「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(109ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an interior finish lining component having a decorative member which improves marketability of a product without exposing a groove irrespective of a thickness of assuring a strength of a fitting bar while a mold having the fitting bar remained as it is and to provide a method and an apparatus for integrally molding the same.例文帳に追加

本発明の目的は、木目込みバーを備えた型はそのままにして、木目込みバーの強度を確保した太さとしているにも拘わらず、溝を露見させないで製品の商品性の向上を図った加飾部材を備えた自動車用内装ライニング部品及びそれを一体成形する方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

In the front face 11h of a chip tank 11, an opening 11g for exposing a nozzle end face 3 formed by bonding an element substrate 1 and a grooved top plate 5 is made along with a seal groove 11b surrounding the opening 11g and having such dimensions as can feed a filler by capillarity.例文帳に追加

チップタンク１１の前面１１ｈには、素子基板１と溝付き天板５とを接合することで形成されたノズル端面３が露出する開口１１ｇと、開口１１ｇを取り囲むように形成された、充填剤が毛管力により流れることができる寸法の封止溝１１ｂとが形成されている。 - 特許庁

In a projection exposure device for illuminating a reticle R with exposure lights, and for exposing a wafer W through the reticle R and a projection optical system PL with the exposure lights, liquid 7 through which the exposure lights are transmitted is supplied between the projection optical system PL and the wafer W by using a supply device 5 and a collecting device 6.例文帳に追加

露光光でレチクルＲを照明し、その露光光でレチクルＲ及び投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光する投影露光装置において、供給装置５及び回収装置６を用いて、投影光学系ＰＬとウエハＷとの間にその露光光を透過する液体７を供給する。 - 特許庁

To provide a connection adapter of watt hour meter which is capable of surely replacing the watt hour meter with a transformer while continuing supply of commercial electric power without exposing a charging part, and also capable of measuring power consumption during replacement of the watt hour meter.例文帳に追加

商用電力の供給を継続しつつ充電部を露出させることなく、変成器付きの電力量計を含む電力量計の交換作業を確実に行い得る、また、電力量計の交換作業中の電力消費についても積算計測できる、電力量計の接続アダプタを提供すること。 - 特許庁

An airflow guiding cover 50 for guiding cooling air fed to a cylinder part 30b is provided in a vicinity of the cylinder part 30b in an air-cooling type engine 30, and the airflow guiding cover 50 is positionally changed to the cooling air guiding position and the maintenance position for exposing the cylinder part 30b.例文帳に追加

空冷式のエンジン３０におけるシリンダ部３０ｂの近傍に、シリンダ部３０ｂに供給された冷却風を案内する導風カバー５０を設けるとともに、この導風カバー５０を、冷却風案内作用位置と、シリンダ部３０ｂを露出させるメンテナンス位置とに位置変更可能に構成してある。 - 特許庁

This exposure apparatus 100 for exposing a plate 600 to light by a set exposure pattern includes: a plurality of semiconductor light sources 201 arranged two-dimensionally; and a light source control part 700 which controls turning-on/off of each of the plurality of light sources 201 by referring to illumination mode table data 703 according to the exposure pattern.例文帳に追加

設定された露光パターンでプレート６００を露光するための露光装置１００は、二次元に配置された複数の半導体光源２０１と、複数の半導体光源２０１の各々の点消灯を露光パターンに応じた照明モードテーブルデータ７０３を参照して制御する光源コントロール部７００と、を備える。 - 特許庁

To provide a formatter drive clock generating method of a formatter apparatus generating and outputting exposure pit information by which stable pit or track groove shape forming can be performed in a CLV drive state, a formatter drive command pulse column generating method, an original optical disk exposing apparatus, and an optical recording medium.例文帳に追加

本発明は、ターンテーブル移動型又は光学系移動型の光ビームあるいは電子ビームを用いた光ディスク原盤露光装置においてＣＡＶフォーマット情報を露光する際に、露光光量一定のまま、すなわちＣＬＶ駆動状態で、安定したピットあるいはトラック溝形状形成を可能とする。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor wafers comprises processes for: polishing a sliced wafer; forming an oxide film on the polished wafer; an oxide film selective polishing for removing only the oxide film formed on the surface and exposing the surface of the wafer; and polishing the exposed surface of the wafer.例文帳に追加

本半導体ウェーハの製造方法は、スライス後のウェーハを研削する工程と、研削されたウェーハに酸化膜を形成する工程と、前記表面に形成された酸化膜のみを除去しウェーハ表面を露出させる酸化膜選択研磨工程と、前記露出したウェーハ表面を研磨する工程を有する。 - 特許庁

