「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(110ページ目) - Weblio英語例文検索

The on-vehicle electronic device forms a recess portion for detachably mounting a portable device 10 in a portable device mounting portion, and includes a front surface portion with a notch for exposing a side surface 202 of the portable device 10 mounted in the recess portion on the left or right side of the portable device mounting portion.例文帳に追加

本発明は、携帯装置装着部に携帯装置１０を着脱可能とした凹部が形成され、携帯装置１０が凹部に装着された状態で前記携帯装置装着部から見て右または左の携帯装置の１０側面２０２を露出する切欠部を有する前面部を具備している車載用電子装置である。 - 特許庁

An outside operation portion 17 is provided on a remaining portion excepting a backside region of the outside display portion 16 on exposing portions to the outside of the first and the second movable portions 12 and 13, and predetermined information on the predetermined display content displayed on the outside display portion 16 can be input.例文帳に追加

外部側操作部１７は、第１および第２可動部１２，１３の前記外部に露出する領域のうち前記外部側表示部１６に関して背後となる領域を除く残余の領域に設けられ、前記外部側表示部１６に表示される所定の表示内容に関する所定の情報を入力することができる。 - 特許庁

By means of a tape material as a source material whose first and second copper layers 22A, 22B are disposed on both surfaces of a polyimide resin film 1, a wiring pattern 2 on a predetermined region of which the semiconductor device is mounted is formed by sequentially exposing, developing and etching the first copper layer after a masking tape 23 is bonded to the second copper layer 22B.例文帳に追加

ポリイミド樹脂フィルム１の両面に第１，第２の銅層２２Ａ，２２Ｂが設けられたテープ材料を出発材料とし、第２の銅層２２Ａにマスキングテープ２３を貼り付けた後、第１の銅層に露光、現像及びエッチングを順次施して、所定領域に半導体装置が実装される配線パターン２を形成する。 - 特許庁

To provide a plate making method by image-wisely exposing the image forming face formed on the surface side of a rotatable drum and then developing the exposed image forming face to form an image, by which the amount of a developer used for the development can be decreased and a stable image can be efficiently formed.例文帳に追加

回転可能なドラムの表面側に形成された画像形成面を画像露光し、露光した画像形成面を現像処理して画像を形成する製版方法であって、現像処理に使用する現像液の量を低減でき、安定した画像を効率的に形成できる製版方法を提供する。 - 特許庁

This photographic processing device 1 has the transporting means 324 for transporting the photosensitive materials 2 to an exposure position, the exposure means for exposing the images by one line each to the photosensitive materials in the exposure position and a start signal generating means 127 for generating a start signal in order to drive the transporting 324 and the exposure means.例文帳に追加

感光材料２を露光位置に搬送する搬送手段３２４と、露光位置で感光材料に１ライン毎に画像を露光する露光手段と、搬送手段３２４及び露光手段を駆動させるべくスタート信号を発生させるスタート信号発生手段１２７とを備えた写真処理装置１である。 - 特許庁

Further, in the printer 16, by simultaneously scanning and exposing a donor D using plural recording light sources LY, LC and LM on the basis of the RGB image data after color conversion and heat developing and transferring the donor D after exposure to a reception sheet RS, a hard copy HC on which the image IM is formed on the reception sheet RS is outputted.例文帳に追加

さらにプリンタ１６において、色変換後のＲＧＢ画像データに基づきドナーＤを複数の記録光ＬＹ、ＬＣ、ＬＭにより同時に走査露光し、露光後のドナーＤを受像シートＲＳに熱現像転写することにより、受像シートＲＳ上に画像ＩＭが形成されたハードコピーＨＣが出力される。 - 特許庁

This flow cell for storing a liquid sample and for exposing the liquid sample to emission light for the analysis comprises a capillary tube having an incident bent part and an outgoing bent part, and formed with a proper length of linear passage therebetween, a slit is penetrated through a passage portion of the capillary tube, and a light-passing blocking part is provided in the slit.例文帳に追加

