「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(107ページ目) - Weblio英語例文検索

This camera possesses a barrier 11 freely opened and closed at the front face of a photographing lens 14 and a mirror holder 12 that is located at a housing position on the back side of the barrier 11 when the barrier 11 is in a closed state and is freely movable from the housing position to an exposing position when the barrier 11 is in an opened state.例文帳に追加

本発明のカメラは、撮影レンズ１４の前面で開閉自在なバリア１１と、上記バリア１１が閉状態にあるときには上記バリア１１の裏側の収納位置に存在し、上記バリア１１が開状態にあるときには上記収納位置から露呈位置へと移動自在な鏡ホルダ１２とを有する。 - 特許庁

The lock mechanism 40 is composed by providing a driving transmission shaft 42 drawing out and exposing a driving output system of a torque motor 15 to the outside of a frame 12, and a lock fitting 45 detachably attached to the driving transmission shaft 42 and abutting on the frame 12 or an inner wall of the vent 5 to prevent driving of the torque motor 15.例文帳に追加

ロック機構４０を、トルクモータ１５の駆動出力系を枠体１２の外側に引き出し露出させた駆動伝達軸４２と、この駆動伝達軸４２に嵌脱自在に装着されるとともに枠体１２または換気口５の内壁に当接してトルクモータ１５の駆動を阻止するロック金具４５とを備えて構成した。 - 特許庁

The front end surface of the connector housing 10 is provided with a retainer mounting hole 17 for mounting the retainer 40, and the moving plate 30 has window holes 36 for exposing at least a part of the retainer 40 forward, so that an pressing operation or the like can be performed from the front side of the moving plate 30 to the retainer 40.例文帳に追加

コネクタハウジング１０の前端面にはリテーナ４０を組み付けるためのリテーナ取付孔１７が形成され、ムービングプレート３０には、リテーナ４０の少なくとも一部を前方へ露出させる窓孔３６が形成されているので、ムービングプレート３０の前方からリテーナ４０に対して押し込み操作等を行うことができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device wherein a heat dissipator is arranged on the upper and lower surfaces of a resin sealed body by mounting a semiconductor element, wherein an external lead is electrically connected with a conductor member to an electrode plate, and exposing a part of the electrode plate and a part of the conductor member over the outside of the resin sealed body.例文帳に追加

外部リードと導電体部材を電気的に接続された半導体素子を電極板に搭載し、電極板の一部及び導電体部材の一部を樹脂封止体の外部に露出させることによって放熱部を樹脂封止体の上下両面に設置した半導体装置を提供する。 - 特許庁

The wiring board 8 has wiring 92 for a substrate-side individual electrode and a terminal 92a for the substrate-side individual electrode, formed on a lower surface of an insulating substrate 81, and further a coating film 82 having a removal portion 82a for exposing the terminal 92a for the substrate-side individual electrode, formed on lower surfaces of the terminal 92a.例文帳に追加

配線基板８は、絶縁性を有する基板８１の下面に基板側個別電極用配線９２および基板側個別電極用端子９２ａが形成され、さらに、その下面には基板側個別電極用端子９２ａを露出する除去部８２ａを備えた被覆膜８２が形成されている。 - 特許庁

In a semiconductor thin film forming method comprising a light irradiating process, a first process of projecting the image of a pattern formed on an optical mask onto the semiconductor thin film for exposing the thin film so as to modify the prescribed region of the semiconductor thin film and a second process of continuously forming insulating films on the semiconductor thin film are provided.例文帳に追加

光の照射工程を有する半導体薄膜の形成方法において、光が光マスク上に形成したパターンを半導体薄膜上に投影露光して、半導体薄膜上の所定の領域を改質する工程と、上記半導体薄膜上に絶縁膜を連続的に形成する工程とを含ませる。 - 特許庁

The method of manufacturing the electronic apparatus in which a resist pattern 24 is provided on a first transistor 1 comprising a thin film transistor Tr, includes the steps: of applying and forming a resist film 22 on the first substrate while covering the thin film transistor Tr; and of forming the resist pattern 24 by performing exposing and developing processing upon the resist film 22.例文帳に追加

