「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目)

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Exposingを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 6240件

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例文

Thereafter, an insulation film 17 is formed on the barrier metal film 16a, and an opening part 17a for exposing a barrier etching part 16b and a contact hole 17b for exposing a contact part are formed on the insulation film 17.例文帳に追加

その後、バリアメタル膜１６ａ上に絶縁膜１７を形成し、絶縁膜１７にバリアメタルエッチング部１６ｂを露出させる開口部１７ａと、コンタクト部を露出させるコンタクトホール１７ｂを形成する。 - 特許庁

Thus, the picture quality of a recorded image of the exposing device equipped with the array refracting element which has high precision and is low-priced can be improved and the exposing device can be provided at low cost.例文帳に追加

このように、高精度で安価なアレイ屈折素子を備えることで露光装置の記録画像の画質を向上させることができると共に、露光装置を低コストで提供することができる。 - 特許庁

In addition, when dot images continuous in a main scan direction are exposed to light, the exposure energy is reduced by making the exposure time spent for exposing the continuous dot images to light shorter than the exposure time spent for exposing the isolated 1 dot image to light.例文帳に追加

また、主走査線方向に連続するドット画像を露光する場合は、孤立１ドット画像を露光するときの露光時間よりも露光時間を短くして露光エネルギーを低減させる。 - 特許庁

To provide an electron gun in which energy dispersions of electron beam are small and in which the homogeneity of lighting is superior, and provide an exposing device and exposing method to use it wherein the resolution is enhanced and the exposure unevenness is smaller.例文帳に追加

電子ビームのエネルギー分散が小さく、かつ、照明の均一性が優れた電子銃と、それを用いた解像度が高く、また、露光むらのすくない露光装置と露光方法を提供すること。 - 特許庁

例文

The direction of blanking is controlled in the charged particle exposure apparatus for exposing a substrate through the use of a blanking means which repeats shielding and exposing charged particle beams to the substrate to be exposed.例文帳に追加

露光される基板に対して荷電粒子線の遮蔽と露光を繰り返すブランキング手段を用いて前記基板を露光する荷電粒子線露光装置において、ブランキングの方向を調整する。 - 特許庁

例文

Meanwhile, lamination multiple recording is performed under different exposing conditions (integration exposing quantity is varied for each shift multilayer) for between respective layers of first shift multilayer 102_1 to fifth shift multilayer 102_5.例文帳に追加

一方、第１シフト多重層１０２_１〜第５シフト多重層１０２_５の各層間については、異なる露光条件（シフト多重層毎に積算露光量が異なる）で積層多重記録を行う。 - 特許庁

To provide an aberration measuring device and method, capable of measuring accurately in a simple composition an aberration which occurs on the lens axis of a projection optical system, and to provide an exposing device with finer exposing accuracy.例文帳に追加

投影光学系の光軸方向に生じる収差を簡単な構成で精度よく計測可能な収差計測装置及び計測方法、及び露光精度の向上された露光装置を提供する。 - 特許庁

A conductor exposing area 21 is arranged on a grounding cable 2 extending from a computer main body, and the conductor exposing area 21 is brought into in contact with, and is made conductive to, a metal lamp reflector (a reflection body) 32.例文帳に追加

コンピュータ本体から延びる接地ケーブル２に導体露出個所２１を設け、この導体露出個所２１が、金属製のランプ・リフレクタ（反射体）３２に接触して導通するようにする。 - 特許庁

To control an exposing head through adjustment to draw a pattern with higher accuracy on a recording surface in scanning and exposing with a multi-beam emitted from a means for selectively turning ON/OFF a plurality of pixels.例文帳に追加

複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から出射されたマルチビームで走査露光する際に、記録面上に高精度で描画をするように露光ヘッドを調整して制御可能とする。 - 特許庁