液体試料を収容し、分析のために液体試料を放射光にさらすフローセルであって、入射屈曲部と出射屈曲部を有し、その間に適宜長の直線状の通路を形成したキャピラリーチューブより成り、キャビラリーチューブの通路部分はスリットを挿通し、該スリットには光通過阻止部を設ける。 - 特許庁

To reduce manufacturing costs, downsize an apparatus and make costs low, by simplifying a temporary joining step of temporarily joining a pair of components without the use of an adhesive, reducing temporary adhesive material costs, and dispensing with a temporary adhesive applicator, an exposing device, etc., in the joining of a microcomponent for use in an inkjet recording head.例文帳に追加

インクジェット記録ヘッドに用いる微細部品の接合に際し、接着剤を使用せず一対の部品を仮接合する仮接合工程を簡略化し、仮接着剤材料費の削減、仮接着剤塗布装置、露光装置等を不要にし、製造コストの低減と装置の小型化、低コスト化を図る。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device has a process for forming a thin film made of an insulating material on a substrate, a process for opening a hole on the thin film, a process for exposing the thin film to the atmosphere of rare gas plasma, and a process for depositing a conductive material into the hole.例文帳に追加

基体の上に、絶縁性の材料からなる薄膜を形成する工程と、前記薄膜に孔を開口する工程と、前記薄膜を、希ガスのプラズマの雰囲気に晒す工程と、前記孔に導電性材料を堆積する工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve production efficiency by reducing time for acquiring exposure point data, in a method for acquiring the exposure point data, which is used for exposing an exposure pattern onto a substrate by a micromirror based on the exposure point data and is acquired from an original image data according to deformation or the like of the substrate.例文帳に追加

露光点データに基づいてマイクロミラーにより基板上に露光パターンを露光する際に用いられる露光点データであって、基板の変形などに応じて原画像データから取得される露光点データの取得方法において、その露光点データの取得時間を短縮し、生産効率の向上を図る。 - 特許庁

A semiconductor wafer before a dicing comprises a silicon substrate 50 with its surface divided into a element forming region 42 and a scribing line region 43, with a passivation film 55 and a polyimide film 56 covering the element forming region 42, and with the accessary pattern 53 comprising a top layer interconnection layer 52 exposing to the scribing line region 43.例文帳に追加

ダイシング前の半導体ウェーハは、シリコン基板５０上が素子形成領域４２とスクライブ線領域４３とに分けられ、パッシベーション膜５５及びポリイミド膜５６が素子形成領域４２を覆い、最上層配線層５２からなるアクセサリパターン５３がスクライブ線領域４３に露出しているものである。 - 特許庁

The method for detecting the transition metal containing the foreign substance includes: the step of exposing the separator to which the transition metal containing the foreign substance is attached, to acid steam thereby forming a transition metal salt on the surface of the foreign substance; the step of immersing the separator in an organic solvent solution being a color reagent; and the step of drying the separator.例文帳に追加

遷移金属含有異物が付着されたセパレータを酸蒸気に曝露して異物表面に遷移金属の塩を生成させる工程と、 前記セパレータを呈色試薬の有機溶媒溶液に浸漬する工程と、 前記セパレータを乾燥させる工程とを含むことを特徴とする遷移金属含有異物の検出方法。 - 特許庁

Surface treatment is done to the semiconductor substrate 1 with a process of introducing reaction gas which contains the surfactant to a chamber 3 as shown in (a), and a process of interrupting the introduction of the reaction gas and exposing the semiconductor substrate 1 to the atmosphere which contains the surfactant under the condition that the chamber 3 is enclosed as shown in (b).例文帳に追加

（ａ）のように界面活性剤を含有する反応ガスをチャンバ３に導入する工程と、（ｂ）のように反応ガスの導入を遮断しチャンバ３内を密閉した状態で半導体基板１を界面活性剤を含む雰囲気下にさらす工程とを行って半導体基板１に表面処理を施す。 - 特許庁