薄膜トランジスタＴｒが設けられた第１基板１上にレジストパターン２４が設けられた電子機器の製造方法であり、薄膜トランジスタＴｒを覆う状態で第１基板上にレジスト膜２２を塗布成膜し、このレジスト膜２２に対して露光および現像処理を行うことによりレジストパターン２４を形成する。 - 特許庁

The method for forming the micropatterns comprises a step of providing a substrate, a step of forming a first microfluidic layer of a photoresist material on the substrate, a step of providing a first photomask, and a step of forming the micropatterns, by exposing the first microfluidic layer by the first photomask for irradiation.例文帳に追加

本発明によるマイクロパターンの形成方法は、基板を提供する工程と、フォトレジスト材料の第一微小流体層を、基板上に形成する工程と、第一フォトマスクを提供する工程と、第一フォトマスクにより、第一微小流体層を露出して照射し、マイクロパターンを形成する工程と、からなる。 - 特許庁

In the resist pattern forming method for forming a resist film on a support body and selectively exposing the resist film a plurality of times through a photomask, the width of an exposure portion of the resist film in each selective exposure is larger than the width of a light transmitting portion of the photomask.例文帳に追加

本発明は、支持体上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜に対しフォトマスクを介して選択的露光を複数回行うレジストパターン形成方法であって、前記選択的露光毎のレジスト膜の露光部幅は、前記フォトマスクの透光部幅よりも大きいことを特徴とするレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

To provide an outermost layer tape winding wire having different material features exposing two different materials of a coating material and a tape material on a wire surface, and both properties of adhering fluorine resins of a fusion layer to each other and adhering the resin to other resins or fixed objects.例文帳に追加

電線表面に被覆材、テープ材の２種類の異なった材質を露出させ、異なる材料の特徴を兼ね備えた最外層テープ巻き電線、また融着層のフッ素樹脂同士の接着が可能あり、かつ他樹脂や固定物との接着も可能にするという両特性を兼ね備えた最外層テープ巻き電線を提供する。 - 特許庁

A slit part 3a having a width slightly narrower than the wire diameter of the lead wire 2 without a solder 3b attached is formed on the central line of the land 3 on the printed wiring board P provided with the land 3 with the solder 3b attached in order to solder by hand the exposing-end part 2a of the lead wire 2 of the parallel jumper 1.例文帳に追加

平行ジャンパ１のリード線２の露出端部２ａを手作業でハンダ付けするために、ハンダ３ｂの付着したランド３を設けたプリント配線基板Ｐにおいて、ランド３の中心線上に、リード線２の線径よりも少し幅が狭いハンダ３ｂの付着してないスリット部３ａを形成する。 - 特許庁

The drill machine 14 forms a via hole according to the via hole information 26 and the exposure device 18 compares the formed via hole with the via hole information 26 to compute the position shift quantity of the via hole and processes the pattern information 28 according to the position shift quantity to correct the pattern information, thereby exposing the substrate to the pattern.例文帳に追加

ドリルマシン１４はビアホール情報２６に基づいてビアホールを形成し、露光装置１８は、形成されたビアホールとビアホール情報２６とを比較してビアホールの位置ずれ量を演算し、この位置ずれ量に基づいてパターン情報２８を演算処理することにより、パターン情報を補正し、基板上に露光する。 - 特許庁

A gene transfer method includes a process of exposing cells 14, immersed and cultured in a culture solution 62, to the atmosphere; adhering genes which are to be transferred, to the cells exposed to the atmosphere; and making the cells in the culture solution 62 immerse again after the lapse of a prescribed time, after the genes are made to adhere to the cells.例文帳に追加

培養液６２中に浸漬されて培養される細胞１４を大気にさらし、該大気にさらされた細胞に、当該細胞に導入される遺伝子を付着させ、その細胞に遺伝子を付着させたときから所定時間経過した後で、当該細胞を再び培養液６２に浸漬させる。 - 特許庁