A pseudo wafer 70 is provided with a silicon wafer 72, a resin layer 74 with a circular cross section adhered on the silicon wafer 72 by an adhesive agent, and a plurality of semiconductor chips 76 buried in the resin layer 74 while exposing electrode planes on the surface of the resin layer 74 on the side opposed to the silicon wafer 72.例文帳に追加

本疑似ウエハ７０は、シリコン基板７２と、シリコン基板７２上に接着剤により接着されている断面円形の樹脂層７４と、シリコン基板７２と反対側の樹脂層７４の表面に電極面を露出して樹脂層７４に埋め込まれている複数個の半導体チップ７６とを備えている。 - 特許庁

To hardly give rise to contrast unevenness and color unevenness of images by compensating the nonuniformity of the light power distribution of a light beam spot in a horizontal scanning direction due to staining of reflective surfaces of rotary polygon mirrors of optical scanning arrangements used for exposing devices by the dependence of the reflectivity to the reflective surfaces on incident angles.例文帳に追加

露光装置に用いる光走査装置の回転多面鏡の反射面の汚れに起因する主走査方向の光ビームスポットの光パワー分布の不均一を反射面に対する反射率の入射角依存性で補償するようにして画像の濃淡むらや色むらが起き難いようにする。 - 特許庁

The magnetic tape cassette 10 is configured such that a guide roller 14 for guiding a magnetic tape 26 along a predetermined passage is supported on a cassette case 3 via the roller shaft 5, and a shaft end monitoring hole h1 for exposing at least one shaft end of the roller shaft 5 onto an external surface of the cassette case is provided in the cassette case 3.例文帳に追加

本発明の一例として、磁気テープ２６を所定の走行経路に沿って案内するガイドローラ１４がローラ軸５を介してカセットケース３に支承され、ローラ軸５の少なくとも一方の軸端をカセットケースの外面に露出させる軸端監視穴ｈ１をカセットケース３に設けた磁気テープカセット１０である。 - 特許庁

A semiconductor fabrication apparatus comprises an exposure unit 30, provided within a chamber 10 for exposing a design pattern on a resist film applied on a wafer 20; and a liquid recycle unit 40 for supplying a liquid 23 for use in immersion lithography that raises the numerical aperture of exposure light during exposure to the wafer 20, while recycling the liquid 23.例文帳に追加

半導体製造装置は、チャンバ１０内に設けられ、ウェハ２０上に塗布されたレジスト膜に設計パターンを露光する露光部３０と、露光時にウェハ２０の上に露光光の開口数値を上げる液浸リソグラフィ用の液体２３を再利用しながら供給する液体リサイクル部４０とから構成されている。 - 特許庁

The apparatus for exposing comprises a mean illuminance calculating means 205, having four illuminometers 130A, 130B, 130C and 130D which are provided on a stage 126 to average illuminances obtained from the respective illuminometers to obtain the mean illuminance, and an exposure amount control means 206 for controlling the exposure amount, based on information obtained from the means 205.例文帳に追加

ステージ１２６上に、４つの照度計１３０Ａ，１３０Ｂ，１３０Ｃ，１３０Ｄが設けられ、各照度計から得られた照度を平均して、平均照度を求めるための平均照度演算手段２０５と、この平均照度演算手段２０５から得られる情報に基づき露光量を制御する露光量制御手段２０６とを備える。 - 特許庁

An arranging position of a plurality of light exit parts in a fiber array part 31 is determined so as to cancel a positional deviation that is based on distortion of a lens in the device and is a positional deviation to a subscanning direction from a target position of the exposing position in a surface to be exposed by a laser beam emitted from the fiber array part 31.例文帳に追加

装置に含まれるレンズの歪曲収差による位置ずれであり、かつファイバーアレイ部３１から射出されたレーザビームによる被露光面での露光位置の目標とする位置からの副走査方向に対する位置ずれを相殺するようにファイバーアレイ部３１における複数の光射出部の配置位置を決定する。 - 特許庁

The manufacturing method for an element forming substrate includes a step for preparing a GaN substrate 120 which has an a-surface or m-surface as a principal surface, a step for masking the principal surface of the GaN substrate 120 with a mask 160, and a step for exposing the masked GaN substrate 120 to an etchant to form the crystallographic surface.例文帳に追加

