; (b) introducing an auxiliary alcohol to the reaction mixture; and (c) exposing the reaction mixture to conditions effective to provide an end-product mixture comprising the aminobenzoate ester.例文帳に追加

本発明の方法は、（ａ）アミノ安息香酸アルキルとアルコール薬剤と好適なエステル交換触媒とを含む反応混合物を用意する工程、（ｂ）補助アルコールを前記反応混合物に導入する工程、および（ｃ）アミノ安息香酸エステルを含む最終生成物混合物を生成するのに有効な条件に前記反応混合物を曝す工程を含むアミノ安息香酸エステルを製造する方法が提供される。 - 特許庁

The electron beam exposure apparatus for exposing a desired pattern on a sample mounted on a wafer stage 124 with an electron beam generated from an electron gun 101 comprises a means 129 for injecting reducing gas into a column 100 containing the electron gun 101 and the wafer stage 124, and a control means 209 for sustaining injection of reducing gas into the column 100 for a predetermined time.例文帳に追加

電子銃１０１から発生させた電子ビームでウエハステージ１２４に載置した試料上に所望のパターンを露光する電子ビーム露光装置において、前記電子銃１０１及びウエハステージ１２４が収納されているコラム１００内に還元性ガスを注入する手段１２９と、前記コラム１００内に前記還元性ガスの注入を所定の時間継続して行わせる制御手段２０９とを有する。 - 特許庁

Separators 21, 22 of a fuel cell generating power by supplying fuel and an oxidizing agent are formed with a material formed by impregnating resin in a foam, at least gas passages 23, 25 are formed on a contact surface coming in contact with electrodes 19, 20, and conductive plating is performed in portions exposing the metallic form 28 of contact surfaces 21a, 21b.例文帳に追加

燃料と酸化剤の供給により発電を行う燃料電池のセパレータ２１，２２であって、金属発泡体２８に対して樹脂を含浸させた素材で形成され、電極１９，２０と接触する接触面は、少なくともガス流路２３，２５が形成されるとともに、この接触面２１ａ，２１ｂの前記金属発泡体２８が露出した部分に導電性メッキが施されていることを特徴とする。 - 特許庁

The exposure method of exposing a wafer to a device pattern of a reticle includes the steps of: arranging the reticle at a first angle and measuring first flatness of the reticle; arranging the reticle at a second angle and measuring second flatness of the reticle; and determining a setting angle of the reticle during exposure based upon measurement results of the first flatness and second flatness.例文帳に追加

本発明の露光方法は、レチクルのデバイスパターンをウエハに露光する露光方法であって、前記レチクルを第１の角度で配置して該レチクルの第１の平面度を測定する工程と、前記レチクルを第２の角度で配置して該レチクルの第２の平面度を測定する工程と、前記第１の平面度及び前記第２の平面度の測定結果に基づいて露光時における該レチクルの設定角度を決定する工程とを有する。 - 特許庁