[2] The method for forming a resist pattern includes a step for obtaining a resist film by applying the negative type photosensitive composition defined by [1] on a base material, a step for pattern-exposing the obtained resist film, and a step for forming a resist pattern by developing the resist film after the pattern-exposure and by dissolving and removing the unexposed resist film.例文帳に追加

［２］［１］記載のネガ型感光性組成物を基材上に塗布してレジスト膜を得る工程と、得られたレジスト膜をパターン露光する工程と、パターン露光後のレジスト膜を現像して未露光部のレジスト膜を溶解除去してレジストパターンを形成する工程とを有することを特徴とするレジストパターンの形成方法。 - 特許庁

This switch threadably attaches a rod fixing plate 9 and a rod holding plate 10 pinching a rod 7 so as to have the rod fixing plate 9 positioned at the base end part of a screw 11 protruding from the tip surface of a rotation shaft 5 exposing from a switch body 3 using the screw 11 and a nut 12 threadably attached to the screw 11.例文帳に追加

スイッチは、スイッチ本体３から露出する回動軸５の先端面から突出するねじ１１とねじ１１に螺合するナット１２とを用いて、ロッド７を挟持したロッド固定板９とロッド保持板１０とを、ロッド固定板９がねじ１１の基端部に位置するように螺着する。 - 特許庁

This device for exposing a both-side printing circuit card with light by passing the card through an art work is provided with a fixed first art work support part 10, movable second art work support part 14, vertically moving means 26 and 28 for moving the second support part, and a mechanically connecting means between the moving means and the second support part.例文帳に追加

本発明は、両面印刷回路カードをアートワークを通して光に曝すための装置で、固定された第１アートワーク支持部（１０）と、移動可能な第２アートワーク支持部（１４）と、第２支持部を移動するための鉛直移動手段（２６、２８）と、移動手段と第２支持部との間の機械的接続手段と、を備える。 - 特許庁

The display device has a display panel 2 which displays an image, the middle frame 8 on which the display panel 2 is mounted, and a front frame 9 which has an opening portion for exposing a display surface 2a of the display panel 2 on its top surface and also has an engagement portion 9d bent inwardly to engage the middle frame 8 on a flank 9a.例文帳に追加

画像を表示する表示パネル２と、表示パネル２が載置されたミドルフレーム８と、上面９ｅには表示パネル２の表示面２ａを露出させる開口部が設けられ、側面９ａには内側へ折れ曲り、ミドルフレーム８と嵌合する嵌合部９ｄを有するフロントフレーム９とを備える。 - 特許庁

To perform focused exposure processing in which the moving speed precision of a surface plate is improved at low cost by removing a sucking function for holding the printing plate at the surface plate and a printing plate is surely brought into close contact with the surface plate, that is, the image forming point of exposing light is kept on the surface of a printing plate.例文帳に追加

印刷版を定盤へ保持するための吸引機能を取り払うことで、安価に定盤の移動速度精度を向上し、かつ確実に印刷版を定盤へ密着させた状態、すなわち露光光の結像点を印刷版表面に維持することで、ピントの合った露光処理を行う。 - 特許庁

Thereafter, the variation of the light exposure and focal point of an exposure apparatus and the changing direction of the focal point between the step of preparing the data and the step of exposing the lot in the step are estimated (SA5), and the light exposure and the focal point of the exposure apparatus for a next lot are adjusted appropriately based on the estimated variation and direction (SA6).例文帳に追加

そして、前述のデータを作成する工程とそのロットの露光工程との間の、露光装置の露光量の変化量、焦点位置の変化量、および、焦点位置の変化方向を推定する（ＳＡ５）ことにより、次のロットの露光装置の露光量および焦点位置を適切に調整する（ＳＡ６）。 - 特許庁