例文

To provide a focus adjustment method capable of efficiently and exactly performing focus adjustment of an exposing device and an image forming apparatus performing the focus adjustment of the exposing device by the method.例文帳に追加

露光装置の焦点調整を効率良く且つ正確に行うことのできる焦点調整方法及び該方法により露光装置の焦点調整を行う画像形成装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a color image forming device for superposably forming a toner image on an image forming body by arranging plural sets of image exposing means on the image forming body for detecting an inclination between mutual image exposing means.例文帳に追加

像形成体上に複数組の像露光手段を配置して像形成体上にトナー像を重ね合わせて形成するカラー画像形成装置で、像露光手段の相互間の傾きの検知を行う。 - 特許庁

When the evaluated value of the exposing condition is judged not to exist within the specified range in the step 109, a post exposure is performed according to a different exposing condition from that of the pre-exposure in steps 111 to 113.例文帳に追加

ステップ１０９において露光条件評価値が所定範囲内にないと判定したとき、ステップ１１１〜１１３において、プリ露光とは異なる露光条件に従って本露光を行なう。 - 特許庁

The interval of the resist patterns for measurement is measured, and the focus position at the time of exposing of the projection-exposing device is detected from the relative relation of the preliminarily calculated focus position and the interval of the resist patterns for measurement.例文帳に追加

測定用レジストパターンの間隔を測定し、予め求めたフォーカス位置と測定用レジストパターンの間隔との相関関係から、投影露光装置の露光時のフォーカス位置を検出する。 - 特許庁

To provide a method for exposing a master optical disk and an exposing device capable of controlling the position of a beam for exposure on a substrate disk with the high accuracy applicable for the master optical disk having a narrow track pitch.例文帳に追加

狭トラックピッチの光ディスク原盤に適用可能な高精度をもって、基板ディスク上の露光用ビームの位置を制御可能な光ディスク原盤露光方法、および露光装置を提供する。 - 特許庁

Coating, exposing, and developing conditions are varied and the treatment result under changed treatment conditions is tested with a line- width measuring apparatus, and a depending relation of the coating, exposing, and development is sought and the result is kept.例文帳に追加

塗布・露光・現像条件を振り、それぞれの処理条件が変化した際の処理結果を線幅測定器により検定し、塗布・露光・現像処理の依存関係を求め、その結果を保持する。 - 特許庁

To provide an auxiliary exposing device capable of exposing while keeping the quantity of light from linearly arrayed LED light emitting elements uniform on a recording medium to such as degree as not to cause the deterioration of picture.例文帳に追加

線状に配列されたＬＥＤ発光素子の光を記録媒体上において画像品質の低下を招かない程度に均一な光量で露光が可能な補助露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposing method and an exposing device applied for the formation of a fluorescent surface of a flat panel display, and a fluorescent surface forming method capable of forming a fluorescent surface of the flat panel display with high precision.例文帳に追加

フラットパネルディスプレイの蛍光面形成に適用される露光方法及び露光装置、並びにフラットパネルディスプレイの高精細な蛍光面を形成できる蛍光面形成方法を提供する。 - 特許庁

Since the exposing light entering from the surface of the substrate is diffuse reflected on the rear surface of the substrate, reflectance of the exposing light is lowered on the rear surface of the substrate and the intensity of reflected light is reduced.例文帳に追加

これにより、基板表面から入射した露光光が基板裏面で乱反射されるので、基板裏面における露光光の反射率が低下して反射光の強度が減少する。 - 特許庁

In such a case, when PL/BD is expressed by x and exposing power in the case of PL/BD=0.5 being 1 is expressed by y, the exposing power to a pit length is decided by y=0.878*x-1.74±0.05.例文帳に追加

その場合、ｘをＰＬ/ＢＤ、ｙをＰＬ/ＢＤ＝０．５の時を１とした時の露光パワー、とした場合、ｙ＝０．８７８*ｘ^-1.74±０．０５によってピット長に対する露光パワーを決定する。 - 特許庁