素子形成用基板の製造方法は、ａ−面またはｍ−面を主面とするＧａＮ基板１２０を準備するステップと、ＧａＮ基板１２０の主面をマスク１６０によってマスキングするステップと、マスキングされたＧａＮ基板１２０をエッチング液に曝して、結晶学的な表面を形成するステップと、を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device includes an etching process stage of etching the low permittivity insulating film formed on a substrate, a CO_2 plasma process stage of exposing the substrate to the CO2 plasma after the etching process stage, and an ultraviolet process stage of irradiating the low permittivity insulating film with ultraviolet rays after the CO_2 plasma process stage.例文帳に追加

基板に形成された低誘電率絶縁膜をエッチングするエッチング処理工程と、当該エッチング処理工程の後に基板をＣＯ_2プラズマに晒すＣＯ_2プラズマ処理工程と、ＣＯ_2プラズマ処理工程の後に、低誘電率絶縁膜に紫外線を照射する紫外線処理工程とを有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a water quality-cleaning system by utilizing sunlight, performing the growth of algae, diatom, bacteria, etc., by photosynthesis, cleaning the water quality by decomposing sludge containing phosphorus, nitrogen, etc., and culturing fishes by illuminating places where the sunlight does not reach and also exposing with air by using a pump, in lakes, ports, dams, etc.例文帳に追加

湖沼、港湾、ダム等で太陽光が届かない部分に光を当てると共にポンプで爆気することにより、光合成による藻類、珪藻類、細菌等の育成、リン窒素等を含んだ汚泥を分解することによる水質浄化、及び魚類の養殖を行う太陽光を利用した水質浄化システム。 - 特許庁

The composite magnet structure has two or more magnet pieces each of which has a ridge line processing part subjected to ridge line processing along at least a partial side, and a resin frame which is placed along the ridge line processing part while exposing the main side surface of the magnet piece and thereby fixes the two or more magnet pieces while integrating.例文帳に追加

複合磁石構造体は、少なくとも一部の辺に沿って稜線加工処理されている稜線加工部を有する２以上の磁石片と、磁石片の主側面を露出させた状態で、稜線加工部に沿って配置されることにより２以上の前記磁石片を一体化して固定する樹脂枠と、を有する。 - 特許庁

An inspection method for a filter includes a humidification step for exposing a porous filter to the air including humidity and a detection step for introducing water particles to the inside of the filter made into a wet state through the humidification step, detecting the water particles that pass through the inside of filter to flow out, thereby detecting the defect of a filter.例文帳に追加

多孔質のフィルタを湿気を含む空気にさらす加湿工程と、加湿工程によって湿った状態にあるフィルタの内部に水粒子を導入してフィルタの内部を通過して流出した水粒子を検出してフィルタの欠陥を検知する検知工程とを有するフィルタの検査方法。 - 特許庁

A method of manufacturing a coil body forms an exposed portion 160a, in which a resin material 162 is removed and a core wire 161 is exposed on a part of a lead wire 160 by irradiating a laser beam to a terminal of the lead wire 160 constituted by plating the conductive core wire 161 with an insulating resin material 162 in an exposing process.例文帳に追加

露出工程において、導電性の芯線１６１が絶縁性の樹脂材料１６２で被覆されてなる導線１６０の端末にレーザー光を照射することにより、樹脂材料１６２を除去して導線１６０の一部に芯線１６１が露出する露出部１６０ａを形成する。 - 特許庁

The laminate is provided, at an appropriate part on the conductive member, with a window for exposing the conductive member and an annular member having a wiring part 7a comprising grooves or holes for passing lead wires is formed on the sheet member while surrounding the window 6 in order to take out the electrode part by filling it with adhesive.例文帳に追加

この積層体は、シート部材の導電部材上の適宜個所に導電部材を露出させる窓部を形成し、シート部材上に窓部６を囲むと共にリード線を通過させる溝部または孔部から成る配線部７ａを有したリング状部材を形成し、接着剤を充填させて電極部を取り出す。 - 特許庁

The pixel forming method includes steps of applying a coating film 2 of a negative photoresist on a substrate 1, exposing the film to light through a photomask and developing, wherein the photomask PM2 has a halftone portion 4 in a part on the photomask corresponding to a portion with a large film thickness in the film thickness distribution of a coating film specific to the coating device used.例文帳に追加