When a transfer starting point T is set in the setting section H 2 according to the target accuracy of the pattern to be formed, the exposure can be performed efficiently, in such a way that the exposing area on the substrate P can be expanded, and so on, in the case where the mask M and substrate P are moved by prescribe number of strokes.例文帳に追加

このとき、形成するパターンの目標精度に応じて、転写開始点Ｔを整定区間Ｈ２に設定することにより、マスクＭ及び基板Ｐが所定のストロークで移動する場合、基板Ｐ上における露光領域を拡大することができるなど、露光処理を効率良く行うことができる。 - 特許庁

To provide a method for simply and easily manufacturing an insert decorative molded article excellent in aesthetic feeling without exposing a backer layer to the surface of the insert decorative molded product by the trimming of a flange-like part being the unnecessary part of a decorative sheet having a protruded part and the flange-like part continued to the protruded part formed thereto by vacuum forming.例文帳に追加

真空成形により凸部と該凸部に続く鍔状部とを形成した加飾シートの不要部分である鍔状部のトリミングによってインサート加飾成形品の表面にバッカー層を露出させることがなく、美感に優れるインサート加飾成形品を簡便に製造する方法を提供する。 - 特許庁

A process of manufacturing heat absorbing substrate wherein a large number of holes can be produced employing gas phase etching medium in equal proportion of O2, Ar and CCl2F2, and exposing the medium to the substrate, the substrate is placed near the sputterable component, and …effect sputtering, and complete etching are conducted. 例文帳に追加

多数の空孔を生成するように、ガス状エッチング媒体として等比率のO2、Ar、及びCCl2F2を使用し、該ガス状エッチング媒体に基板をさらすことからなる基板の製造方法において、基板をスパッタ可能な組成の近くに置きスパッタをさせ、エッチングすることを特徴とする熱吸収基板の製造方法。 - 特許庁

The color filter is manufactured by forming a positive photoresist pattern 8 in the desired region on a substrate 1 comprising a coloring part 4 formed on a transparent substrate 2, forming a through hole 10 by exposing the pattern and forming the spacer 13 by filing a curable resin composition 12 in the through hole 10 from an inkjet head 11 and curing it.例文帳に追加

透明基板２上に着色部４を形成した基材１上の所望の領域に、ポジ型フォトレジストパターン８を形成し、パターン露光してスルーホール１０を形成し、該スルーホール１０にインクジェットヘッド１１より硬化型樹脂組成物１２を充填して硬化させ、スペーサー１３を形成する。 - 特許庁

The exposing device comprises a projection optical system 3 projecting the pattern of a mask 2 to a substrate 5, and a liquid feeder 6 feeding liquid to between the projection optical system 3 and the substrate 5, and the liquid feeder 6 has an injector 19 for injecting a carbon dioxide to the liquid.例文帳に追加

マスク２のパターンを基板５に投影する投影光学系３と前記投影光学系３と前記基板５との間に液体を供給する液体供給装置６とを備え、前記液体供給装置６は前記液体に二酸化炭素を注入する注入装置１９を有することを特徴とする構成とした。 - 特許庁

In the method of manufacturing the laminated wafer by laminating a wafer for active layer to wafer for support layer and then thinning the wafer for active layer, a terrace grinding for forming a terrace portion is carried out prior to a step of exposing the oxygen ion implanted layer while leaving an oxide film on a terrace portion of the wafer for support layer.例文帳に追加

活性層用ウェーハと支持層用ウェーハを貼り合わせたのち、活性層用ウェーハを薄膜化することからなる貼り合わせウェーハの製造方法において、 酸素イオン注入層を露出させる工程に先立ち、テラスを形成するためのテラス研磨を行い、その際、支持層用ウェーハ上テラス部の酸化膜を残存させる。 - 特許庁

In addition, an elastic means 80 is arranged between the fixed plate sets 60, and a temperature sensing means 70 which senses the atmospheric-temperature by exposing one end thereof outside the working chamber 40, and adjusts the interval between the fixed plate set 60 and the rotary plate set 50 according to the atmospheric temperature is provided.例文帳に追加