The concentration of the hydrophilic groups on the surface of the film coated on the surface of the base increases by exposing the film of the photopolymerizable coated resin composition to the atmosphere with high humidity because the hydrophilic groups (the hydrophilic vinyl monomer and the hydrophilic group of colloidal silica) align to the direction of water.例文帳に追加

光重合性被覆組成物皮膜を相対湿度が高い雰囲気下に晒すと被覆組成物皮膜の親水性基（親水性ビニル単量体やコロイダルシリカの親水性基）が水の存在方向に触手を伸ばし、基材表面に塗布された皮膜表面の親水性基の濃度が増加する。 - 特許庁

When a tension member 240 is engaged with a part of the rod member 215 exposed from an exposing part 212 of the engaging structure 213, elastic force of the tension member 240 is transmitted to a part of the rod member and the rod member evenly draws the cloth to evenly apply stress on whole the cloth.例文帳に追加

係止構造(213)の露出部(212)から露出している棒状部材(215)の一部に引張り部材(240)を係止して遊技台の係止部(130)に係止すれば、引張り部材(240)の弾性力が棒状部材の一部に伝達され、棒状部材がクロスを均等に引張るため、クロス全体に均等な張力が及ぼされる。 - 特許庁

To provide a positioning structure by which positioning and fine adjustment of original glass on which an original pattern has been formed and transfer glass are accurately and reliably performed with one member at low cost with respect to the positioning structure of an exposing device in which a plulality of original patterns are superposed on a transfer glass to transfer them on it with light.例文帳に追加

複数の原パターンを被転写ガラスに重ね合わせ、該複数の原パターンを光を使い被転写ガラスに転写する露光装置の位置決め構造において、原パターン記載の原ガラスと被転写ガラスとの位置決めと微調整を１個の部材で精度良く安価で確実に行う位置決め構造を提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for preventing resonance which suitably avoids resonance of an exposing device, and realizes high image quality and low noise, even when it is unnecessary to design resonance prevention of a casing for each model of image forming devices, and the frequencies of the generated oscillation range almost continuously.例文帳に追加

画像形成装置の機種毎に筐体の共振防止の設計をする必要が無く、発生する振動の振動数が略連続的に連なる場合であっても、好適に露光装置の共振を回避し、高画質及び低騒音を実現することができる共振防止装置及び共振防止方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image exposing device and an image forming apparatus using the same capable of reducing height of these devices in the direction of height when compared with a case where a shutter member does not enter a passing zone for letting a cleaning member pass through it when covering a transparent member provided on an exposure window.例文帳に追加

露光窓に設けられた透明部材を覆う状態となる場合にシャッター部材が、清掃部材を通過するための通過領域に入り込まない場合に比べて、画像露光装置や画像形成装置の高さ方向の大きさを抑えることができる画像露光装置及びこれを用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To prevent occurrence of a false contour in a highlight part due to the variation of a start point of reproducing an image of low area ratio, in an image forming apparatus wherein a latent image is formed by exposing with an area ratio set for every pixel, forming a latent image by electric potential difference and transferring toner to the latent image.例文帳に追加

画素毎に設定された面積率で露光して静電電位の差による潜像を形成し、この潜像にトナーを転移して画像を形成する画像形成装置において、低面積率の画像の再現開始点が変動することによってハイライト部に擬似輪郭が発生するのを簡単な調整によって防止する。 - 特許庁

In a pattern formation method having a process for pattern exposing the whole face of a positive photoresist on a substrate, a positive photoresist 2 is formed on a substrate 1, and pattern exposure is carried out to the whole face of the substrate, and the photoresist at the outer peripheral part of the substrate is insolubilized in developer, and development is carried out.例文帳に追加

基板上のポジ型フォトレジストを全面パターン露光する工程を有するパターン形成方法において、ポジ型フォトレジスト２を基板１上に成膜し、基板全面にパターン露光を行った後、基板外周部におけるフォトレジストを現像液に不溶化させる処理を行い、その後現像を行うパターン形成方法。 - 特許庁