基板１上にネガ型フォトレジストの塗膜２を設け、フォトマスクを介した露光Ｌ、及び現像処理により画素を形成する画素形成方法において、フォトマスクＰＭ２が、用いた塗布装置に固有な塗膜の膜厚分布の内、膜厚の厚い部分に対応したフォトマスク上の部分にハーフートーン４部を有すること。 - 特許庁

The method for forming the graft pattern includes: bringing a radical-polymerizable unsaturated compound into contact with a surface of a base material capable of generating radicals by exposure; and exposing imagewise with laser light having a wavelength of 360-700 nm to form a graft polymer directly bonded to the base material patternwise on the surface of the base material.例文帳に追加

露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、３６０ｎｍ〜７００ｎｍの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of the buried channel-type transistor by using a P-type silicon carbide substrate comprises a process for forming a buried channel area and a source/drain area, a process for forming a gate insulating film, and a process for exposing the gate insulating film to the atmosphere of not less than 500°C, which includes steam.例文帳に追加

Ｐ型の炭化珪素基板を用いた埋め込みチャネル型トランジスタの製造方法において、埋めこみチャンネル領域、および、ソース・ドレイン領域を形成する工程と、その後、ゲート絶縁膜を形成する工程と、その後に該ゲート絶縁膜を、水蒸気を含んだ５００℃以上の雰囲気に晒す工程とを含む。 - 特許庁

To provide a paper case with a tilted display board suitable for a store front display and sale on which a tilted display board 10 with a protruded lower section is simply formed for appealing sales points to the eyes of customers and stimulating the purchasing desire of the customers by simply opening an upper section and exposing a content 50.例文帳に追加

簡単に下方が飛出した傾斜表示板１０を形成して、顧客の目線にセールスポイントなどを強くアピールすることができる、また簡単に上部を開放して内容物５０を露出させて、顧客の購買意欲を唆ることができる、店頭展示、販売用として好適な傾斜表示板付の紙箱を提供する。 - 特許庁

Slip coating, drying, exposing and developing steps are repeated to form a laminated molding 33, and sheet-like ceramic layer moldings 26c, 26e obtained by coating and drying a slip on a second support and peeling it off from the support are laminated on an exposed and developed ceramic layer molding 26.例文帳に追加

スリップの塗布、乾燥から露光、現像工程を順次繰り返して積層成形体３３を形成するとともに、露光、現像されたセラミック層成形体２６に、第２支持体にスリップを塗布、乾燥し、これを第２支持体から剥離して得られたシート状のセラミック層成形体２６ｃ、２６ｅを積層する。 - 特許庁

The facing member 4 is provided with the opening 4a for exposing pointers etc., of the instrument body and inside of the surface glass covering the opening 4a provided with the lusterless painted part 6 by painting, and a painting recognition mark part 7 is provided on the surface, arranged at a position that is not covered with the glass.例文帳に追加

計器本体の指針等を露出する表示用開口４ａを有し、この表示用開口４ａを覆う表ガラスの内側位置に配置される面に塗装によって艶消し塗装部６を設ける見返し部材４であって、表ガラスに覆われない位置に配置される面に塗装によって塗装識別マーク部７を設けた。 - 特許庁

A superconductor 10 comprises a conductive film 12 made of a superconducting material, a first protective film 13 located on the conductive film 12 in a discontinuous manner, and a second protective film 14 located on the first protective film 13, where the first protective film 13 has areas for exposing the conductive film 12 to the second protective film 14.例文帳に追加

超電導材料からなる導電膜１２と、導電膜１２の上に不連続に配する第一保護膜１３と、第一保護膜１３の上に配する第二保護膜１４を備えてなる超電導導体１０において、第一保護膜１３は、導電膜１２の露出部分を有するものとする。 - 特許庁

An optical system PL and first and second alignment optical systems AA1a, AA1b, AA2a, and AA2b are arranged so that the detection of the alignment information on the other substrate W2 (W1) can be performed in parallel when exposing a mask pattern on one substrate W1 (W2) out of substrates retained side by side on a substrate stage ST.例文帳に追加

基板ステージＳＴに並べて保持された一方の基板Ｗ１（Ｗ２）にマスクパターンを露光するときに、他方の基板Ｗ２（Ｗ１）のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系ＰＬと第１および第２のアライメント光学系ＡＡ１ａ，ＡＡ１ｂ、ＡＡ２ａ，ＡＡ２ｂを配置する。 - 特許庁

To provide a composition for a photospacer which is a one-component composition that easily obtains uniform film thickness and pigment concentration, has a long life, has a property of drying to the touch which can be exposed by an inexpensive contact type exposing machine and can be further cured at low temperature and to provide a photosensitive resin composition for a color filter and its forming method.例文帳に追加