さらに、本発明の特徴として、固定プレート組６０間には、各々弾性手段８０が配設されており、作動室４０の外部にその一端が露出することによって気温を感知し、その気温に応じて固定プレート組６０と回転プレート組５０との間隔を調節する温度感知手段７０を備えている。 - 特許庁

The color image forming device having a plurality of image forming sections provided with respective devices for electrostatic charging, exposing, developing, transferring and cleaning around the electrophotographic photoreceptor is constituted by arranging a polishable member 52 contained or adhered with polishable particulates at the cleaning device 5.例文帳に追加

電子写真感光体の周囲に帯電、露光、現像、転写及びクリーニングの各装置を備えた画像形成部を複数有するカラー画像形成装置において、該クリーニング装置５に、研磨性微粒子を含有又は付着させてなる研磨性部材５２を配置したことを特徴とするカラー画像形成装置。 - 特許庁

The method for treating the substrate before exposing the substrate to which a resist is applied includes a process of baking the substrate to which the resist is applied, and a process of holding the baked substrate in an atmosphere which substantially includes no moisture until conveying the substrate to the exposure apparatus.例文帳に追加

レジスト塗布された基板を露光する前の基板処理方法において、レジスト塗布された前記基板をベークする工程と、ベーク後の前記基板を、露光装置に搬送するまで、実質的に水分を含有しない雰囲気中に保持する工程と、を備えたことを特徴とする基板処理方法が提供される。 - 特許庁

To provide fixing structure of an interior trim capable of fixing an interior trim without using a locking tool such as a clip, and easily controlling a clearance between the interior trim and a door opening weather strip without exposing the fixing part of the interior trim to the designing surface side of a vehicle.例文帳に追加

内装トリムの固定をクリップなどの係止具を用いることなく行うことができ、内装トリムの固定部が車両の意匠面の側に露呈することがなく、しかも内装トリムとドアオープニングウエザストリップとの間の隙間を容易に管理することができるような内装トリムの固定構造を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor sensor provided with a cover plate, which does not require detailed positioning of the cover wafer upon exposing an electrode pad by processing the cover wafer after mounting the cover wafer in a wafer state, and preventing damage to a wiring pattern and the electrode pad and occurrence of residues of the cover wafer.例文帳に追加

カバー板を備えた半導体センサの製造方法において、ウェハ状態でカバーウェハを搭載した後にカバーウェハを加工して電極パッドを露出させる際にカバーウェハの詳細な位置合わせを必要とせず、かつ、配線パターン及び電極パッドの損傷及びカバーウェハの残渣物の発生を防止する。 - 特許庁

The pattern forming method includes exposing and developing a photosensitive resist material 13B to form a patterned layer 15, wherein before a step of applying the photosensitive resist material 13B on a substrate 11, an underlayer 13A comprising the same or another photosensitive resist material is formed on the substrate.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、感光性レジスト材料１３Ｂを露光、現像してパターン層１５を形成する方法において、基板１１の上に感光性レジスト材料１３Ｂを塗布する工程の前に、基板の上に同一又は他の感光性レジスト材料からなる下地層１３Ａを形成する。 - 特許庁

At the time of the general laser operation such as a semiconductor exposing treatment, the spectral line width W, spectral purity E95 or contrast loss LC corresponding to the spectral line width in the line width threshold Thresu of the spectral waveform f(λ) measured by the etalon spectrometer 32 is determined by use of this spectral line width and the predetermined correlation.例文帳に追加

そして、半導体露光処理等のような通常のレーザ運転時に、エタロン分光器３２で計測されるスペクトル波形ｆ（λ）の線幅閾値Thresuにおけるスペクトル線幅Ｗと、予め求めた相関とを用いて、スペクトル線幅Ｗに対応するスペクトル線幅Ｗやスペクトル純度Ｅ９５やコントラストロスＣＬが求められる。 - 特許庁