When mounting a MEMS element the area of which is reduced by exposing a movable member on both surfaces of an MEMS body in a flip-chip manner with the usage of a joining means for diffusing an organic compound, a substrate for mounting is joined to the MEMS body, and the MEMS element is formed to be mounted.例文帳に追加

ＭＥＭＳ本体の両面に可動部材が露出するようにして面積を小さくしたＭＥＭＳ素子を接合に伴って有機化合物を放散する接合手段を用いてフリップチップ実装するに際し、ＭＥＭＳ本体に実装用基板を接合してＭＥＭＳ素子を形成して実装する。 - 特許庁

The method for using a thermal-oxidative process for removing a refractory metal cast core from a cast part comprises a step for destructively removing the cast core from the cast part by exposing the cast core in a gas-turbine engine part cast using an investment casting method to oxygen at 700-1000°C.例文帳に追加

鋳造部品から耐火性金属鋳造コアを除去するために、熱−酸化工程を使用する方法に於いて、インベストメント鋳造法で鋳造されたガスタービンエンジン部品の鋳造コアを７００℃から１，０００℃の温度で酸素にさらすことによって、鋳造部品から該鋳造コアを破壊的に除去するステップを含む。 - 特許庁

A surgically implantable and sealable delivery device is provided for controllably diffusing the therapeutic agents selectively in one direction to tissue or an organ by putting the content of the device into contact with the tissue or organ through its interfacial window or opening part for exposing the therapeutic agents to the surface of the tissue or organ.例文帳に追加

外科的に移殖可能かつ封鎖可能な送達装置であって、その界面窓または開口部を介して装置の内容物と臓器または組織とを接触させて、治療薬を臓器または組織表面に暴露し、治療薬を組織または臓器に選択的に一方向に制御拡散し得る装置。 - 特許庁

To provide a method of singulating circuit boards capable of preventing electrical short circuit of the package circuit board without exposing a conductive material from the outer side surfaces of the package circuit when package circuit boards are formed by dicing a circuit board with a core substrate having conductivity, and to provide a package circuit board.例文帳に追加

導電性を有するコア基板を備えた配線基板を個片化してパッケージ用基板を形成する場合に、パッケージ用基板の外側面から導電材を露出させることなく、パッケージ用基板による電気的短絡を防止することができる配線基板の個片化方法およびパッケージ用基板を提供する。 - 特許庁

The method for producing a color filter includes an exposure step of exposing a photosensitive layer formed of a photosensitive composition and located on a substrate surface by illuminating light at an illuminance of at least 500 mW/cm^2 onto the photosensitive layer, so that the cumulative exposure energy attains to 5-300 mJ/cm^2.例文帳に追加

感光性組成物からなり基材の表面に位置する感光層に対して、前記感光層に対し、照度が少なくとも５００ｍＷ／ｃｍ^２で照射し、該感光層に対する積算露光量が５〜３００ｍＪ/ｃｍ^２となるように露光する露光工程を含むカラーフィルタの製造方法である。 - 特許庁

A dispersion solution 4 being as a material of an electrolyte film precursor is obtained by emulsion polymerization, the dispersion solution 4 is coated on a conveyed carrier film 20A made of a perfluoro-resin, and fluorine treatment is applied by exposing to a fluorine gas atmosphere in an airtight space 7 while the carrier film 20B being coated by the dispersion solution 4 is conveyed.例文帳に追加

乳化重合によって電解質膜前駆体の材料となる分散液４を得、搬送されるパーフルオロ系樹脂製のキャリアフィルム２０Ａに分散液４を塗布し、該分散液４が塗布されたキャリアフィルム２０Ｂを搬送しながら、気密空間７の中でフッ素ガス雰囲気に曝すことでフッ素化処理を施すようにする。 - 特許庁