均一な膜厚及び顔料濃度を得やすい一液性組成物であり、かつライフが長く、安価な接触型露光機で露光可能な指触乾燥性を有し、更に低温で硬化できるフォトスペーサー用組成物及びカラーフィルター用感光性樹脂組成物とその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light exposure device for a color cathode ray tube that enables to uniform a luminous intensity distribution in an inner face of a face panel, to improve a quality of panel by precision rising in light exposing using a masking plate having a taper portion of high precision, and to relieve the cost up.例文帳に追加

フェ−スパネル内面における照度分布を均一にでき、加工精度の良いテーパ部を具備したマスキングプレートにより、露光での精度ＵＰによるパネル品位の向上、露光での精度ＵＰによるパネル品位の向上、コストＵＰを軽減することのできるカラー陰極線管用露光装置を提供する。 - 特許庁

The method includes converting the contamination 13, e.g. copper containing contamination into a halide compound 18, e.g. copper halide compound and exposing the halide compound 18, e.g. copper halide compound to a photon atmosphere, thereby initiating formation of volatile halide products 17, e.g. volatile copper halide products.例文帳に追加

銅含有汚染物などの汚染物１３を、ハロゲン化銅化合物などのハロゲン化物化合物１８に変える工程と、ハロゲン化銅化合物などのハロゲン化物化合物１８を光子含有雰囲気に晒して、揮発性のハロゲン化銅生成物などの揮発性のハロゲン化物生成物１７の形成を始める工程とを含む。 - 特許庁

The conductor pattern is formed by forming a photosensitive conductive film by applying photosensitive conductive paste to the whole surface of the insulator layer having through holes for conductor pattern after the insulator layer is formed, and curing the portions of the conductive film corresponding to the through holes by exposing the conductive film to light and developing the film.例文帳に追加

導体パターンは、導体パターン形状の貫通孔が形成された絶縁体層を形成した後、絶縁体層の表面全体に感光性導電ペーストを塗布して感光性導電膜を形成し、感光性導電膜を露光して貫通孔に対応する部分を硬化させ、現像することにより形成される。 - 特許庁

In one embodiment, the method includes a step of providing the mutually interconnected structure, including at least one interconnect layer having a dielectric, at least one conductor, and a first cap layer; and causing the dielectric to contract to form the gas dielectric structure, by exposing the interconnection structure to radiation.例文帳に追加

一実施形態では、本方法は、誘電体と、少なくとも１つの導体と、第１のキャップ層とを有する少なくとも１つの相互接続層を含む相互接続構造を設けること、および相互接続構造を放射にさらすことによって、誘電体を収縮させて気体誘電体構造を形成することを含む。 - 特許庁

In this image forming device equipped with a transfer fixing device 3 and a preliminary heating means 4, release agent non-exposing type toner E constituted by dispersing a release agent in toner particles in a state where it is not exposed to the surfaces of the toner particles is used as toner constituting the toner image T formed by the image producing device 1.例文帳に追加

転写定着装置３と予備加熱手段４を備えた画像形成装置において、作像装置１で形成するトナー像Ｔを構成するトナーとして、離型剤をトナー粒子表面に露出させない状態でトナー粒子内部に分散させてなる離型剤非露出型トナーＥを使用する。 - 特許庁

Since a timing when a copper thin film layer Cu is exposed at a hole formation position is detected on the basis of the detected output from photo sensors 75 and 76, the supply of a UV laser beam UL for processing is stopped without damaging the layer Cu at the step of exposing the layer Cu on the bottom of the VIA hole.例文帳に追加

フォトセンサ７５、７６の検出出力に基づいてホール形成位置に銅薄膜層Ｃｕが露出するタイミングを検出するので、銅薄膜層ＣｕがＶＩＡホール底部に露出した段階で銅薄膜層Ｃｕにダメージを与えることなく加工用の紫外レーザ光ＵＬの供給を停止させることができる。 - 特許庁

To efficiently remove image-blurring material sticking on an image carrier, as for an image forming device for electrifying the image carrier by an electrifying roller, exposing the electrified image carrier and forming an electrostatic image, visualizing the latent image as a toner image by a developing device, and then, transferring the toner image on an intermediate transfer body.例文帳に追加