Accordingly, the exposure preventive films 122 in minute film coupling structure are formed between the sidewall insulating films 120 and the insulator buried in films 130 so that any exposing trenches of the surface of the semiconductor substrate 100 may not be formed between the active region wherein the gate electrodes 162 are formed and the trench element isolating region.例文帳に追加

従って、膜の結合構造が緻密な露出防止膜１２２を側壁絶縁膜１２０と絶縁物埋込層１３０との間に形成することにより、ゲート電極１６２が形成される活性領域とトレンチ素子分離領域との間に半導体基板１００の表面を露出する溝が形成されないようにする。 - 特許庁

To obtain a resin-encapsulated semiconductor device which is mounted by exposing the rear surface of each island and lead, as in a QFN type, and soldering the rear surface directly, in which the quality is enhanced by eliminating removal or breakage of a wire bonded to the island.例文帳に追加

ＱＦＮタイプのように、アイランドおよび各リードの裏面を露出させて、直接その裏面をハンダ付けなどにより実装するタイプの樹脂封止型半導体装置において、アイランドにボンディングされたワイヤが外れたり、切断することのない、安定した品質の樹脂封止型半導体装置を提供する。 - 特許庁

A TFT-arrayed substrate 10 of a reflective or transreflective electro-optical device 100 is manufactured by applying a photosensitive resin 13, then by exposing the resin 13 from the front face side of the TFT-arrayed substrate in the state where the rear side face side of the TFT-arrayed substrate 10 is held by a vacuum chuck 500.例文帳に追加

反射型あるいは半透過・半反射型の電気光学装置１００のＴＦＴアレイ基板１０を製造する際、感光性樹脂１３を塗布した後、ＴＦＴアレイ基板１０の裏面側を吸着チャック５００で保持した状態でＴＦＴアレイ基板の表面側から感光性樹脂１３に対する露光を行う。 - 特許庁

In this case, 'a plurality of the VCSELs whose positions of light scanning direction are nearly identical' means that, when the all VCSELs are turned on, the total exposing energy profile on the light sensor in the light scanning direction and the energy level equivalent to the detection threshold when a SOS signal is generated cross at only two points.例文帳に追加

ここで、上記「光走査方向位置が略等しい複数のＶＣＳＥＬ」は、当該ＶＣＳＥＬを全て点灯した場合に、光走査方向に対する光センサ上での合計露光エネルギープロファイルと、ＳＯＳ信号生成の際の検知しきい値に相当するエネルギーレベルとが２点のみで交差するものである。 - 特許庁

A manufacturing process of a molding die 10 for molding an optical element includes: forming an inorganic oxide layer 81 on molding surfaces 101C, 102C; exposing the surface of the inorganic oxide layer 81 to oxygen plasma; and forming the a layer 82 of a fluorine-containing compound which contains a silane coupling agent on the surface of the inorganic oxide layer 81.例文帳に追加

光学素子を成形するための成形型１０の製造方法は、成形面１０１Ｃ，１０２Ｃに無機酸化物層８１を形成し、当該無機酸化物層８１の表面を酸素プラズマ中に曝した後、この無機酸化物層８１の表面に、シランカップリング剤を含有するフッ素含有化合物層８２を形成する。 - 特許庁

To provide a monomer polymer and an organic composition containing the same for forming an organic anti-reflection film which absorbs a light-exposing origin between a layer to be etched and a photoresist film in order to prevent a pattern disintegration under the influence of a standing wave generated at the lower part of a photoresist film at the time of a photolithographic processing.例文帳に追加

本発明は、フォトリソグラフィ工程時にフォトレジスト膜の下部で発生した定在波の影響によるパターンの崩壊を防止するために、被エッチング層とフォトレジスト膜との間で露光源を吸収する有機反射防止膜形成用単量体、重合体及びこれを含む有機組成物が開示される。 - 特許庁

The manufacture of the durable ink jet image employing a fusible and wettable toner containing both of a coloring agent as well as a hydrophilic polymer and an ink jet transparent fluid is constituted of (a) printing the transparent fluid on a substrate through ink jet printing and (b) exposing the substrate made by (a) to a toner including the coloring agent and the hydrophilic polymer.例文帳に追加