The disclosed photodetection semiconductor device 1 includes: an IC chip 12 having a light-receiving part 21 with a light-receiving surface 21a and an amplifier 22 for amplifying the output signal from the light-receiving part 21; and a sealing part 16, having a opening part 16a exposing the light-receiving surface 21a and sealing the IC chip 12.例文帳に追加

開示される光検出半導体装置１は、受光面２１ａを有する受光部２１と、受光部２１からの出力信号を増幅するアンプ部２２とを含むＩＣチップ１２と、受光面２１ａを露出させる開口部１６ａを有し、ＩＣチップ１２を封止する封止部１６とを備えている。 - 特許庁

A method includes laminating, prior to the formation of a device part, on an alignment marking which was formed on an interlayer film 3, a protective film 8, which is transparent for an alignment light and is not photosensitive with respect to exposing light, and planarization processing the top surface of the protective film 8, so that there is no substantial influence of the ruggedness of the alignment marking 2.例文帳に追加

デバイス部を形成するのに先だって、層間膜３に形成されたアライメントマーク２上に、アライメント光に対して透明でかつ露光用光に対して感光しない保護膜８を積層して、保護膜８の上面を、アライメントマーク２の凹凸の影響が実質的に無くなるように平坦化処理する。 - 特許庁

In the winding drum 1 provided with the winding starting port 4 for exposing the cable to an outer part of a flange part 3 by inserting a winding starting end of the cable to be wound on the flange part 3 of the drum 1 for winding the electric wire cable, the shock-absorbing member 7 for protecting the cable inserted/retained in the winding starting port 4 is provided.例文帳に追加

電線・ケーブル巻取用ドラム１の鍔部３に巻き取るためのケーブルの巻始端を挿通させて上記鍔部３の外側部に露出させるための巻始口４を備えた巻取用ドラム１において、上記巻始口４内に挿通保持されるケーブルを保護するための緩衝部材７を設けたものである。 - 特許庁

The manufacturing method of the display member comprises (A) a process of coating and drying photosensitive paste on a substrate with at least an electrode formed, and then exposing the coated film to light via a photomask, (B) a process of developing the coated film and patterning it, and (C) a process of forming a barrier-rib pattern by baking the pattern-formed coated film.例文帳に追加

少なくとも電極が形成された基板に下記の（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）の各工程を順次行って得られるディスプレイ部材の製造方法であって、該（Ａ）工程をｎ回（ｎは２以上の整数）実施した後に、（Ｂ）、（Ｃ）の工程を実施することを特徴とするディスプレイ部材の製造方法。 - 特許庁

The method includes imagewise exposing the photopolymerizable element to actinic radiation in the presence of atmospheric oxygen; heating the element to a temperature sufficient to cause a portion of a layer to liquefy; and contacting an exterior surface of the photopolymerizable element with a development medium to allow at least a portion of the liquefied layer to be removed by the development medium.例文帳に追加

方法は、光重合可能な要素を、大気酸素の存在下、化学線に像様露光し、層の一部を液化させるのに十分な温度まで要素を加熱し、光重合可能な要素の外側表面を現像媒体と接触させて、液化層の少なくとも一部を現像媒体により除去することを含む。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a field effect transistor which has excellent high-frequency characteristics by suppressing the formation of a surface oxide layer and the occurrence of a metal contamination or the like by exposing the surface of a GaAs layer with the air and keeping the surface of the GaAs layer clean and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ＧａＡｓ層表面が空気に暴露されることによる表面酸化層の形成や金属汚染などの発生を抑制し、ＧａＡｓ層表面を清浄に保つことにより高周波特性に優れた電界効果トランジスタを有する半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

An external media input/output device 9 for reading program codes and image data or the like stored in a storage medium or for writing program codes and image data or the like into the storage medium is provided below the operation panel P, in a state of externally exposing an insertion port for allowing insertion of the storage medium.例文帳に追加