帯電ローラによって像担持体を帯電し、その帯電後の像担持体を露光して静電潜像を形成し、その潜像を現像装置によってトナー像として可視像化し、そのトナー像を中間転写体上に転写する画像形成装置において、像担持体に付着した画像流れ物質を効率よく除去する。 - 特許庁

In the thread in which the IC chip 10 at least capable of reading information in a non-contact state is mounted on a beltlike resin layer 20, a paper layer 50 formed with a hole 51 having thickness greater than that of the IC chip 10 and exposing the IC chip 10 is laminated on the resin sheet 21.例文帳に追加

帯状の樹脂層２０上に、非接触状態で少なくとも情報の読み出しが可能なＩＣチップ１０が搭載されてなるスレッドにおいて、樹脂シート２０上に、ＩＣチップ１０の厚さ以上の厚さを有し、かつ、ＩＣチップ１０が露出するような穴部５１が形成された紙層５０を積層する。 - 特許庁

After the reflection preventing film 4 containing a first organic material having high absorption factor at the wavelength of exposing light used for lithography and a second organic material having a large film density and high light stability is formed on a gate electrode film 3, the resist pattern 5a is formed on the reflection preventing film 4 by lithography.例文帳に追加

リソグラフィに用いる露光光の波長における吸収率が高い第一の有機材料と、膜密度が大きく且つ光安定性が高い第二の有機材料とを含む反射防止膜４をゲート電極膜３の上に形成し、リソグラフィにより前記反射防止膜４の上にレジストパターン５ａを形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a resist pattern forming step of forming a resist film from the resist composition on a surface to be processed, and exposing and developing the resist to form a resist pattern, and a patterning step of patterning the object surface by etching using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工表面上に前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device comprises steps for exposing a crystalline silicon film to an atmosphere containing N_2O, forming an oxide film 15 by conducting plasma treatment, forming a silicon film 16 on the oxide film, and heating the silicon film 16 to cause the transfer of impurities in the crystalline silicon film to the silicon film 16.例文帳に追加

結晶性シリコン膜をＮ_２Ｏを含む雰囲気中に曝し、プラズマ処理することによって酸化膜１５を形成し、前記酸化膜上にシリコン膜１６を形成して加熱処理を行うことにより、結晶性シリコン膜中の不純物をシリコン膜１６に移動させる工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Ozonized water is obtained from raw water (30a) by applying DC voltage between the electrodes (12, 14) of the cell (10) and contacting raw water (30a) with the anode (14) surface side and electrolytic washing water (40a) with the cathode (12) surface side exposing inside the body (11).例文帳に追加

このオゾン発生セル（１０）の両電極（１２，１４）との間に直流電圧を印加し、触媒陽極電極（１４）面側に原料水（３０ａ）を、筒体（１１）内に露出する触媒陰極電極（１２）面側に電解質の洗浄水（４０ａ）を接触させて、上記原料水（３０ａ）をオゾン水となす。 - 特許庁

An exposure system including a projection optical system 100 exposing a substrate 101 with electromagnetic radiation and focusing the electromagnetic radiation on the substrate and a liquid supply system supplying a liquid between the projection optical system 100 and the substrate 101 are provided and the projection optical system is positioned below the substrate.例文帳に追加

基板１０１を電磁放射で露光しかつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系１００を有する露光系と、投影光学系１００と基板１０１との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、投影光学系が基板の下方に位置決めされている。 - 特許庁

The exposure method includes a process that performs a predetermined treatment for adjusting a surface energy of the substrate to suppress the attachment of foreign matter to the surface of the substrate, and a process that irradiates an exposing light to the surface of the substrate where the surface energy is adjusted in the immersion exposure that exposes the substrate though the liquid.例文帳に追加

液体を介して基板を露光する液浸露光において、基板の表面に対する異物の付着を抑えるために、基板の表面エネルギーを調整する所定の処理を行う工程と、表面エネルギーが調整された基板の表面に露光光を照射する工程と、を含む露光方法を提供する。 - 特許庁

The substrate processing method includes enhancing liquid repellency of a surface of a substrate having a photosensitive film to a liquid by bringing the surface of the substrate into contact with plasma produced with a process gas; and exposing the substrate by irradiating, with exposure light, at least a portion of the surface of the substrate that is brought into contact with the plasma.例文帳に追加

基板処理方法は、感光膜を含む基板の表面をプロセスガスより生成されたプラズマと接触させて、基板の表面の液体に対する撥液性を高めることと、プラズマと接触した基板の表面の少なくとも一部に液体を介して露光光を照射して、基板を露光することと、を含む。 - 特許庁