着色剤と親水性ポリマーの両方を含む、可融湿潤性トナーとインクジェット透明流体とを用いて、永続性インクジェット画像を作ることに関し、(a) 透明流体を基体上にインクジェット印刷し、及び(b) 前記(a)による基体を、着色剤と親水性ポリマーを含むトナーに曝すことからなる。 - 特許庁

A copper foil 1 with a photosensitive insulation resin is laminated on a semiconductor wafer 10, the copper foil 1 is etched by a metal resist 12 to form a circuit 13, and after the formed circuit is buried in the photosensitive insulation resin 2, wire bond opening parts are collectively formed by mask- exposing, developing and curing the photosensitive insulation resin 2.例文帳に追加

半導体ウエハー１０に感光性絶縁樹脂付き銅箔１を積層し、金属レジスト１２により銅箔１をエッチングして回路１３を形成し、形成した回路を感光性絶縁樹脂２に埋没させた後、感光性絶縁樹脂２をマスク露光、現像、硬化することにより、ワイヤボンド用開口部を一括形成する。 - 特許庁

In this processing method for the lithographic printing plate original plate, after exposing the lithographic printing plate original plate having an image record which can be removed with a printing ink, dampening water or both of them along the image, the lithographic printing plate original plate is treated with a solution containing a basic pigment and an anion surfactant.例文帳に追加

印刷インキ、湿し水またはこれらの両方により除去可能な画像記録を有する平版印刷版原版を、画像様に露光した後、塩基性色素及びアニオン界面活性剤を含む水溶液で処理することを特徴とする平版印刷版原版の処理方法及び処理液。 - 特許庁

To provide a temperature measuring instrument using a thermistor of higher reliability than ever by making the most of high measurement sensitivity of the thermistor and correcting a difference between measured temperature and actual temperature, with the difference caused by a change over time in the resistivity of the thermistor, and a gas feeder and an exposing device using the same,.例文帳に追加

サーミスタの高い測定感度を生かし、かつサーミスタの抵抗率の経時変化により生じる測定温度と実際の温度とのずれを補正し、従来に比較して信頼性の高いサーミスタを用いた温度測定装置、及びそれを用いた気体供給装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

The test tape unit for especially testing blood sugar is equipped with an analyzing test tape 12, a storage coil 14 for washing an unused test tape 12, a winding coil 18 for winding the used test tape 12 and a tape guide part 16 for exposing the test tape part 20 at a measuring region 22 for coating body fluids.例文帳に追加

分析用の試験テープ１２と、未使用の試験テープ１２の洗浄用の貯蔵コイル１４ならびに使用した試験テープ１２の巻付用の巻付コイル１８と、体液の塗布用の測定部位２２での試験テープ部分２０の曝露用のテープガイド部１６とを備える特に血糖試験用の試験テープユニットに関する。 - 特許庁

This method comprises steps of: depositing a copper-containing metallic thin film on a base material; selectively exposing the metallic thin film; and applying etching to the exposed part or the unexposed part by the use of the etching agent to which the additive for prevention of secular change is added to form the desired pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に銅を含む金属薄膜を形成する工程と、その金属薄膜を選択的に露光する工程と、露光された部位又は露光されない部位を経時変化防止用添加剤が添加されたエッチング剤でエッチングして所望のパターンを形成する工程とからなることを特徴とする。 - 特許庁

The method comprises the steps of exposing a volume of process fluid to acoustic energy at a specified power level; measuring the photon output from the fluid over a period of time; and when the photon output deviates from a desired level, initiating a remedial step to bring the photon output back to approximately the desired level.例文帳に追加

方法は、ある一定量の処理流体を特定出力レベルの音響エネルギーに曝露することと、一定期間にわたり流体からの光子出力を測定することと、光子出力が所望レベルから逸脱すると、光子出力を略所望レベルに戻す修正ステップを開始することとの各ステップを備える。 - 特許庁