さらに、操作パネルＰの下部には、記憶媒体に記憶されているプログラムコードや画像データ等を読み取ったり、または記憶媒体に対してプログラムコードや画像データ等を書き込む装置である外部メディア入出力装置９が、記憶媒体の挿入を許容する挿入口を外部に露出させて設けられている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of stably exposing highly clean intermediate metal materials 22 on the surface of both outer ring raceways in manufacturing a bearing ring member having a plurality of outer ring raceways on the inner circumferential surface and having an outward flange 6 around one of the outer ring raceways from a columnar base material 12 obtained by extrusion molding.例文帳に追加

内周面に複列の外輪軌道を有し、何れかの外輪軌道の周囲に外向フランジ６を有する軌道輪部材を、押し出し成形により得られる円柱状の原素材１２から造る場合に、前記両外輪軌道の表面に、清浄度の高い中間部金属材料２２を安定して露出させる。 - 特許庁

The threshold (shown by a dashed line) which triggers performance of the density control processing is set on each of two parameters, namely, a dot count value (an integrated value of the number of dots formed using an exposing beam) which is indicative of the amount of consumption of the toner and a developing roller rotating time which is indicative of the degree of toner fatigue.例文帳に追加

トナー消費量を表す指標となるドットカウント値（露光ビームにより形成したドット数の積算値）およびトナーの疲労度を表す指標となる現像ローラ回転時間の２つのパラメータそれぞれについて、濃度制御処理実行のきっかけとなるしきい値（破線で示す）を設定している。 - 特許庁

The immersion lithography method includes: a step of forming a resist on a substrate; a step of exposing the resist in a fluid in an immersion lithography system; a step of baking the resist so that the amount of the fluid that diffuses the quencher in the resist in immersion lithography is confined to 5×10^-13 mol/cm^2; and a step of developing the exposed resist.例文帳に追加

液浸リソグラフィ方法は、基板上にレジストを形成する工程と、液浸リソグラフィシステムの流体内でレジストを露光する工程と、レジストをベーキングし、レジスト内にあるクエンチャーを液浸リソグラフィに拡散させる流体量を５×１０−１３モル／ｃｍ２にする工程と、露光後のレジストを現像する工程とを含む。 - 特許庁

To improve a commodity value by fully exposing a glass surface and to prevent a glass plate 3 from being scratched by equipped members such as a trivet placed on the glass plate 3 in a glass top for cooking stoves where a cooking stove opening 7 facing a heating source is provided on the glass plate 3 that becomes the main body of the top.例文帳に追加

コンロ用ガラス天板であって、天板主体となるガラス板３に加熱源を臨ませるコンロ開口７を開設するものにおいて、ガラス面を充分に露出させて商品価値を高め、且つ、ガラス板３上に載置する五徳等の備品部材によるガラス板３の傷付きも防止できるようにする。 - 特許庁

The film deposition method includes a heating step of heating a substrate at the predetermined temperature of substantially 200°C, and a reaction step of performing the film deposition by exposing the surface of the substrate to the alternate surface reaction of a reactive object such as TMA in vacuum while maintaining the surface of the substrate at the predetermined temperature, and growing a thin film on the substrate.例文帳に追加

成膜方法では、基板を所定の温度である略２００℃に加熱する加熱工程と、基板の表面を当該所定の温度に維持しながら真空中でＴＭＡ等の反応物の交互表面反応に曝して基板上に薄膜を成長させて成膜する反応工程とを行う。 - 特許庁

To prevent the electrical shortings of a film containing a magnetic material, in the plasma processing of the film containing the magnetic material after the etching thereof, by exposing the film containing the magnetic material into a plasma atmosphere of a gas mixture containing hydrogen or into a plasma atmosphere of a gas mixture containing at least one kind of gas containing hydrogen.例文帳に追加

磁性体材料を含む膜のエッチング後のプラズマ処理を、水素を含む混合ガスのプラズマ雰囲気中もしくは水素を含む少なくとも一種類のガスを含む混合ガスのプラズマ雰囲気中に磁性体材料を含む膜をさらすことで、磁性体材料を含む膜の電気的ショートを防止することを可能とする。 - 特許庁