To propose a charged particle beam exposing system and an inspection method by which the degree of contamination on a mask for exposure in the charged particle beam exposing system using an electron beam, etc., can be inspected uniformly and accurately.例文帳に追加

電子線等の荷電粒子ビーム露光装置における露光用マスク露光用マスクの汚染度を、画一的でより精度の高く検査できる荷電粒子ビーム露光装置、および検査方法を提案する。 - 特許庁

To provide an exposure method for a dummy chip which substantially shortens a processing time needed for exposing an unnecessary chip to light, and makes unnecessary the development of electron beam exposure data or a reticle for exposing the unnecessary chip to light.例文帳に追加

ダミーチップ露光方法に関し、不要チップへの露光に要する処理時間を大幅に短縮するとともに、不要チップ露光のための電子ビーム露光データ或いはレチクルの開発を不要にする。 - 特許庁

The electron beam exposing stencil mask manufacturing method is for manufacturing the electron beam exposing stencil mask composed of a membrane having a stencil pattern and a grid-like silicon strut part for supporting the membrane.例文帳に追加

本発明に係る電子線露光用ステンシルマスクの作製方法は、ステンシルパタンを有するメンブレンとそれを支持する格子状のシリコン支柱部からなる電子線露光用ステンシルマスクを作製する方法である。 - 特許庁

The flat cable 11 has a connection end part 23 composed of a conductor exposing part 24 exposing a plurality of conductors 21 from which insulation cover is removed so as to be electrically connected to a plurality of terminals 3.例文帳に追加

フラットケーブル１１は、複数の端子３と電気的に接続可能に絶縁被覆２２が除去されて複数の導体２１が露出した導体露出部２４が設けられた接続用端部２３を有する。 - 特許庁

The transmission lines for electric power, signal, etc., necessary for the exposing part 2 and ultraviolet ray irradiation part 3 are led in from the outside to the electrical part 4, and distributed to the exposing part 2 and ultraviolet irradiation part 3.例文帳に追加

露光部２および紫外線照射部３に必要な電力、信号等の各伝送路は、外部から電装部４に引き込まれた後、露光部２および紫外線照射部３に分配される。 - 特許庁

Based on the print positional information thus read out, arranging positions of the exposing elements located at the most end part of the exposing element chips arranged linearly are connected by a line to generate an imaginary line R.例文帳に追加

このようにして読み出された印字位置情報に基づいて、直線状に配設された露光素子チップの最端部に位置する露光素子の配設位置間を直線で結び、仮想直線Ｒを生成する。 - 特許庁

The first to fourth exposing electrode parts 31A-34A are disposed on one end surface 11B of the capsule outer shell 11 in a manner to make contact with the first to fourth outside exposing electrode parts 61A-64A respectively.例文帳に追加

カプセル外殻１１の一端面１１Ｂに第１〜第４の露出電極部３１Ａ〜３４Ａを、第１〜第４の外部露出電極部６１Ａ〜６４Ａそれぞれに接触できるように配置する。 - 特許庁

In the exposing method employing a charged particle beam as exposing light, an electromagnetic equation of motion is solved based on the potential distribution on the exposure surface immediately before a next exposing position is exposed in order to determine the orbital shift of the charged particle beam caused by charging on the exposure surface, and deflection angle of the charged particle beam is corrected before starting exposure at the next exposing position.例文帳に追加

露光光として荷電粒子線を用いる露光方法であって、次の露光位置に対して露光を行う直前における露光表面の表面電位分布に基づいて電磁気学的運動方程式を解くことにより、この露光表面の帯電に起因する荷電粒子線の軌跡ずれを求め、この軌跡ずれに基づいて荷電粒子線の偏向角度を補正して次の露光位置に対する露光を行う。 - 特許庁

A thermal buffer part is provided in the vicinity of the first molding surface without exposing from the first molding surface.例文帳に追加