This method comprises a step for performing a surface reforming process to expose the underlayer film surface including the basic substance to the plasma of gas including carbon gas, a step for coating the chemically amplified resist film of the underlayer film, and a step for patterning the chemically amplified resist through the exposing and development processes thereof.例文帳に追加

塩基性物質を含む下地膜表面をカーボンガスを含むガスによるプラズマを晒す表面改質処理を行う工程と下地膜上に化学増幅型レジスト膜を塗布する工程と化学増幅型レジストに露光および現像処理を行って化学増幅型レジストをパターニングする工程とを備えるようにしたものである。 - 特許庁

The solid oxide fuel cell has structure arranging a fuel electrode 3 on one side and an air electrode 4 on the other side via an electrolyte 2, and a current collector 5 is formed by printing, while leaving an exposure region exposing the fuel electrode 3 and the air electrode 4 on at least one electrode of the fuel electrode 3 and the air electrode 4.例文帳に追加

電解質２を介して、一方面に燃料極３、他方面に空気極４を配置した構造を持つ電池構造を有し、燃料極３上及び空気極４上の少なくとも一方に、各々の燃料極３及び空気極４が露出する露出領域を残しつつ集電体５を印刷形成した。 - 特許庁

This polyamide fiber having a photocatalyst function and containing titanium dioxide having a photocatalyst function in an amount of 0.3 to 3 wt.% is characterized by containing sodium pyrophosphate in an amount of 0.005 to 0.1 wt.%, coating the titanium dioxide with silica, and exposing the coated titanium dioxide to the surface of the fiber.例文帳に追加

光触媒機能を有する酸化チタンを０．３〜３重量％含有するポリアミド繊維であって、ピロリン酸ナトリウム化合物を０．００５〜０．１重量％含有するとともに、酸化チタンがシリカで被覆されており、かつ繊維表面に露出していることを特徴とする光触媒機能を有するポリアミド繊維。 - 特許庁

In the case where a heat conductive grease stays between a semiconductor module 1 exposing a radiation flat plane 11 and a heat receiving flat plane of a heat sink 3 closely adhered to the radiation flat plane 11, a grease extrusion groove 12 is radially provided in the radiation flat plane 11 (or the heat receiving flat plane of the heat sink 3) of the semiconductor module 1.例文帳に追加

放熱平面１１が露出する半導体モジュール１と、放熱平面１１に密着するヒートシンク３の受熱平面との間に熱伝導性グリスを介在させる場合において、半導体モジュール１の放熱平面１１（又はヒートシンク３の受熱平面）に放射状にグリス押し出し溝１２を設ける。 - 特許庁

After a side wall protection film 22 is formed with a film having more difficulty in water penetration than the Low-k film, a side surface of the semiconductor device is protected with the side wall protection film 22 by exposing a metal pad 20 by etching back the side wall protection film 22, leaving this side wall protection film 22 formed at the side surface of the semiconductor device.例文帳に追加

そして、上記Ｌow‐ｋ膜よりも水分の浸透し難い膜で全体に側壁保護膜２２を成膜した後、側壁保護膜２２をエッチバックして金属パッド２０を露出させると共に、半導体装置側面に成膜された側壁保護膜２２を残して、半導体装置側面を側壁保護膜２２で保護する。 - 特許庁

By exposing a mark formed on the mask to the photosensitive material and positioning the substrate to the measuring position of a measuring system, based on prescribed information, and then measuring the latent image of the transferred mark, the positioning error of the positioned substrate is found and the prescribed information is corrected, based on the positioning error prior to measurement.例文帳に追加

感光剤上に、マスクに形成されたマークを露光し、所定の情報に基づいて基板を計測系の計測位置に位置決めし、露光されたマークの潜像を計測することにより、計測前に位置決めされた基板の位置決め誤差を求め、位置決め誤差に基づき前記所定の情報を補正する。 - 特許庁